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公开(公告)号：KR1020110055837A
公开(公告)日：2011-05-26
申请号：KR1020090112431
申请日：2009-11-20
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6833 , H02N13/00
Abstract: PURPOSE: An electrostatic chuck is provided to prevent plasma or a hydrochloric acid gas from reaching an adhesive layer to prevent corrosion of the adhesive layer to lower a defective process rate, thereby increasing productivity. CONSTITUTION: A support stand(40) forms the entire structure of an electrostatic chuck(1). An insulating layer(20) supports an object(10) to be processed. An adhesive layer(30) connects the support stand with the insulating layer. The support stand and the insulating layer form a channel(110) in a direction in which the support stand and the insulating layer face each other. The shape of the channel includes at least one straight unit or at least one curved unit.
Abstract translation: 目的：提供静电卡盘，以防止等离子体或盐酸气体到达粘合剂层，以防止粘合剂层的腐蚀，从而降低加工速度，从而提高生产率。 构成：支撑架（40）形成静电卡盘（1）的整个结构。 绝缘层（20）支撑要处理的物体（10）。 粘合剂层（30）将支撑架与绝缘层连接。 支撑架和绝缘层在支撑架和绝缘层彼此面对的方向上形成通道（110）。 通道的形状包括至少一个直的单元或至少一个弯曲单元。
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公开(公告)号：KR100322550B1
公开(公告)日：2002-03-20
申请号：KR1019970082119
申请日：1997-12-31
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박명수
IPC: G06F7/50
Abstract: PURPOSE: A booth multiplier and a digital filter for adopting the same are provided to create a multiplicand of a negative number simply without using an incrementer. CONSTITUTION: A booth table(202) includes transformation information for transforming a multiplicand in accordance with a multiplier being inputted by a predetermined booth algorithm. An encoder(204) transforms the multiplicand being inputted in accordance with the transformation information, generates a transformed multiplicand, and generates an increment control signal necessary for transforming into a multiplicand of a negative number. The encoder(204) outputs a coded result being expressed as 1's complement for creating a multiplicand of a negative number.
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公开(公告)号：KR1020170085419A
公开(公告)日：2017-07-24
申请号：KR1020160058953
申请日：2016-05-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F3/0488 , G06F3/041 , G06F3/0481
Abstract: 본발명의다양한실시예는전자장치에서터치입력을기반으로동작하는방법및 장치에관한것이다. 전자장치는터치감지디스플레이, 상기터치감지디스플레이에서감지되는터치의입력강도를측정하는유닛, 및상기터치가감지된영역을검출하고, 상기터치가감지된영역에매핑된다수개의제어명령중에서상기터치의입력강도에대응되는제어명령을수행하는적어도하나의프로세서를포함하도록구성될수 있다. 다른실시예들도가능할수 있다.
Abstract translation: 本发明的各种实施例针对用于在电子设备中对触摸输入进行操作的方法和设备。 电子设备包括触摸感测显示器，用于测量由触摸感测显示器感测的触摸的输入强度的单元以及用于感测感测的触摸区域并映射触摸感测区域的感测单元。 以及至少一个处理器，用于执行对应于输入信号的输入强度的控制命令。 其他实施例是可能的。
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公开(公告)号：KR100202411B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019960052633
申请日：1996-11-07
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박명수
IPC: H04L25/17
Abstract: 본발명은 수신되는 신호로부터 원신호의 정확한 판정을 위해 맵핑방법이 아닌 채널의 상황에 따라 가변적으로 결정되어 판정할수 있도록 하기위해 슬라이서를 통해 입력되는 값들은 전송시의 원래 값과 달리 노이즈나 채널의 영향으로 변형된값을 갖도록 구성하고 인접한 성운간에 약간의 보호구간을 두워 이구역 내에 들어오는 샘플러의 출력이 보간필터에 의해 추정된 결과로 고려되어 변경된 슬라이서를 통해 수신되는 신호에 의해 원신호로 판정되도록 구성된다.
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公开(公告)号：KR1020170015615A
公开(公告)日：2017-02-09
申请号：KR1020150107295
申请日：2015-07-29
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01J37/3244 , H01J37/32009 , H01J2237/334
Abstract: 본발명은플라즈마처리장치를개시한다. 그의장치는챔버와, 상기챔버의내벽에코팅되는플라즈마보호막을포함한다. 챔버의내벽은상기내벽은 0.5 마이크로미터이하의중심선평균거칠기를가질수 있다.
