Abstract:
PURPOSE: An organic light emitting display device is provided to reduce manufacturing costs by implementing a touch panel function without the increase of the thickness. CONSTITUTION: A first touch sensing electrode layer(21) is formed on a substrate(10). A first protection layer(24) is formed on a first touch sensing electrode layer. A ground layer(30) which is electrically grounded is formed on the front of the first protection layer. An insulation layer(11) is formed on the ground layer. An organic light emitting device(40) is formed on the insulation layer.
Abstract:
PURPOSE: An organic electroluminescent display device and a manufacturing method thereof are provided to improve the property of an organic electroluminescent display device by preventing the light transmittance degradation due to an organic layer which is located in a light emitting side. CONSTITUTION: A substrate(100) comprises a light emitting region(a) and a non-light-emitting region(b). A buffer layer(110) is located on the substrate. A semiconductor layer(120) is located in the non-light-emitting region on the buffer layer. A gate insulating layer(130) is located on the substrate. A first electrode(132) is located on the gate insulating layer. An interlayer insulating layer(140) opens a part of the first electrode.
Abstract:
A flat panel display including a semiconductor circuit, and a method of manufacturing the semiconductor circuit are disclosed. In one embodiment, the semiconductor circuit includes i) a substrate, ii) a semiconductor layer and a first capacitor electrode formed on the substrate, the first capacitor electrode being doped to be conductive, iii) an insulating layer covering the semiconductor layer and the first capacitor electrode, iv) a gate electrode disposed on the insulating layer and corresponding to a portion of the semiconductor layer, and v) a second capacitor electrode disposed on the insulating layer and corresponding to the first capacitor electrode, wherein the gate electrode is thicker than the second capacitor electrode.
Abstract:
본 발명은, 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터의 활성층, 및 상기 활성층과 동일층에 동일물질로 이격되어 형성된 커패시터의 제1하부전극; 상기 활성층 상의 가장자리에 분리형성된 제1도전층, 및 상기 제1도전층과 동일층에 동일물질로 상기 제1하부전극 상에 형성된 커패시터의 제1상부전극; 상기 기판, 제1도전층, 및 제1상부전극 상에 형성된 제1절연층; 상기 제1절연층을 사이에 두고 상기 활성층 중앙 영역에 대응하는 제2도전층, 상기 제2도전층과 동일층에 동일물질로 상기 커패시터의 제1전극 상에 형성된 제2하부전극, 및 상기 제2도전층과 동일층에 동일 물질로 이격되어 형성된 화소 전극; 상기 제2도전층 상에 형성된 제3도전층, 및 상기 제3도전층과 동일층에 동일물질로 제2하부전극 상에 형성된 제2상부전극; 상기 제3도전층, 제2상부 전극, 및 화소 전극 상에 형성된 제2절연층; 및 상기 화소 전극과 접촉하며 상기 제2절연층 상부에 형성된 소스 및 드레인 전극, 소스 및 드레인 전극과 동일층에 동일 물질로 상기 제2상부전극 상에 형성된 커패시터의 제3전극;을 포함하는 평판 표시 장치를 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: An organic light emitting display device and a manufacturing method thereof are provided to increase capacity of a capacitor without increase of a dimension of the capacitor by forming the capacitor through three electrodes and two dielectric layers. CONSTITUTION: An organic light emitting device(1) includes an active layer, a first bottom electrode, a first conductive layer, a first top electrode, a first insulation layer, a second conductive layer, a second bottom electrode, a pixel electrode, a third conductive layer, a second top electrode, a second insulation layer, a source electrode, a drain electrode, and a third electrode. The active layer(212) of a thin film transistor(2) is formed on the substrate. The first bottom electrode of the capacitor(3) is made of the same material as the active layer. The first conductive layer is formed in an edge on the active layer. The first top electrode of the capacitor is formed on the first bottom electrode. The first insulation layer(14) is formed on the substrate(10), the first conductive layer, and the first top electrode. The second conductive layer corresponds to a central region of the active layer. The second bottom electrode is formed on the first electrode of the capacitor. The pixel electrode(415) is made of the same material as the second conductive layer. The third conductive layer is formed on the second conductive layer. The second top electrode is formed on the second bottom electrode. The second insulation layer(17) is formed on the third conductive layer, the second top electrode, and the pixel electrode. The source electrode(218a) and the drain electrode(218b) are formed on the second insulation layer. The third electrode of the capacitor is formed on the second top electrode.
