금속막 패턴의 제조 방법
    2.
    发明授权
    금속막 패턴의 제조 방법 失效
    制造金属层图案的方法

    公开(公告)号:KR100898297B1

    公开(公告)日:2009-05-18

    申请号:KR1020070125617

    申请日:2007-12-05

    CPC classification number: H05B33/10 G02F1/1333 H01L51/56 H05B33/14 H05B33/26

    Abstract: 본 발명의 일 실시예에 따른 금속막 패턴의 제조 방법은, 기판 위에 금속막을 형성하는 단계, 금속막 위에 감광막을 형성하고, 감광막을 노광 및 현상하여 마스크 패턴을 형성하는 단계, 마스크 패턴을 에칭 마스크로 사용하고, 제1 반응 가스 분위기에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 금속막을 에칭하는 단계, 제2 반응 가스 분위기에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 에싱하여 감광막을 1차 제거하는 단계, 제3 반응 가스 분위에서 유도 결합 플라즈마 방법으로 제1 반응 가스에서 제공된 이온 중 잔류하는 이온을 치환시키는 단계 및 스트리퍼를 이용하여 기판 위에 잔류하는 감광막을 2차 제거하는 단계를 포함한다.
    배선, 금속 배선, 에칭, 유도 결합 플라즈마, 알루미늄 합금, 니켈

    발광표시장치의 제조방법
    3.
    发明公开
    발광표시장치의 제조방법 失效
    制造发光显示装置的方法

    公开(公告)号:KR1020090004437A

    公开(公告)日:2009-01-12

    申请号:KR1020080024742

    申请日:2008-03-18

    CPC classification number: H01L51/0018 H01L27/3248 H01L51/56 H01L2924/12044

    Abstract: A method for manufacturing a light emitting display device is provided to reduce a process time and a process time by forming a via hole through one mask. A first insulating layer(152) is formed on a substrate(150) in which a thin film transistor(151) is formed. A second insulating layer(153) is formed on the first insulating layer. A second insulating layer is patterned. The second insulating layer is made of one of acryl, and the acryl series and the polyimide series organic compound. A part of the first insulating layer is exposed. The exposed firsts insulating layer is etched. The etching is performed by the oxygen plasma. A source electrode or a drain electrode of the thin film transistor is exposed. The cooling gas is supplied to the substrate. The cooling gas is the helium gas. The ashing of the surface of the second insulating layer is performed.

    Abstract translation: 提供一种制造发光显示装置的方法,通过一个掩模形成通孔来缩短处理时间和处理时间。 第一绝缘层(152)形成在其上形成有薄膜晶体管(151)的基板(150)上。 在第一绝缘层上形成第二绝缘层(153)。 图案化第二绝缘层。 第二绝缘层由丙烯酸,丙烯酸系列和聚酰亚胺系有机化合物之一构成。 暴露第一绝缘层的一部分。 暴露的第一绝缘层被蚀刻。 蚀刻由氧等离子体进行。 薄膜晶体管的源电极或漏电极露出。 将冷却气体供给到基板。 冷却气体是氦气。 执行第二绝缘层的表面的灰化。

    평판 표시 장치 및 이의 제조 방법
    4.
    发明授权
    평판 표시 장치 및 이의 제조 방법 有权
    平板显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:KR101074788B1

    公开(公告)日:2011-10-20

    申请号:KR1020090007385

    申请日:2009-01-30

    Abstract: 본발명은, 기판상의동일층에형성된 TFT 활성층; 상기활성층과동일물질로동일층에소정간격이격되어형성된커패시터의제1 하부전극과, 상기제1 하부전극상에형성된커패시터의제1 상부전극; 기판, 활성층및 제1 상부전극상에형성된제1 절연층; 상기제1 절연층상에형성되고, 활성층의채널영역에대응되는영역에순차로형성된게이트하부전극및 게이트상부전극; 제1 절연층상에형성되고, 각게이트하부전극및 상부전극과동일물질로, 상기커패시터의제1 상부전극에대응되는영역에순차로형성된커패시터의제2 하부전극및 상부전극; 상기제1 절연층상에형성되고, 상기게이트하부전극및 상기커패시터제2 하부전극과동일물질로형성된화소하부전극, 및상기게이트상부전극및 상기커패시터제2 상부전극과동일물질로형성되며상기화소하부전극을노출시키도록상기화소하부전극가장자리상부에배치된화소상부전극; 상기게이트전극, 커패시터제2전극및 화소상부전극상에형성되고, 상기활성층의소스및 드레인영역을노출시키는콘택홀, 및상기화소상부전극가장자리일부를노출시키는비어홀에의해관통되는제2 절연층; 및상기제2 절연층상에형성되며, 상기콘택홀및 비어홀을통해상기소스, 드레인영역및 화소상부전극과접속하는소스및 드레인전극;을포함하는평판표시장치를제공한다.

