公开(公告)号：KR100973812B1

公开(公告)日：2010-08-03

申请号：KR1020030064817

申请日：2003-09-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조홍제 ,  강성철 ,  김진수

IPC: G02F1/13

CPC classification number: B05B1/205 ,  B05C11/1007 ,  B05C11/1042 ,  H01L21/6708

Abstract: 약액을 공급하는 약액 공급 장치, 약액 공급 장치 내부의 약액의 온도를 조절하는 제1 온도 조절 장치, 약액 공급 장치로부터 공급된 약액을 기판에 분사하는 복수개의 노즐, 약액을 약액 공급 장치로부터 노즐로 공급하는 약액 공급관, 약액 공급관을 흐르는 약액의 온도를 조절하는 제2 온도 조절 장치를 포함하는 약액 공급 시스템.
온도조절장치, 노즐, 약액순환장치

公开(公告)号：KR1020060086625A

公开(公告)日：2006-08-01

申请号：KR1020050007483

申请日：2005-01-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조홍제 ,  임관택 ,  이재경

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: G02F1/1303 ,  G03F7/30 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67075

Abstract: 본 발명은 제1처리유닛에서 기판을 이송방향의 가로방향으로 제1경사각만큼 경사지게 이송하면서 처리액을 판면에 공급하는 단계와, 제2처리유닛에서 상기 기판을 이송방향의 가로방향으로 상기 제1경사각보다 작은 제2경사각만큼 경사지게 이송하면서 처리액을 판면에 공급하는 단계와, 제3처리유닛에서 상기 기판을 이송방향의 가로방향으로 상기 제1경사각과 반대방향인 제3경사각만큼 경사지게 이송하면서 처리액을 판면에 공급하는 단계를 포함하는 기판의 처리방법에 관한 것이다. 이에 의해 현상, 식각, 세정과 같은 기판의 처리에 있어, 기판의 위치에 따라 처리액과의 접촉정도가 달라지는 문제점을 감소시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060068996A

公开(公告)日：2006-06-21

申请号：KR1020040107977

申请日：2004-12-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조홍제 ,  임효택 ,  임관택

IPC: G02F1/136

CPC classification number: H01L27/124 ,  G02F1/136286 ,  G02F2001/136295

Abstract: 다층 배선의 불량을 방지할 수 있는 TFT 기판과 이의 다층 배선 제조방법이 제공된다. TFT 기판은, 기판 상에 순차적으로 형성된 제1 데이터 금속층 및 제2 데이터 금속층과, 제2 데이터 금속층의 상부에 형성된 절연막과, 절연막의 상부에 형성된 제3 데이터 금속층을 구비하는 데이터 배선을 포함한다.
LCD, 다층 배선, 절연막, 데이터 배선

公开(公告)号：KR1020060039631A

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：KR1020040088809

申请日：2004-11-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박홍식 ,  강성호 ,  조홍제

IPC: C09K13/06

CPC classification number: H01L21/32134 ,  C23F1/20 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01L27/12 ,  H01L27/124 ,  H01L29/458 ,  H01L29/4908

Abstract: 절연 기판 위에 게이트 전극을 포함하는 게이트선을 형성하는 단계, 상기 게이트선 위에 게이트 절연막 및 반도체층을 순차적으로 적층하는 단계, 상기 게이트 절연막 및 반도체층 위에 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 상기 소스 전극과 소정 간격으로 마주하고 있는 드레인 전극을 형성하는 단계, 및 상기 드레인 전극과 연결되어 있는 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 게이트선을 형성하는 단계, 상기 데이터선과 상기 드레인 전극을 형성하는 단계 및 상기 화소 전극을 형성하는 단계 중 적어도 하나는 65 내지 75중량%의 인산, 0.5 내지 15중량%의 질산, 2 내지 15중량%의 아세트산, 0.1 내지 8.0%의 칼륨 화합물 및 잔량의 물을 포함하는 식각액 조성물을 이용하여 사진 식각하는 단계를 포함하는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법을 제공한다.
식각액, 칼륨 화합물, 염기성 질소 화합물, 언더컷, 프로파일

