Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 패턴의 제거방법은, 이온 주입을 위해 사용된 마스크 패턴을 상기 마스크 패턴이 형성된 박막으로부터 제거하는 방법에 있어서, 1차 산소 플라즈마 에싱(ashing)방법으로 상기 마스크 패턴의 일부를 제거하고, 스트리퍼를 이용하여 상기 마스크 패턴의 나머지 부분을 상기 박막으로부터 제거하고 그리고 2차 산소 플라즈마 에싱 방법으로 잔류하는 마스크 패턴을 제거한다. 감광막, 마스크 패턴, PR 스트립, 산소 플라즈마 에싱, 이온 주입
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따른 금속막 패턴의 제조 방법은, 기판 위에 금속막을 형성하는 단계, 금속막 위에 감광막을 형성하고, 감광막을 노광 및 현상하여 마스크 패턴을 형성하는 단계, 마스크 패턴을 에칭 마스크로 사용하고, 제1 반응 가스 분위기에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 금속막을 에칭하는 단계, 제2 반응 가스 분위기에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 에싱하여 감광막을 1차 제거하는 단계, 제3 반응 가스 분위에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 제1 반응 가스에서 제공된 이온 중 잔류하는 이온을 치환시키는 단계 및 스트리퍼를 이용하여 기판 위에 잔류하는 감광막을 2차 제거하는 단계를 포함한다. 배선, 금속 배선, 에칭, 유도 결합 플라즈마, 알루미늄 합금, 니켈
Abstract:
A method for manufacturing a light emitting display device is provided to reduce a process time and a process time by forming a via hole through one mask. A first insulating layer(152) is formed on a substrate(150) in which a thin film transistor(151) is formed. A second insulating layer(153) is formed on the first insulating layer. A second insulating layer is patterned. The second insulating layer is made of one of acryl, and the acryl series and the polyimide series organic compound. A part of the first insulating layer is exposed. The exposed firsts insulating layer is etched. The etching is performed by the oxygen plasma. A source electrode or a drain electrode of the thin film transistor is exposed. The cooling gas is supplied to the substrate. The cooling gas is the helium gas. The ashing of the surface of the second insulating layer is performed.
Abstract:
PURPOSE: An organic electroluminescent display device is provided to prevent the light emitted from an organic light emitting device from being directly incident to a photosensor by forming a light blocking part in the photosensor. CONSTITUTION: A display part comprises a substrate(100), a thin film transistor(220), an organic light emitting device(230), and a photosensor(240). The organic light emitting device comprises a pixel electrode, an opposite electrode, and an intermediate layer. A pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor. The opposite electrode is formed in the whole surface of the substrate. The intermediate layer is arranged between the pixel electrode and the opposite electrode. A light blocking part is formed in one side of a photosensor.
Abstract:
본 발명은 박막트랜지스터 및 그 제조방법과 이를 구비하는 유기전계발광표시장치에 관한 것으로 ±10% 범위의 그레인 크기 편차를 가지는 반도체층을 구비한다. 따라서, 반도체층의 SLS 결정화 시 발생할 수 있는 그레인 크기의 불균일로 인한 화상특성 불량의 문제점을 개선할 수 있다. 그레인,불균일,SLS
Abstract:
PURPOSE: A flat panel display and a manufacturing method thereof for improving the display quality and simplifying a manufacturing process are provided to reduce cost by reducing the number of masks. CONSTITUTION: A first lower electrode(31-1) of a capacitor is spaced in the same layer as the active layer. The first upper electrode of the capacitor is formed on the first bottom electrode. A pixel lower electrode(42-1) is formed into a gate lower electrode(22-1) and the same material as the capacitor second bottom electrode. The pixel upper electrode is formed into the gate upper part electrode and the same material as the capacitor second upper electrode.
Abstract:
본 발명은 박막트랜지스터 및 그 제조방법과 이를 구비하는 유기전계발광표시장치에 관한 것으로 ±10% 범위의 그레인 크기 편차를 가지는 다결정 실리콘으로 형성된 반도체층을 구비한다. 따라서, 반도체층의 SLS 결정화 시 발생할 수 있는 그레인 크기의 불균일로 인한 화상특성 불량의 문제점을 개선할 수 있다. 그레인,불균일,SLS
Abstract:
본 발명은 발광표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 발광표시장치의 제조방법은 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 제1 절연막을 형성하는 단계; 상기 제1 절연막 상에 제2 절연막을 형성하는 단계; 상기 제2 절연막을 패터닝하여 상기 제1 절연막의 일 부분을 노출시키는 단계; 상기 노출된 제1 절연막을 식각하여, 상기 박막 트랜지스터의 소스 또는 드레인 전극을 노출시키는 단계; 및 상기 기판 상에 냉각 가스를 공급하며, 상기 제2 절연막의 표면을 에싱하는 단계를 포함한다. 에싱, 냉각 가스, 비아홀, 플라즈마
Abstract:
A dry etching apparatus is provided to withdraw an object between the outside of a process chamber and a stage inside the process chamber by using a handler and a lift member. A dry etching apparatus includes a process chamber(10), a stage(20), a first electrode, a second electrode, a handler(50) and a lift member(60). The handler injects or withdraws an object(70) through an input hole of the process chamber. The lift member raises or lowers the object from the handler. The handler has a ring unit and a support unit. The ring unit is formed to correspond to a contour of the object. The support unit is protruded to the center part in the ring unit and supports the object.