    유기 발광 디스플레이 장치
    5.
    发明授权
    유기 발광 디스플레이 장치 有权
    有机发光显示装置

    公开(公告)号:KR100964234B1

    公开(公告)日:2010-06-17

    申请号:KR1020080125962

    申请日:2008-12-11

    Abstract: PURPOSE: An organic electroluminescent display device is provided to prevent the light emitted from an organic light emitting device from being directly incident to a photosensor by forming a light blocking part in the photosensor. CONSTITUTION: A display part comprises a substrate(100), a thin film transistor(220), an organic light emitting device(230), and a photosensor(240). The organic light emitting device comprises a pixel electrode, an opposite electrode, and an intermediate layer. A pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor. The opposite electrode is formed in the whole surface of the substrate. The intermediate layer is arranged between the pixel electrode and the opposite electrode. A light blocking part is formed in one side of a photosensor.

    Abstract translation: 目的:提供一种有机电致发光显示装置,用于通过在光传感器中形成遮光部来防止从有机发光元件发射的光直接入射到光传感器。 构成:显示部件包括基板(100),薄膜晶体管(220),有机发光器件(230)和光电传感器(240)。 有机发光器件包括像素电极,相对电极和中间层。 像素电极电连接到薄膜晶体管。 相对电极形成在基板的整个表面上。 中间层配置在像素电极和对置电极之间。 遮光部分形成在光电传感器的一侧。

    평판 표시 장치 및 이의 제조 방법
    7.
    发明公开
    평판 표시 장치 및 이의 제조 방법 有权
    平板显示设备及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020100088269A

    公开(公告)日:2010-08-09

    申请号:KR1020090007385

    申请日:2009-01-30

    Abstract: PURPOSE: A flat panel display and a manufacturing method thereof for improving the display quality and simplifying a manufacturing process are provided to reduce cost by reducing the number of masks. CONSTITUTION: A first lower electrode(31-1) of a capacitor is spaced in the same layer as the active layer. The first upper electrode of the capacitor is formed on the first bottom electrode. A pixel lower electrode(42-1) is formed into a gate lower electrode(22-1) and the same material as the capacitor second bottom electrode. The pixel upper electrode is formed into the gate upper part electrode and the same material as the capacitor second upper electrode.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于提高显示质量并简化制造过程的平板显示器及其制造方法,以通过减少掩模数来降低成本。 构成:电容器的第一下电极(31-1)与有源层相同的层间隔开。 电容器的第一上电极形成在第一底电极上。 像素下电极(42-1)形成为栅极下电极(22-1),与电容器第二底电极相同。 像素上部电极形成为栅极上部电极和与电容器第二上部电极相同的材料。

    발광표시장치의 제조방법
    9.
    发明授权
    발광표시장치의 제조방법 失效
    制造发光显示装置的方法

    公开(公告)号:KR100911990B1

    公开(公告)日:2009-08-13

    申请号:KR1020080024742

    申请日:2008-03-18

    Abstract: 본 발명은 발광표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 발광표시장치의 제조방법은 박막 트랜지스터가 형성된 기판 상에 제1 절연막을 형성하는 단계; 상기 제1 절연막 상에 제2 절연막을 형성하는 단계; 상기 제2 절연막을 패터닝하여 상기 제1 절연막의 일 부분을 노출시키는 단계; 상기 노출된 제1 절연막을 식각하여, 상기 박막 트랜지스터의 소스 또는 드레인 전극을 노출시키는 단계; 및 상기 기판 상에 냉각 가스를 공급하며, 상기 제2 절연막의 표면을 에싱하는 단계를 포함한다.
    에싱, 냉각 가스, 비아홀, 플라즈마

    건식 식각 장치
    10.
    发明授权
    건식 식각 장치 有权
    干燥设备

    公开(公告)号:KR100903626B1

    公开(公告)日:2009-06-18

    申请号:KR1020070132699

    申请日:2007-12-17

    Inventor: 도성원 여종모

    CPC classification number: H01L21/67069 H01L21/67742 H01L21/68742

    Abstract: A dry etching apparatus is provided to withdraw an object between the outside of a process chamber and a stage inside the process chamber by using a handler and a lift member. A dry etching apparatus includes a process chamber(10), a stage(20), a first electrode, a second electrode, a handler(50) and a lift member(60). The handler injects or withdraws an object(70) through an input hole of the process chamber. The lift member raises or lowers the object from the handler. The handler has a ring unit and a support unit. The ring unit is formed to correspond to a contour of the object. The support unit is protruded to the center part in the ring unit and supports the object.

    Abstract translation: 提供了一种干式蚀刻装置,通过使用处理器和升降构件来将处理室外部和处理室内的台之间取出。 干蚀刻装置包括处理室(10),台(20),第一电极,第二电极,处理器(50)和升降构件(60)。 处理者通过处理室的输入孔注入或取出物体(70)。 提升构件从处理器升高或降低对象。 处理机具有环形单元和支撑单元。 环形单元形成为对应于物体的轮廓。 支撑单元突出到环形单元中的中心部分并支撑物体。

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