公开(公告)号：KR1019990065404A

公开(公告)日：1999-08-05

申请号：KR1019980000677

申请日：1998-01-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영 ,  최규상 ,  김희덕 ,  우창우

IPC: H01J37/26

Abstract: 본 발명은 헤드부 체결나사의 나사끝단의 형상 및 재질을 변경하여 체결나사의 체결시 마찰을 감소시키게 하는 반도체 현미경의 헤드부 체결나사에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 현미경의 헤드부 체결나사는, 접안렌즈를 내장하는 헤드부를 현미경 몸체에 조립시키도록 상기 몸체에 형성된 관통홀을 관통하고, 상기 몸체에 조립된 상기 헤드부의 경사진 걸림턱을 가압하는 나사끝단을 구비하여 상기 헤드부를 상기 몸체에 고정시키는 반도체 현미경의 헤드부 체결나사에 있어서, 상기 나사끝단은, 상기 나사끝단의 회전에 따라 발생하는 상기 걸림턱의 마찰을 감소시키도록 상기 걸림턱과의 접촉면이 구형상으로 둥글게 형성된 둥근나사끝단인 것을 특징으로 하고, 본 발명의 반도체 현미경의 헤드부 체결나사는, 나사끝단이 상기 나사끝단의 회전에 따라 발생하는 상기 걸림턱의 마찰을 감소시키도록 상기 걸림턱과의 접촉면이 원뿔형상으로 형성된 원뿔나사끝단인 것을 특징으로 한다.
따라서, 체결부의 마찰을 줄임으로써 파티클의 발생을 방지하고, 제품의 내구성을 향상시키게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR100191346B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960020674

申请日：1996-06-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영 ,  조정훈

IPC: H01L21/22

Abstract: 확산공정(Diffusion Process)에서 웨이퍼 표면에 산화막을 성장시키기 위해 외부에서 공정가스를 적절한 온도로 연소시켜 공급하는 반도체 제조용 습식산화설비의 공정가스 연소장치에 관한 것이다.
그 구성은, 몸체(21)와, 상기 몸체내에 설치되는 것으로 밀폐단부(22a)에 설치된 유입관(23)을 통해 유입되는 공정가스를 가열하도록 공간을 제공하는 연소관(22)과, 상기 연소관의 밀폐단부를 몸체에 고정하는 클램프(30)와, 상기 몸체와 연소관 사이에 설치되어 연소관을 가열하기 위한 히터코일(24)과, 상기 몸체와 연소관 사이에 설치되어 연소관을 냉각시킨는 냉각부(26)와, 상기 몸체의 일측에 설치되어 공정가스의 연소전 예열온도 및 연소온도를 센싱하는 온도센서(27)로 이루어진다.
따라서 공정가스 가열수단의 개선으로 부품의 부식 및 불량으로 인한 수명단축이 방지되는 것이고, 연소관이 견고한 고정으로 공정이 안정화되고 연소관의 교체 및 수리작업이 용이해지는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019980051761A

公开(公告)日：1998-09-25

申请号：KR1019960070676

申请日：1996-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영 ,  최규상 ,  최우열

IPC: H01L21/203

Abstract: 본 발명은 반도체 제조용 자동시너공급장치 및 자동시너공급방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 자동시너공급장치는, 웨이퍼(6)를 린스하기 위한 분사노즐(4)을 갖는 시너공급장치에 있어서, 주공급탱크(11)와, 공급관(2)을 경유하여 상기 주공급탱크(11)에 연결되는 보조공급탱크(14) 및 상기 보조공급탱크(14)에 연결되는 다기관(16)으로 이루어지며, 또한 자동시너공급방법은, 웨이퍼(6) 상으로 시너를 분사하기 위한 분사노즐(4)에 시너를 공급함에 있어, 주공급탱크(11)내의 시너를 보조공급탱크(14)에 유입시키고, 보조공급탱크(14)내의 시너를 분사노즐(4)이 연결된 다기관(16)으로 유입시키도록 이루어진다.
따라서, 분사노즐(4)에 기포가 유입되지 않도록 하고, 항상 일정하게 시너가 분사될 수 있도록 하여 균일한 린스효과를 얻을 수 있도록 하는 효과가 있으며, 그에 의하여 웨이퍼(6)의 균일한 린스를 가능하게 하고, 반도체 장치의 생산성을 향상시키는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020070066178A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：KR1020050127041

申请日：2005-12-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/137

Abstract: A wafer aligning apparatus and a method are provided to prevent pollution or damage of an edge of a wafer by rotating a flat zone or notch of the wafer to align with the wafer. A receptacle(140) for receiving plural wafers is positioned on a stage(141). A wafer aligning member is positioned on one side of the station to align the wafers. A transfer member transfers the wafer between the receptacle positioned on the stage and the wafer aligning member. The wafer aligning member has rotary plates(110a), supports rotatably coupled to the rotary plate, and rotary plate actuators each rotating the rotary plate. A detection sensor(120a) is disposed on one side of the rotary plate to detect position of the wafer.