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따른 금속막 패턴의 제조 방법은, 기판 위에 금속막을 형성하는 단계, 금속막 위에 감광막을 형성하고, 감광막을 노광 및 현상하여 마스크 패턴을 형성하는 단계, 마스크 패턴을 에칭 마스크로 사용하고, 제1 반응 가스 분위기에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 금속막을 에칭하는 단계, 제2 반응 가스 분위기에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 에싱하여 감광막을 1차 제거하는 단계, 제3 반응 가스 분위에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 제1 반응 가스에서 제공된 이온 중 잔류하는 이온을 치환시키는 단계 및 스트리퍼를 이용하여 기판 위에 잔류하는 감광막을 2차 제거하는 단계를 포함한다. 배선, 금속 배선, 에칭, 유도 결합 플라즈마, 알루미늄 합금, 니켈
Abstract:
An organic light emitting diode (OLED) display that includes a substrate, a thin film transistor, and a pixel electrode. The thin film transistor is formed on the substrate and includes a semiconductor layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode. The pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor and is formed on the same layer as the source electrode and the drain electrode. The source electrode and the drain electrode include a first conductive layer, and the pixel electrode includes a first conductive layer and a second conductive layer stacked thereon.
Abstract:
본 발명은 유기전계발광표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것으로써, 더 상세하게는 발광영역과 비발광영역을 포함하는 기판; 상기 기판 상에 위치하는 버퍼층; 상기 버퍼층 상의 비발광영역에 위치하는 반도체층; 상기 기판 전면에 걸쳐 위치하는 게이트 절연막; 상기 게이트 절연막 상에 위치하며, 상기 발광영역 상에 위치하는 제 1 전극; 상기 게이트 절연막 상에 위치하며, 상기 비발광영역 상에 위치하는 게이트 전극; 상기 기판 전면에 걸쳐 위치하며, 상기 제 1 전극의 일부를 개구시키는 층간 절연막; 상기 층간 절연막 상에 위치하며, 상기 반도체층 및 상기 제 1 전극과 전기적으로 연결되는 소오스/드레인 전극; 상기 기판 전면에 위치하며, 상기 제 1 전극의 일부를 개구시키는 보호막; 상기 제 1 전극 상에 위치하는 유기막; 및 상기 기판 전면에 걸쳐 위치하는 제 2 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 유기전계발광표시장치, 배면발광
Abstract:
PURPOSE: An organic light emitting diode display device and a fabricating method of the same are provided to use conventional etchant by using an aluminum alloy single layer as a second conductor layer and a source/drain electrode. CONSTITUTION: In an organic light emitting diode display device and a fabricating method of the same, a semiconductor layer(30) is formed in a TFT area on a substrate(10). A gate insulating layer(40) is formed over the substrate including the semiconductor layer. A bottom electrode(70) is formed in the pixel region of the substrate on the gate insulating layer. The gate electrode corresponds to the semiconductor layer on the gate insulating layer. An inter-layer insulating layer is formed on the front side of the gate insulating layer including the bottom electrode and the gate electrode while exposing a part of the bottom electrode to the outside. A single layer is formed in the inter-layer insulating layer and includes the source/drain electrode. The bottom electrode and the gate electrode are formed in the first electrode layer and a second electrode.
Abstract:
PURPOSE: A display device is provided to use a red color filter layer as an interlayer insulating film to electrically insulate a gate electrode and source/drain electrodes, thereby removing a separate process for forming a color filter layer. CONSTITUTION: A substrate(200) comprises a red sub pixel area, a green sub pixel area, and a blue sub pixel area. A buffer layer(210) is formed on the substrate. A gate insulating film(230) is formed on the entire substrate including a poly silicon pattern. A semiconductor layer includes source/drain areas(220a,220c) and a channel area(220b). The semiconductor layer is formed on a transistor area of each sub pixel area. A first capacitor electrode(220d) is formed on a capacitor area of each sub pixel area.