公开(公告)号：KR1020170000348A

公开(公告)日：2017-01-02

申请号：KR1020160077389

申请日：2016-06-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/306

CPC classification number: B05D1/005 ,  H01L21/6715

Abstract: 웨이퍼유지부에의해유지된기판에흠집이나거나불순물이부착되지않는다. 기판처리장치(1)는, 유지면(23)과개구(24)를가지는회전가능한웨이퍼유지부(22)와, 도포액(50a)을공급하는노즐(50)을구비하고있다. 노즐(50)로부터유지면(23) 주연부로도포액(50a)이공급되고, 도포액이건조되어유지면(23) 상에웨이퍼(W)를배치하는환상도포막(25)이형성된다.

Abstract translation: 可以抑制由晶片保持单元保持的基板上的划痕或者杂质与基板的粘附。 基板处理装置1包括被配置为旋转的晶片保持单元22和构造成供给涂布液体50a的喷嘴50。 晶片保持单元22包括保持表面23和开口24.涂布液50a从喷嘴50供给到保持表面23的周边部分，然后将涂布液干燥，使得环状涂膜 如图25所示，在其上放置有晶片W，形成在保持表面23上。

公开(公告)号：KR1020120131119A

公开(公告)日：2012-12-04

申请号：KR1020120055427

申请日：2012-05-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B3/10 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/10 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764

Abstract: PURPOSE: A liquid processing device and a liquid processing method are provided to prevent particles due to falling crystallized attachment on a substrate by cleaning a wall or member of a processing chamber with mist or steam of processing solutions which are dispersed on the upper side of the wafer. CONSTITUTION: A support member(10) vertically supports a substrate(W). A gap forming member(20) forms a ring type gap(G1) with the outer circumference part(13) of the support member. A top solution supply member(30) supplies processing solutions to the substrate from the upper side. A cup collects the processing solutions dropping from the rotating substrate through the gap. A raising unit raises the gap forming member.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和液体处理方法，用于通过用处理溶液的雾或蒸汽清洁处理室的壁或构件来分散在基板的上侧 晶圆。 构成：支撑构件（10）垂直地支撑衬底（W）。 间隙形成构件（20）与支撑构件的外周部（13）形成环形间隙（G1）。 顶部溶液供应构件（30）从上侧向基底供应处理溶液。 杯子收集通过间隙从旋转基底落下的处理溶液。 升高单元提高间隙形成构件。

公开(公告)号：KR1020120105367A

公开(公告)日：2012-09-25

申请号：KR1020120025460

申请日：2012-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30 ,  H01L21/6708

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus, a liquid treatment method, and a recording medium are provided to uniformly process a substrate by supplying a plurality of processing liquids using a long nozzle. CONSTITUTION: A rotation plate(30) comprises a plate(31) and a rotary shaft(32). A circular hole is formed on the center of the plate. The rotary shaft is extended from the plate. A substrate holding part(40) holds a substrate(W) which can be rotated. A rotation driving part(50) rotates and drives the substrate held by the substrate holding part. A processing liquid supply part supplies processing liquid to the substrate. A moving drive part(123) transfers the processing liquid supply part. [Reference numerals] (201) Process controller; (202) User interface; (203) Memory part

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和记录介质，以通过使用长喷嘴供给多种处理液体来均匀地处理基板。 构成：旋转板（30）包括板（31）和旋转轴（32）。 在该板的中心形成圆形的孔。 旋转轴从板延伸。 基板保持部（40）保持能够旋转的基板（W）。 旋转驱动部（50）旋转并驱动由基板保持部保持的基板。 处理液体供应部件将处理液体供应到基板。 移动驱动部（123）传送处理液供给部。 （附图标记）（201）过程控制器; （202）用户界面; （203）内存部分

公开(公告)号：KR1020120079178A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：KR1020127015940

申请日：2009-05-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  가네코사토시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 액처리 장치는, 제 2 하우징(20)과, 제 2 하우징(20)에 접촉 가능한 제 1 하우징(10)과, 피처리체(W)를 보지(保持)하는 보지부(1)와, 보지부(1)에 의해 보지된 피처리체(W)를 회전시키는 회전 구동부(60)와, 보지부(1)에 의해 보지된 피처리체(W) 표면의 주연부에 처리액을 공급하는 표면측 처리액 공급 노즐(51a, 52a)과, 보지부(1)에 의해 보지된 피처리체(W)의 이면측에 배치되어 피처리체(W)를 거친 처리액을 저장하는 저장부(23)를 구비하고 있다. 제 1 하우징(10) 및 제 2 하우징(20) 각각은 일 방향으로 이동 가능해져, 제 1 하우징(10)과 제 2 하우징(20)이 접촉 및 이격 가능해져 있다.

公开(公告)号：KR1019920010817A

公开(公告)日：1992-06-27

申请号：KR1019910021566

申请日：1991-11-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시

IPC: H01L21/68

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR101605700B1

公开(公告)日：2016-03-23

申请号：KR1020120025460

申请日：2012-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/306

Abstract: 장척노즐에의해복수의처리액을공급하여기판을균일하게처리할수 있는액처리장치및 액처리방법을제공한다. 기판보지부와, 회전구동부와, 처리액공급부(70)와, 처리액공급부를이동시키는이동구동부(123)를구비하고, 처리액공급부(70)는제 1 방향을따라장척으로형성되고, 제 1 처리액을공급하는제 1 처리액공급부(81)와, 제 1 방향을따라장척으로형성되어있고, 제 1 처리액공급부(81)와평행하게설치된, 제 2 처리액을공급하는제 2 처리액공급부(83)로이루어지고, 이동구동부(123)는처리액공급부를제 1 위치와제 2 위치로, 상기제 1 방향과교차하는제 2 방향으로이동시킨다.

