公开(公告)号：KR1020070091001A

公开(公告)日：2007-09-06

申请号：KR1020077015366

申请日：2006-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/6708

Abstract: Substrate cleaning apparatus (40) including cleaning vessel (70), holding table (51) rotatably disposed within the cleaning vessel (70) and adapted to retain treatment object substrate (W), and rotary drive member (52) for rotating of the holding table (51). Chemical liquid storage member (53) for retention of a chemical liquid along the periphery of the treatment object substrate (W) held by the holding table (51) and for immersion of the periphery of the treatment object substrate (W) in the chemical liquid is disposed lateral to the circumference of the holding table (51). Chemical liquid supply member (54) for supply of the chemical liquid to the chemical liquid storage member (53) is connected to the chemical liquid storage member (53). Further, there is provided brush (55d) for polishing the periphery of the treatment object substrate (W) held by the holding table (51).

Abstract translation: 包括清洁容器（70）的清洁装置（40），可旋转地设置在清洁容器（70）内并适于保持处理对象基板（W）的保持台（51）和旋转驱动构件（52） 表（51）。 用于沿着由保持台（51）保持的处理对象基板（W）的周边保持化学液体并将处理对象基板（W）的周边浸渍在化学液体中的化学液体存储部件（53） 被设置在保持台（51）的圆周的横向。 用于向药液存储部件（53）供给化学液体的化学液体供给部件（54）与药液容纳部件（53）连接。 此外，设置有用于研磨由保持台（51）保持的处理对象基板（W）的周边的刷（55d）。

公开(公告)号：KR101470673B1

公开(公告)日：2014-12-08

申请号：KR1020100070029

申请日：2010-07-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사

IPC: H01L21/302 ,  B08B3/14

CPC classification number: B08B3/08 ,  H01L21/67017

Abstract: 본발명은액 사용량을저감할수 있고, 피처리체간의처리정도의차이를억제할수 있는액처리장치를제공하는것을과제로한다. 액처리장치(10)는주배관(20)과, 주배관에접속된액공급기구(40)와, 주배관에설치된주개폐밸브(22)와, 주배관으로부터분기된복수의분기관(25)과, 각분기관과접속된복수의처리유닛(50)을갖는다. 액공급기구는주배관상에설치된혼합기(43)와, 제1 액을공급하는제1 액공급관(41b)과, 제2 액을공급하는제2 액원(42a)을포함하며, 제1 액과제2 액을혼합기내에서혼합하여이루어진혼합액을주배관에일측으로부터공급한다. 주개폐밸브는처리유닛내에서피처리체가처리되고있을때, 주배관을액공급기구에대하여타측으로부터폐쇄한다.

公开(公告)号：KR101061913B1

公开(公告)日：2011-09-02

申请号：KR1020070074479

申请日：2007-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  가네코사토시 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: 액 처리 시스템은 기판(W)에 처리액을 공급하여 액 처리를 행하는 복수의 액 처리 유닛(22)이 수평으로 배치된 액 처리부(21b)와, 액 처리부의 복수의 액 처리 유닛으로 공급하는 처리액을 저장하는 처리액 저장부(21h)와, 처리액 저장부로부터 복수의 액 처리 유닛으로 처리액을 유도하는 공급 배관을 갖는 배관 유닛(21f)과, 액 처리부, 처리액 저장부 및 배관 유닛을 수용하는 공통의 케이스(21)를 구비한다. 처리액 저장부, 배관 유닛 및 액 처리부는 아래쪽에서부터 이러한 순서로 배치되며, 배관 유닛의 공급 배관은 복수의 액 처리 유닛의 배열 방향을 따라 수평으로 연장되는 수평 배관부(70a)를 가지며, 수평 배관부로부터 액 처리 유닛으로 처리액이 각각 도입된다.