公开(公告)号：KR1020050103699A

公开(公告)日：2005-11-01

申请号：KR1020040028976

申请日：2004-04-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 민경선 ,  김진수 ,  조홍제

IPC: G02F1/13

Abstract: 기판의 생산성을 향상시킬 수 있는 기판처리장치가 개시된다. 기판처리장치는 반송유닛 및 공급유닛을 포함하다. 반송유닛은 지면과 평행한 기준면에 대하여 기판을 소정의 각도로 기울인 상태로 반송하고, 공급유닛은 기판에 처리액을 공급한다. 공급 유닛은 기준면의 상부에 위치하는 기판의 제1 영역에 제1 양의 처리액을 공급하고, 기준면의 하부에 위치하는 기판의 제2 영역에 제1 양보다 적은 제2 양의 처리액을 공급한다. 따라서, 기판처리장치에 의해서 제조되는 기판의 생산성을 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050073202A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：KR1020040001445

申请日：2004-01-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이지선 ,  조홍제 ,  최동욱

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 LCD 공정용 혼합액 공급장치에 관한 것으로서, 복수 종류의 원액을 공급받아 혼합하고 혼합액을 저장하는 혼합액 저장부와, 상기 원액을 저장하고 상기 혼합액 저장부에 공급하는 복수의 원액 저장부와, 상기 혼합액 저장부에 저장된 상기 혼합액의 저장상태를 감지하는 상태감지부와, 상기 상태감지부에서 감지된 상기 저장상태에 기초하여 상기 원액 저장부로부터 상기 혼합액 저장부로의 상기 원액의 공급을 조절하는 제어부를 갖는 것을 특징으로 한다. 이에 의해 혼합액 저장부에 저장된 혼합액의 혼합비, 농도, 저장량 등의 저장상태의 변화에 대응하여 혼합액의 저장상태를 바람직하게 유지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050028532A

公开(公告)日：2005-03-23

申请号：KR1020030064817

申请日：2003-09-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조홍제 ,  강성철 ,  김진수

IPC: G02F1/13

CPC classification number: B05B1/205 ,  B05C11/1007 ,  B05C11/1042 ,  H01L21/6708

Abstract: A system for supplying process solution for manufacturing an LCD(Liquid Crystal Display) is provided to maintain temperature of the process solution sprayed onto a big substrate constantly, thereby improving etching uniformity of the big substrate. A process solution supply unit supplies the process solution. The first temperature adjusting unit adjusts temperature of the process solution in the process solution supply unit. A plurality of nozzles(80) spray the process solution supplied from the process solution supply unit onto a substrate(10). A process solution supply pipe supplies the process solution from the process solution supply to the nozzles. The second temperature adjusting unit(50) adjusts the process solution that flows through the process solution supply pipe.

Abstract translation: 提供一种用于提供用于制造LCD（液晶显示器）的工艺解决方案的系统，以将工艺溶液的温度恒定地维持在大的基板上，从而提高大基板的蚀刻均匀性。 过程解决方案供应单元提供过程解决方案。 第一温度调节单元调节处理溶液供应单元中的处理溶液的温度。 多个喷嘴（80）将从处理液供给单元供给的处理液喷射到基板（10）上。 工艺解决方案供应管道将过程溶液供应给喷嘴。 第二温度调节单元（50）调节流过处理液供给管的处理液。

公开(公告)号：KR1020050015448A

公开(公告)日：2005-02-21

申请号：KR1020030054265

申请日：2003-08-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조홍제 ,  김진수 ,  강성철 ,  남효락

IPC: H01L21/3063

Abstract: PURPOSE: A wet etching apparatus is provided to improve etching uniformity by reducing a standby time difference of an etching solution between a center region of a substrate and an edge region of the substrate in a wet etching process. CONSTITUTION: A plurality of spray pipes(20) are installed at an upper part of a chemical bath(10) in order to spray an etching solution to a substrate. A transfer unit(40) moves a substrate to a transferring direction and rotates the substrate as much as a predetermined angle around a transferring direction axis. The spray pipes are moved to the transferring direction of the substrate and to a left side and a right side of the transferring direction.