Abstract translation: 一种等离子体处理装置，包括：要进行等离子体处理工艺的室; 以及在所述室的内表面上的等离子体保护层，其中所述室的内表面的中心线平均粗糙度为0.5μm以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160124992A
公开(公告)日：2016-10-31
申请号：KR1020150055418
申请日：2015-04-20
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H01J37/32495 , H01J37/321 , H01J37/32477 , H01L21/6719 , H01L21/6831
Abstract: 본발명은기판제조장치및 그의세라믹박막의코팅방법을개시한다. 그의장치는챔버와, 상기챔버의내벽상의세라믹박막을포함한다. 상기세라믹박막은이트륨산소불화막(YOF, x=1, y=1, 2, z=1, 2)을포함할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020160015510A
公开(公告)日：2016-02-15
申请号：KR1020140097540
申请日：2014-07-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
CPC classification number: H01L21/6833 , H01J37/32568 , H01J37/32697 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/6875
Abstract: 본발명은정전척어셈블리, 이를구비하는반도체제조장치및 이를이용한플라즈마처리방법에관한것으로, 정적척어셈블리는베이스상에제공되고히터전극을갖는히터유전층, 및상기히터유전층상에제공되고흡착전극을갖는정전유전층을갖는정전척을포함한다. 상기정전유전층은기판이탑재되는상면을갖는상층부, 및상기상층부의측면을넘어상기상면과평행한방향으로돌출된흡착전극이임베딩된하층부를포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及静电卡盘组件，具有该静电卡盘组件的半导体制造装置以及使用其的等离子体处理方法。 静电卡盘组件包括设置在基座上并具有加热器电极的加热器电介质层和设置在加热器介电层上并具有具有吸附电极的静电介电层的静电卡盘。 静电介电层包括具有安装有基板的上表面的上部和嵌入了上部的侧表面并与上表面平行的吸附电极的下部。
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公开(公告)号：KR1020130098707A
公开(公告)日：2013-09-05
申请号：KR1020120020438
申请日：2012-02-28
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박명수
IPC: H01L21/683 , B23Q3/15 , H02N13/00
CPC classification number: F27D5/00 , F27D5/0037
Abstract: PURPOSE: An electrostatic chuck device and a controlling method thereof are provided to improve the uniformity of a substrate by controlling the surface temperature of the substrate with a desired profile. CONSTITUTION: An electrostatic chuck (30) includes an electrode (31) and a plurality of heaters (32). The electrode generates an electrostatic force for fixing a substrate (20). The heaters heat the substrate fixed by the electrostatic force. A bonding layer (40) bonds a base to the electrostatic chuck. A second power supply unit (70) supplies AC power to the heaters to generate heat. [Reference numerals] (80) Control unit
Abstract translation: 目的：提供一种静电吸盘装置及其控制方法，以通过以期望的轮廓控制衬底的表面温度来改善衬底的均匀性。 构成：静电吸盘（30）包括电极（31）和多个加热器（32）。 电极产生固定基板（20）的静电力。 加热器通过静电力加热固定的基板。 接合层（40）将基底粘合到静电卡盘。 第二电源单元（70）向加热器提供AC电力以产生热量。 （附图标记）（80）控制单元
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公开(公告)号：KR100223658B1
公开(公告)日：1999-10-15
申请号：KR1019970008622
申请日：1997-03-14
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박명수
IPC: H04N5/04
Abstract: 디지탈 텔레비젼 수신기에 이용되는 디지탈 변환회로에 관한 것으로, 특히 적응형 수치제어발진기에 의해 제어되는 보간필터를 가지는 디지탈 변환회로에 관한 것이다. 상기의 디지탈 변환회로는 고정된 주파수에 의해 입력되는 아나로그 신호를 디지탈 변환하는 아나로그 디지탈 변환기와, 수치제어클럭의 입력에 의해 상기 디지탈 변환된 신호의 타이밍 에러를 보간하여 출력하는 보간필터와, 상기 보간필터로부터 보간출력되는 신호의 타이밍 에러를 검출하여 출력하는 에러검출기와, 상기 에러검출기로부터 출력되는 타이밍 에러에 대응하여 선형적으로 증감되는 제1수치제어클럭을 발생하는 수치제어발진기와, 상기 에러검출기로부터 출력되는 타이밍 에러의 값이 상기 보간필터로 입력되는 값이 0, 1, ½의 값일 때 비선형적으로 증감되는 제2수치제어클럭을 발생하는 적응 수치제어발진기와, 상기 수치제어발진기와 상기 적응 수치제어발진기의 출력을 가산하여 상기 보간필터의 보간위상제어신호로서 공급하는 가산기를 포함하여 구성된다.
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公开(公告)号：KR1019990025689A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970047411
申请日：1997-09-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/60
Abstract: 인너리드상의 스티치 본드 영역에서의 본딩 와이어의 두께를 증가시키기 위해 스티치 본드 영역에 대응하는 소정 곡률을 갖는 팁의 가장자리를 따라 링형상의 리세스를 형성하므로서, 에폭시 수지의 흐름에 의한 전단응력 또는 열팽창/수축에 의한 열응력에 견디는 힘이 증가하여 스티치 본드 영역에서의 힐 크랙의 발생을 최소화할 수 있고, 힐 크랙에 의해 스티치 본드 영역에서 접착력이 약화되는 것을 방지하고 힐 크랙의 심화에 의한 단선을 방지할 수 있는 이점이 있다.
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