Abstract translation: 液体处理系统包括：液体处理单元21b，其中水平布置有用于向基板W供给处理液并进行液体处理的多个液体处理单元22; 用于储存液体的处理液储存部分21h，具有用于将处理液从处理液储存部分引导至多个液体处理单元的供应管道的管道单元21f， 还有一个普通的情况（21）用于容纳它。 处理液储存部，配管单元，并且液体处理部从在该顺序的底部设置，配管单元的供给管具有沿着所述多个液体处理单元的排列方向，水平管道水平延伸的水平配管部（70a）上 处理液体被引入到液体处理单元中。

公开(公告)号：KR1020080010325A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：KR1020070074479

申请日：2007-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  가네코사토시 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67173

Abstract: A liquid treatment system is provided to save a space through miniaturization and perform a uniform treatment by suppressing the unevenness of a pipe. A liquid treatment system includes a liquid treating part(21b), a treatment liquid storing part(21h), and a pipe unit(21f). The liquid treating unit includes a plurality of liquid treating units(22) for treating liquid by supplying the liquid to a substrate. The treatment liquid storing part stores the treatment liquid supplied to the plurality of liquid treating units of the liquid treating part. The pipe unit is provided with a supply pipe for introducing the treatment liquid to the plurality of liquid treating units from the treatment liquid storing part. The treatment liquid storing part, the pipe unit, and the liquid treating part are laminated in a common case sequentially from the bottom. The supply pipe of the pipe unit is provided with a horizontal pipe portion extending horizontally in the arrangement direction of the plurality of liquid treating units. The treatment liquid is introduced into the liquid treating units from the horizontal pipe portion.

Abstract translation: 提供液体处理系统以通过小型化来节省空间，并通过抑制管的不均匀性来进行均匀的处理。 液体处理系统包括液体处理部（21b），处理液储存部（21h）和管单元（21f）。 液体处理单元包括多个用于通过将液体供应到基底来处理液体的液体处理单元（22）。 处理液储存部存储供给到液体处理部的多个液体处理单元的处理液。 管单元设置有用于将处理液从处理液储存部引入到多个液体处理单元的供给管。 处理液储存部，管单元和液处理部从底部依次层叠成共同的壳体。 管单元的供给管设置有沿多个液体处理单元的排列方向水平延伸的水平管部。 处理液从水平管部引入液体处理单元。

公开(公告)号：KR100945759B1

公开(公告)日：2010-03-08

申请号：KR1020087001371

申请日：2007-04-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사

IPC: H01L21/304 ,  B05C11/10 ,  B05B15/02

CPC classification number: H01L21/67028 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6708

Abstract: 피처리 기판(W)의 상방에 배치된 처리용 노즐(50a)로부터 처리액을 공급하여 피처리 기판을 처리하는 장치로서, 처리용 노즐로부터의 의도하지 않은 액 떨어짐을 방지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치(20)는 피처리 기판에 처리액을 공급하는 처리용 노즐(50a)과, 처리용 노즐을 지지하는 아암(54)과, 처리용 노즐에 기체를 분무하는 액적 제거 노즐(60, 62)을 구비한다. 아암은 처리용 노즐이 피처리 기판의 상방에 배치되는 처리 위치와, 처리용 노즐이 피처리 기판의 외방에 배치되는 대기 위치 사이를 이동 가능하다. 액적 제거 노즐은 아암이 대기 위치에 있는 경우에 있어서의 처리용 노즐 근방에 배치된다.

公开(公告)号：KR1020070103314A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: An apparatus for treating liquid is provided to prevent a mist of treatment liquid from scattering by using a rotating cup to rotate with a substrate. An apparatus for treating liquid includes a substrate holding unit(1), a rotating cup(3), a rotating device, a liquid feed device, an exhausting unit(8), and a guiding member. The substrate holding unit(1) holds horizontally a substrate and rotates with the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and rotates with the substrate. The rotating device rotates the rotating cup(3) and the substrate holding unit(1) entirely. The liquid feed device supplies treatment liquid to a surface of the substrate. The exhausting unit(8) discharges gas and liquid from the rotating cub(3) to the outside. The guiding member is mounted outside the substrate. The guiding member rotates the substrate holding unit(1) and the rotating cup(3) together. The guiding member guides the treatment liquid to the exhausting unit(8).

