公开(公告)号：KR102243842B1

公开(公告)日：2021-04-22

申请号：KR1020180034888

申请日：2018-03-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마다다쿠미 ,  도조유키오

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 본발명은, 클리닝에의하여부생성물로서생성된규불화암모늄을효율적으로제거하는세정부생성물의부착억제방법및 이를이용한반응실내의클리닝방법, 그리고실온성막장치를제공하는것을목적으로한다. 가열수단을갖지않는실온성막장치의반응실내의클리닝시에부생성물로서생성된규불화암모늄을제거하는세정부생성물의제거방법이며, 클리닝후의상기반응실내의압력을소정압력까지승압하는공정과, 해당소정압력에서상기규불화암모늄이승화하는온도이상의소정온도로가열한질소가스를상기반응실내에공급하여상기반응실내를소정시간퍼지하는공정과, 상기반응실내를배기하는공정을갖는다.

公开(公告)号：KR101344297B1

公开(公告)日：2013-12-23

申请号：KR1020110009311

申请日：2011-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오카다미츠히로 ,  도조유키오

IPC: H01L21/314

CPC classification number: H01L21/02115 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/26 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/022 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/02304 ,  H01L21/02362 ,  H01L21/0332

Abstract: 어모퍼스카본막을포함하는적층구조를하지층상에형성하는방법은, 상기하지층상에유기계실리콘가스를공급하고, 상기하지층의표면에 Si-C 결합을포함하는초기층을형성하는공정과, 상기초기층이표면에형성된상기하지층상에탄화수소화합물가스를포함하는성막가스를공급하고, 상기하지층상에상기어모퍼스카본막을열성막(熱成膜)으로형성하는공정을구비한다.

公开(公告)号：KR1020130110014A

公开(公告)日：2013-10-08

申请号：KR1020130020286

申请日：2013-02-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다케나가유이치 ,  도조유키오

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/66 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L22/12 ,  C23C16/24 ,  C23C16/52 ,  H01L21/02104 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02576 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L22/26 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: PURPOSE: A continuous processing system, a continuous processing method, and a computer readable recording medium with a program independently heat heaters to desired temperatures by supplying power through independent power controllers. CONSTITUTION: A heater unit (10) heats inside a processing chamber accommodating multiple objects (W). The heater unit is composed of heaters (11-15) disposed in five stages. Process gas supply pipes (21-23) supply process gas within the processing chamber. Flow rate adjustment units (24-26) adjust the flow rate of process gas flowing through the process gas supply pipes. A control unit (50) outputs a control signal to the flow rate adjustment unit, a pressure adjustment unit (5), power controllers (16-20) of the heaters. [Reference numerals] (50) Control unit

Abstract translation: 目的：连续处理系统，连续处理方法以及具有程序的计算机可读记录介质，通过独立的功率控制器供电来独立地将加热器加热到期望的温度。 构成：加热器单元（10）在容纳多个物体（W）的处理室内加热。 加热器单元由五级设置的加热器（11-15）组成。 工艺气体供应管（21-23）在处理室内提供工艺气体。 流量调节单元（24-26）调节流经工艺气体供给管道的工艺气体流量。 控制单元（50）向流量调节单元输出控制信号，压力调节单元（5），加热器的功率控制器（16-20）。 （附图标记）（50）控制单元

公开(公告)号：KR100825135B1

公开(公告)日：2008-04-24

申请号：KR1020037015945

申请日：2002-02-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시무라가즈아키 ,  도조유키오 ,  스폴필립 ,  다고겐지

IPC: H01L21/20

CPC classification number: C23C16/4405

Abstract: 열처리장치의 세정처리는, 반응실내를 300℃로 가열하는 가열공정과, 열처리장치의 내부에 부착한 질화규소를 제거하는 세정공정을 구비하고 있다. 세정공정에서는, 300℃로 가열된 반응관내에, 불소가스와 염소가스와 질소가스를 포함하는 클리닝가스를 공급하여, 질화규소를 제거하고 열처리장치의 내부를 세정한다.