Abstract translation: 提供了晶片对准装置和方法，以通过旋转晶片的平坦区域或凹口来与晶片对准来防止晶片边缘的污染或损坏。 用于接收多个晶片的容器（140）位于台（141）上。 晶片对准部件位于工位的一侧以对准晶片。 传送部件在位于台架上的插座和晶片对准部件之间传送晶片。 晶片对准部件具有旋转板（110a），可旋转地联接到旋转板的支撑件和旋转板旋转板的旋转板致动器。 检测传感器（120a）设置在旋转板的一侧以检测晶片的位置。

公开(公告)号：KR100541559B1

公开(公告)日：2006-01-11

申请号：KR1020040005866

申请日：2004-01-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황경환 ,  김진성 ,  옥창혁 ,  우재영 ,  최민호

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4584 ,  C23C16/405 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/45582

Abstract: 글랜드부를 갖는 배치형 증착 장비를 제공한다. 이 장비는 반응로(reaction furnace), 상기 반응로 내에 설치된 가스 노즐, 상기 반응로의 외부에 설치된 가스 공급관(gas supply conduit) 및 상기 가스 노즐을 상기 가스 공급관에 연결시키는 글랜드부(gland portion)를 구비한다. 상기 글랜드부는 상기 가스 노즐로부터 상기 반응로의 외부 영역을 향하여 연장된 가스 노즐 단부(gas nozzle end) 및 상기 가스 공급관으로부터 연장된 가스 공급관 단부(gas supply conduit end)를 구비한다. 상기 가스 노즐 단부는 완충부재(buffer member)를 통하여 상기 가스 공급관 단부에 연결된다. 상기 완충부재는 상기 가스 노즐 단부의 내벽을 상기 가스 공급관 단부의 내벽에 연결시키는 경사진 내벽(inclined inner wall)을 갖는다.

公开(公告)号：KR1020040043741A

公开(公告)日：2004-05-27

申请号：KR1020020072039

申请日：2002-11-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영 ,  김경호 ,  최윤창 ,  최혜정 ,  박성욱

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/9503

Abstract: PURPOSE: An apparatus for inspecting a wafer is provided to enhance the efficiency and reduce a period of time for an inspection process by using one integrated inspection apparatus to inspect a top face, an edge of the top face, a lateral face, and a bottom face of a wafer. CONSTITUTION: An apparatus for inspecting a wafer includes a handling unit, a first image acquisition unit, a second image acquisition unit, a driving unit, and an image process unit. The handling unit(300) supports and rotates a wafer(W). In addition, the handling unit moves the wafer, horizontally and vertically. The first image acquisition unit(100) acquires an image of a top face of the wafer. The second image acquisition unit(200) acquires an edge image of the top face of the wafer and images of a lateral face and a bottom face of the wafer. The driving unit rotates the second image acquisition unit. The image process unit inspects defects of the wafer.

Abstract translation: 目的：提供一种用于检查晶片的装置，以通过使用一个综合检查装置来检查顶面，顶面的边缘，侧面和底部来提高效率并减少检查过程的时间段 晶圆面。 构成：用于检查晶片的装置包括处理单元，第一图像获取单元，第二图像获取单元，驱动单元和图像处理单元。 处理单元（300）支撑并旋转晶片（W）。 此外，处理单元水平和垂直移动晶片。 第一图像获取单元（100）获取晶片的顶面的图像。 第二图像获取单元（200）获取晶片的顶面的边​​缘图像和晶片的侧面和底面的图像。 驱动单元旋转第二图像获取单元。 图像处理单元检查晶片的缺陷。

公开(公告)号：KR1020010019238A

公开(公告)日：2001-03-15

申请号：KR1019990035549

申请日：1999-08-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영 ,  김진성

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: An apparatus for aligning a flat zone of a wafer is provided to prevent a wafer defect by regularly replacing a roller, and to minimize work loss because the apparatus does not need to be stopped for the replacement. CONSTITUTION: A guide plate(300) has a lower settling groove so that a bearing(400) coupled to a revolving axis of a roller(100) can be settled. A guide cover(200) has an upper settling groove coupled to the guide plate so that the roller can easily be coupled or detached to/from the bearing. A fixing unit fixes the guide cover to the guide plate.