Abstract translation: 提供了一种用于处理液体的设备，以通过使用旋转杯与基底一起旋转来防止处理液体的雾飞散。 一种用于处理液体的设备包括：基板保持单元（1），旋转杯（3），旋转装置，液体供给装置，排气单元（8）和引导构件。 基板保持单元（1）水平地保持基板并与基板一起旋转。 旋转杯（3）封闭衬底并与衬底一起旋转。 旋转装置使旋转杯（3）和基板保持单元（1）完全旋转。 液体供给装置将处理液供给到基板的表面。 排气单元（8）将气体和液体从旋转小室（3）排出到外部。 引导构件安装在基板的外部。 引导构件将基板保持单元（1）和旋转杯（3）一起旋转。 引导构件将处理液引导到排气单元（8）。

公开(公告)号：KR1020070103310A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: A liquid treatment device is provided to suppress the bounding of mists in a processing liquid by using a rotating cup to rotate together with a substrate. A liquid treatment device includes a substrate holding portion(1), a rotating cup(3), a rotating tool, a liquid supply tool, and an exhaust and drain portion(6). The substrate holding portion(1) holds a substrate in a horizontal direction and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating tool integrally rotates the rotating cup(3) and the substrate holding portion(1). The exhaust and drain portion(6) performs an exhaust and a drain of the rotating cup. The exhaust and drain portion(6) includes a drain cup for receiving a processing solution from the substrate and an exhaust cup for receiving and exhausting gas components.

Abstract translation: 提供一种液体处理装置，通过使用旋转杯与基底一起旋转来抑制加工液体中的雾的界限。 液体处理装置包括基板保持部分（1），旋转杯（3），旋转工具，液体供应工具以及排出和排出部分（6）。 基板保持部（1）在水平方向上保持基板，并且根据基板的旋转而旋转。 旋转杯（3）包围基底并且根据基底的旋转而旋转。 旋转工具一体地旋转旋转杯（3）和基板保持部（1）。 排气和排出部分（6）执行旋转杯的排气和排水。 排气和排出部分（6）包括用于从基板接收处理溶液的排水杯和用于接收和排出气体组分的排气杯。

公开(公告)号：KR1020110097607A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：KR1020100133375

申请日：2010-12-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  에시마가즈요시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B05C11/1013

Abstract: 본 발명은, 복수의 액체를 혼합하여 이루어진 혼합액을 이용하는 액처리 장치에서의 혼합액의 농도에 관해, 큰 비용을 들이지 않고, 보다 광범위한 조정을 실현하는 것을 그 과제로 한다.
본 발명에 따른 액처리 장치(10)는, 주배관(20)과, 주배관에 접속된 액공급 기구(40)와, 주배관으로부터 분기되는 복수의 분기관(25)과, 각 분기관에 접속된 복수의 처리 유닛(50)을 갖는다. 액공급 기구(40)는, 주배관 상에 마련된 혼합기(43)와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관(41b)과, 제2 액원으로부터의 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관(42b)을 갖는다. 제2 액공급관(42b)에 유량 조정 밸브(42d)가 설치되어 있고, 또한 상기 유량 조정 밸브(42d)에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구(42e)가 설치되어 있다. 혼합액의 혼합비 조정을 위해, 유량 조정 밸브(42d)와 보조 유량 조정 기구(42e)가 연동하여 제어된다.
본 발명에 따른 또 다른 액처리 장치(10')는, 주배관(20')과, 주배관에 접속된 액공급 기구(40')와, 주배관으로부터 분기되는 복수의 분기관(25')과, 각 분기관에 접속된 복수의 처리 유닛(50')을 갖는다. 액공급 기구(40')는, 주배관 상에 마련된 혼합기(43')와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관(41b')과, 레귤레이터(42t')에 의해 제어된 가압력에 따라서 제2 액탱크로부터 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관(42b')을 갖는다. 제2 액공급관(42b')에, 유량 조정 밸브(42d')가 설치되어 있다. 혼합액의 혼합비 조정을 위해, 유량 조정 밸브(42d')와 레귤레이터(42t')가 연동하여 제어된다.