Abstract translation: 目的：通过在湿蚀刻工艺中减少衬底的中心区域和衬底的边缘区域之间的蚀刻溶液的待机时间差来提供湿式蚀刻装置，以提高蚀刻均匀性。 构成：在化学浴（10）的上部安装多个喷管（20），以将蚀刻溶液喷射到基板上。 转印单元（40）将基板移动到转印方向，并且将基板围绕转印方向轴旋转预定角度。 喷射管移动到基板的传送方向和传送方向的左侧和右侧。

公开(公告)号：KR1020040040087A

公开(公告)日：2004-05-12

申请号：KR1020020068412

申请日：2002-11-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박홍식 ,  박애나 ,  조홍제 ,  강성철

IPC: G03F7/42

Abstract: PURPOSE: Provided is a stripper composition for a high-performance TFT-LCD photoresist, which reduces the stripping time significantly, simplifies gate array processing steps, improves the productivity and saves the cost. CONSTITUTION: The stripper composition for a photoresist comprises 20-60 parts by weight of monoethanol amine, 15-50 parts by weight of N.N-dimethylacetamide, and 15-50 parts by weight of carbitol. The stripper composition is used for a patterning method of a gate array comprising the steps of: depositing a double metal layer on a substrate, coating a photoresist and carrying out exposure and development; etching a first conductive layer; stripping the photoresist by using the stripper composition; and etching a second conductive layer.

Abstract translation: 目的：提供一种用于高性能TFT-LCD光致抗蚀剂的剥离剂组合物，显着减少剥离时间，简化了门阵列处理步骤，提高了生产率并节省了成本。 构成：光致抗蚀剂的脱模剂组合物包含20-60重量份的单乙醇胺，15-50重量份的N-二甲基乙酰胺和15-50重量份的卡必醇。 剥离剂组合物用于栅极阵列的图案化方法，包括以下步骤：在基底上沉积双金属层，涂覆光致抗蚀剂并进行曝光和显影; 蚀刻第一导电层; 通过使用剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂; 并蚀刻第二导电层。

公开(公告)号：KR1020030095430A

公开(公告)日：2003-12-24

申请号：KR1020020032328

申请日：2002-06-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박애나 ,  강성철 ,  박홍식 ,  조홍제 ,  박봉옥

IPC: H01L29/786

Abstract: PURPOSE: A method for forming a metal pattern and a method for manufacturing a TFT(Thin Film Transistor) substrate using the same are provided to be capable of reinforcing the bonding force between the metal pattern and a lower substrate by using a bonding layer. CONSTITUTION: A bonding organic metal layer is formed at the upper portion of an insulating substrate(110) by coating the first photosensitive organic metal adhesive. A line organic metal layer is formed at the upper portion of the bonding organic metal layer by coating the second photosensitive organic metal adhesive. An exposure process is carried out at the line organic metal layer and bonding organic metal layer by using a photo mask. Then, a plurality of metal patterns(121,123,125) are formed by developing the resultant structure. At this time, the metal patterns are made of bonding metal patterns(211,231,251) and line metal patterns(212,232,252).

Abstract translation: 目的：提供一种用于形成金属图案的方法和使用其的制造TFT（薄膜晶体管）基板的方法，以能够通过使用粘合层来增强金属图案和下基板之间的结合力。 构成：通过涂覆第一感光性有机金属粘合剂，在绝缘基板（110）的上部形成接合有机金属层。 通过涂布第二感光性有机金属粘合剂，在接合有机金属层的上部形成线有机金属层。 在有机金属层的线上进行曝光处理，并且通过使用光掩模来接合有机金属层。 然后，通过显影所得到的结构形成多个金属图案（121,123,125）。 此时，金属图案由接合金属图案（211,231,251）和线金属图案（212,232,252）制成。