Abstract translation: 目的：提供一种用于对准晶片的平坦区域的装置，以通过定期更换辊来防止晶片缺陷，并且由于不需要停止更换装置而使工作损失最小化。 构成：引导板（300）具有较低的沉降槽，使得可以使与滚子（100）的旋转轴线相连的轴承（400）沉降。 引导盖（200）具有联接到引导板的上沉降槽，使得辊可以容易地与轴承联接或分离。 固定单元将引导盖固定到引导板。

公开(公告)号：KR1019970067666A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960006865

申请日：1996-03-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영 ,  최우열

IPC: H01L21/304

Abstract: 스핀 방식에 의한 포토레지스트 도포작업에서 고속 회전에 따른 잉여 액상이 되튀겨지지 않도록 받아주는 캣치컵을 세정하도록 하는 반도체 제조설비의 캣치컵 세정장치에 관한 것이다.
본 발명은 캣치컵을 다수개 수용하는 바스켓 및 소정량의 세정액을 수용할 수 있는 세정챔버가 형성된 세정 장치가 있어서, 세정액을 소정량 저장하도록 형성된 저장탱크; 상기 저장탱크와 연결된 연결관을 통항 세정액을 상기 저장탱크에 투입하도록 형성된 세정액 투입부; 및 상기 저장탱크와 연결되어 상기 저장탱크 내부에 투입된 세정액을 다수개의 세정챔버에 공급하는 세정액 공급펌프를 포함한 구성으로 이루어진다.
따라서, 캣치컵에 의한 화재의 위험을 방지하고, 작업자의 신체에 대한 손상이 없도록 하며, 작업자의 노동력과 세정에 소요되는 시간을 단축하게 되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020010027002A

公开(公告)日：2001-04-06

申请号：KR1019990038557

申请日：1999-09-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우재영 ,  김희덕 ,  민병호

IPC: G03C1/00

Abstract: PURPOSE: A photographic process treatment system capable of improving the manufacturing speed and processing uniformity of a semiconductor by performing in-line expansion of an ultraviolet radiation process into a bake unit of a spinner apparatus used in a photographic process to improve reproducibility of linewidth to a fine pattern is provided which improves yield and processing reproductivity. CONSTITUTION: This treatment system comprises a bake unit (200) comprising a reaction chamber formed a light transmitting member at the upper part, a heating device for a wafer in a reaction space, a wafer lift fin (224) connected through the heating device and inserted thereinto to separate the wafer from the heating device and safely place and a first actuator for ascending and descending the heating device; a UV radiation unit containing a UV lamp (110); a UV radiation unit lifter (120) containing a second actuator for moving the UV radiation unit to the bake unit and ascending and descending at the same time; and a main controller for controlling the first actuator and the second actuator.

Abstract translation: 目的：一种摄影处理系统，其能够通过将紫外线辐射过程线性膨胀到用于摄影过程中的旋转器装置的烘烤单元中来提高半导体的制造速度和加工均匀性，以提高线宽的再现性 提供了提高产量和处理繁殖力的精细图案。 构成：该处理系统包括烘烤单元（200），其包括在上部形成有透光构件的反应室，反应空间中的晶片加热装置，通过加热装置连接的晶片提升翅片（224）和 插入其中以将晶片与加热装置分离，并安全地放置和用于上升和下降加热装置的第一致动器; 包含UV灯（110）的UV辐射单元; UV辐射单元升降器（120），其包含用于将UV辐射单元移动到烘烤单元并同时上升和下降的第二致动器; 以及用于控制第一致动器和第二致动器的主控制器。

公开(公告)号：KR1020000066302A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990013310

申请日：1999-04-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 우창우 ,  우재영 ,  윤명식 ,  현기철

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A jig system is provided to easily separate the wafer for analysis from jig and to make the polishing of the wafer for analysis uniform. CONSTITUTION: A jig system comprises an exclusive fixing jig(200) which fixes the wafer fixing frame(103) by using a screw(212) when a wafer fixing frame(103) is inserted to a first groove(210) in the jig(200), a hole(211) which the screw(212) can be protruded, the screw(212) which fixes the wafer fixing frame(203) and a second groove(214), the exclusive fixing jig can be coupled to a jig bar assembly, and a jig bar assembly(202) which comprises two horizontal bars and two vertical bars. Wherein a second horisontal bar connects a first vertical bar with a second vertical bar, and a first horizontal bar connects the exclusive fixing jig with the jig bar assembly.

Abstract translation: 目的：提供一种夹具系统，用于容易地将晶片与夹具分离，并使晶片的抛光均匀。 构成：夹具系统包括专用固定夹具（200），当将晶片固定框架（103）插入到夹具中的第一凹槽（210）中时，使用螺钉（212）固定晶片固定框架（103） 200），螺钉（212）可以突出的孔（211），固定晶片固定框架（203）的螺钉（212）和第二凹槽（214），专用固定夹具可联接到夹具 杆组件和夹具杆组件（202），其包括两个水平杆和两个垂直杆。 其中第二水平杆将第一垂直杆与第二垂直杆连接，并且第一水平杆将专用固定夹与夹具杆组件连接。