公开(公告)号：KR1020080020693A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：KR1020087001371

申请日：2007-04-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사

IPC: H01L21/304 ,  B05C11/10 ,  B05B15/02

CPC classification number: H01L21/67028 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/304 ,  B05C11/10

Abstract: A substrate processing apparatus is provided for processing a substrate (W) to be processed by supplying a process liquid from a process nozzle (50a) arranged above the substrate. The substrate processing apparatus can eliminate unintended liquid drops from the process nozzle. The substrate processing apparatus (20) is provided with the process nozzle (50a) for supplying the substrate with the process liquid; an arm (54) for supporting the process nozzle; and liquid drop removing nozzles (60, 62) for blowing gas to the process nozzle. An arm can move between a process position where the process nozzle is arranged above the substrate, and a standby position where the process nozzle is arranged outside the substrate. The drop removing nozzle is arranged in the vicinity of the process nozzle when the arm is at the standby position. ® KIPO & WIPO 2008

Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，用于通过从布置在基板上方的处理喷嘴（50a）提供处理液来处理待处理的基板（W）。 基板处理装置可以消除来自处理喷嘴的意外液滴。 基板处理装置（20）具有用于向基板供给处理液的工艺喷嘴（50a） 用于支撑工艺喷嘴的臂（54）; 以及用于向处理喷嘴吹送气体的液滴去除喷嘴（60,62）。 臂可以在处理喷嘴布置在基板上方的处理位置和处理喷嘴布置在基板外部的待机位置之间移动。 当臂处于待机位置时，脱墨喷嘴布置在处理喷嘴附近。 ®KIPO＆WIPO 2008

公开(公告)号：KR101705375B1

公开(公告)日：2017-02-09

申请号：KR1020100133375

申请日：2010-12-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  에시마가즈요시

IPC: H01L21/302

Abstract: 본발명은, 복수의액체를혼합하여이루어진혼합액을이용하는액처리장치에서의혼합액의농도에관해, 큰비용을들이지않고, 보다광범위한조정을실현하는것을그 과제로한다. 본발명에따른액처리장치(10)는, 주배관(20)과, 주배관에접속된액공급기구(40)와, 주배관으로부터분기되는복수의분기관(25)과, 각분기관에접속된복수의처리유닛(50)을갖는다. 액공급기구(40)는, 주배관상에마련된혼합기(43)와, 제1 액원으로부터의제1 액을상기혼합기에공급하는제1 액공급관(41b)과, 제2 액원으로부터의제2 액을상기혼합기에공급하는제2 액공급관(42b)을갖는다. 제2 액공급관(42b)에유량조정밸브(42d)가설치되어있고, 또한상기유량조정밸브(42d)에대하여직렬적으로보조유량조정기구(42e)가설치되어있다. 혼합액의혼합비조정을위해, 유량조정밸브(42d)와보조유량조정기구(42e)가연동하여제어된다. 본발명에따른또 다른액처리장치(10')는, 주배관(20')과, 주배관에접속된액공급기구(40')와, 주배관으로부터분기되는복수의분기관(25')과, 각분기관에접속된복수의처리유닛(50')을갖는다. 액공급기구(40')는, 주배관상에마련된혼합기(43')와, 제1 액원으로부터의제1 액을상기혼합기에공급하는제1 액공급관(41b')과, 레귤레이터(42t')에의해제어된가압력에따라서제2 액탱크로부터제2 액을상기혼합기에공급하는제2 액공급관(42b')을갖는다. 제2 액공급관(42b')에, 유량조정밸브(42d')가설치되어있다. 혼합액의혼합비조정을위해, 유량조정밸브(42d')와레귤레이터(42t')가연동하여제어된다.