公开(公告)号：KR101019445B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 액 처리 장치는 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸며, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 적어도 기판의 표면에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵으로부터 외부로 배기 및 배액하는 배기·배액부와, 표면이 기판 표면과 대략 연속하도록 기판의 외측에 설치되고, 기판 유지부 및 회전 컵과 함께 회전하며, 기판 표면에 공급되어 기판으로부터 털어진 처리액을 그 표면을 통해 회전 컵으로부터 배기·배액부에 안내하는 안내 부재를 구비한다.

公开(公告)号：KR101019444B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 본 발명의 액 처리 장치는, 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸고, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵의 배기 및 배액을 행하는 배기·배액부를 포함한다. 배기·배액부는 주로 기판으로부터 털어진 처리액을 받아들여 배액하는 환형을 이루는 배액 컵과, 배액 컵의 외측을 둘러싸도록 설치되며, 회전 컵 및 그 주위로부터의 주로 기체 성분을 받아들여 배기하는 배기 컵을 포함하며, 배액 컵으로부터의 배액과 배기 컵으로부터의 배기를 독립적으로 실행한다.

Abstract translation: 本发明的液体处理装置中，水平地保持基板，并旋转基板支架成为可能，通过所述衬底保持器，可旋转的旋转杯保持的基板周围，并与所述基板与所述基板部保持旋转杯以及基板一起一起 用于将处理液供应到基板的液体供应机构以及用于执行旋转杯的排出和排出的排出和分配部。 排气＆middot;排水单元和排水杯主要形成环形排水从衬底接受处理液二进制断，它被设置成围绕排液杯的外侧，旋转杯以及从周围排气排气接受一个主要气体组分 杯子与排水杯和排气杯分开分配。

公开(公告)号：KR1020110013239A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：KR1020100070029

申请日：2010-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/14

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/67017

Abstract: PURPOSE: A liquid processing device, a liquid processing method, and a program recording medium are provided to uniformize process degrees between wafers by processing different wafers with the same density mixed solution. CONSTITUTION: A liquid supply device(40) includes a mixer, a first liquid supply pipe, and a second liquid source. A liquid supply device supplies the mixture of the first liquid and the second liquid mixed by the mixer to one side of a main pipe. A main switch valve(22) is installed on the main pipe and closes the main pipe in the opposite side to the liquid supply device. A plurality of branch pipes are branched from the main pipe between the liquid supply device and the main switch valve. A plurality of process units(50) are installed to correspond to each branch pipe.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和程序记录介质，以通过用相同的密度混合溶液处理不同的晶片来均匀化晶片之间的工艺程度。 构成：液体供应装置（40）包括混合器，第一液体供应管和第二液体源。 液体供给装置将由混合器混合的第一液体和第二液体的混合物供给到主管的一侧。 主开关阀（22）安装在主管上，并将主管与液体供给装置相反的一侧封闭。 多个分支管从液体供给装置和主切换阀之间的主管分支。 安装多个处理单元（50）以对应于每个分支管。

公开(公告)号：KR100850698B1

公开(公告)日：2008-08-06

申请号：KR1020077015366

申请日：2006-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/6708

Abstract: 본 발명의 기판 세정 장치(40)는 세정조(70)와, 세정조(70) 내에 자유자재로 회전 가능하도록 설치되어 피처리 기판(W)을 유지하는 유지대(51)와, 유지대(51)를 회전시키는 회전 구동부(52)를 포함하고 있다. 유지대(51)의 주외측에는, 상기 유지대(51)에 유지된 피처리 기판(W)D의 주연부를 따라 약액을 저류하여 이 피처리 기판(W)의 주연부를 약액에 침지하기 위한 약액 저류부(53)가 설치되어 있다. 약액 저류부(53)에는, 상기 약액 저류부(53)에 약액을 공급하는 약액 공급부(54)가 접속되어 있다. 또한, 유지대(51)에 유지된 피처리 기판(W)의 주연부를 쓸어내는 브러시(55d)가 설치되어 있다.