公开(公告)号：KR1020120075361A

公开(公告)日：2012-07-06

申请号：KR1020110128293

申请日：2011-12-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  오가타노부히로 ,  가네코사토시 ,  나가미네슈이치 ,  가이요시히로

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68728

Abstract: PURPOSE: A liquid processing device and method are provided to uniformly discharge processing liquid to the bottom of a substrate by installing a plurality of first discharge ports from the location corresponding to a center portion of the substrate to the location corresponding to a peripheral portion of the substrate. CONSTITUTION: A substrate holding unit(30) maintains a substrate(W) with a horizontal state. A rotation driving unit(39) rotates the substrate holding unit. A first nozzle(60) is located at the lower side of the substrate maintained by the substrate holding unit. The first nozzle comprises a plurality of first liquid discharge paths and a plurality of first gas discharge paths. A liquid feed tool(70) supplies liquid to the plurality of first liquid discharge paths. A gas feed tool(80) supplies gas to the plurality of first gas discharge paths.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和方法，用于通过从对应于基板的中心部分的位置到对应于基板的周边部分的位置安装多个第一排出口来将处理液均匀地排放到基板的底部 基质。 构成：基板保持单元（30）以水平状态维持基板（W）。 旋转驱动单元（39）使基板保持单元旋转。 第一喷嘴（60）位于由基板保持单元维持的基板的下侧。 第一喷嘴包括多个第一液体排出路径和多个第一气体排出路径。 液体供给工具（70）向多个第一液体排出路径供应液体。 气体供给工具（80）向多个第一气体排出路径供给气体。

公开(公告)号：KR1020120075350A

公开(公告)日：2012-07-06

申请号：KR1020110124277

申请日：2011-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  오가타노부히로 ,  가네코사토시 ,  나가미네슈이치 ,  가이요시히로

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: PURPOSE: A liquid processing device and method are provide to effectively wash the bottom of a wafer by crashing fluid spray to the bottom of the wafer without the degradation of energy of the fluid spray. CONSTITUTION: A substrate holding unit(30) maintains a substrate(W) with a horizontal state. A rotation driving unit(39) rotates the substrate holding unit. A first nozzle(60) is located at the lower side of the substrate maintained by the substrate holding unit. The first nozzle comprises a plurality of first liquid discharge paths and a plurality of first gas discharge paths. A liquid feed tool(70) supplies liquid to the plurality of first liquid discharge paths. A gas feed tool(80) supplies gas to the plurality of first gas discharge paths.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置和方法，以通过将流体喷雾撞击到晶片的底部而有效地洗涤晶片的底部，而不会降低流体喷雾的能量。 构成：基板保持单元（30）以水平状态维持基板（W）。 旋转驱动单元（39）使基板保持单元旋转。 第一喷嘴（60）位于由基板保持单元维持的基板的下侧。 第一喷嘴包括多个第一液体排出路径和多个第一气体排出路径。 液体供给工具（70）向多个第一液体排出路径供应液体。 气体供给工具（80）向多个第一气体排出路径供给气体。

公开(公告)号：KR1020110138144A

公开(公告)日：2011-12-26

申请号：KR1020110030723

申请日：2011-04-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  가네코사토시

IPC: H01L21/68

CPC classification number: B23Q3/15 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68714 ,  Y10T29/49998 ,  Y10T279/11 ,  Y10T279/23 ,  Y10T279/26

Abstract: PURPOSE: A location determining device, a substrate treating device, and a method for fixing a reference member are provided to set a reference member on a fixed location and accurately mount the reference member on a support unit. CONSTITUTION: A reference member(11) provides a reference for determining a location. A support unit(12) supports the reference member. A pin hole is formed in the support unit. A pin(14) is inserted into the pin hole. A first fixing member(13) is formed in the support unit to fix the reference member and the support unit. The first fixing member includes an opening(17), a vacuum pump(18), and an exhaust duct(19).

Abstract translation: 目的：提供位置确定装置，基板处理装置和固定参考部件的方法，以将参考部件设置在固定位置，并将参考部件精确地安装在支撑单元上。 构成：参考构件（11）为确定位置提供参考。 支撑单元（12）支撑参考构件。 在支撑单元中形成销孔。 销（14）插入针孔。 第一固定构件（13）形成在支撑单元中以固定基准构件和支撑单元。 第一固定构件包括开口（17），真空泵（18）和排气管道（19）。

公开(公告)号：KR101019445B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 액 처리 장치는 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸며, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 적어도 기판의 표면에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵으로부터 외부로 배기 및 배액하는 배기·배액부와, 표면이 기판 표면과 대략 연속하도록 기판의 외측에 설치되고, 기판 유지부 및 회전 컵과 함께 회전하며, 기판 표면에 공급되어 기판으로부터 털어진 처리액을 그 표면을 통해 회전 컵으로부터 배기·배액부에 안내하는 안내 부재를 구비한다.