公开(公告)号：KR100253091B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019970061934

申请日：1997-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한현 ,  남기흠 ,  곽선우

IPC: H01L21/48 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67259 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67766 ,  Y10S414/135

Abstract: PURPOSE: An elevator apparatus for transferring a wafer boat is provided to allow an automatic control of a horizontal attitude of wafers in the boat. CONSTITUTION: The elevator apparatus automatically adjusts the inclination of the wafer boat(34) so that the wafers(10) in the boat(34) are horizontally maintained. The elevator apparatus includes the wafer boat(34), a base(35) on which the boat(34) is supported, an elevator(37) for loading or unloading the boat(34) into or from a processing chamber, a sensing unit(43) for detecting the inclination of the boat(34) relative to the horizontal, a horizontal control unit(36) which is interposed between the base(35) and the elevator(37) and is drivable to maintain the boat(34) in such a position that the wafers(10) in the boat(34) lie in horizontal planes, and a control unit(44) for receiving information from the sensing unit(43) and, based on the information, outputting a control signal to the horizontal control unit(36).

Abstract translation: 目的：提供一种用于传送晶片舟的电梯装置，以便能够自动控制船中的晶片的水平姿态。 构成：电梯装置自动调节晶片舟（34）的倾斜度，使船体（34）中的晶片（10）水平地保持。 电梯设备包括晶片舟（34），支撑舟（34）的基座（35），用于将船（34）装载或从处理室中卸载的升降机（37），感测单元 （43），其用于检测所述船（34）相对于所述水平面的倾斜;水平控制单元（36），其插入在所述基座（35）和所述电梯（37）之间并且可驱动以维持所述船（34） 在这样一个位置上，舟皿（34）中的晶片（10）位于水平面上，以及用于从感测单元（43）接收信息的控制单元（44），并且基于该信息，将控制信号输出到 水平控制单元（36）。

公开(公告)号：KR100245651B1

公开(公告)日：2000-02-15

申请号：KR1019960041510

申请日：1996-09-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 남기흠 ,  유승일 ,  안웅관 ,  한현

IPC: H01L21/68

Abstract: 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼가 적재되는 보트를 수직형 공정튜브의 하측 외부에서 상측 내부로 이송시키는 이송부가 구비된 반도체 웨이퍼 보트의 이송장치에 있어서, 상기 이송부는, 소정의 직경을 갖는 원통형의 하단 및 상기 하단보다 직경이 작으며, 상기 하단에 삽입인출되는 상단으로 구성되는 적어도 이단 이상의 다단형 선형부재, 상기 상단의 최상단의 단부에 상기 보트의 안착이 용이하도록 형성된 판상구조체 및 상기 상단이 상기 하단으로부터 인출되도록 상기 선형부재의 하부로 유압을 가하는 유압부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 이송장치가 설비에서 차지하는 공간을 축소시켜 생산성을 극대화시켰고, 또한 최근의 추세에 맞게 이용할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100234530B1

公开(公告)日：1999-12-15

申请号：KR1019960035151

申请日：1996-08-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 남기흠 ,  유승일 ,  한현

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 보트에 관한 것이다.
본 발명은, 피스톤이 상하로 이동할 수 있도록 중앙부에 홀이 형성되어 있고, 복수개의 석영로드에 의해서 서로 연결된 복수의 웨이퍼 받침부를 구비하는 반도체 웨이퍼 보트에 있어서, 상기 웨이퍼 받침부는 중앙부에 상기 홀이 형성된 내부링과 상기 내부링과 소정간격 외부로 이격되어 상기 내부링을 둘러싸는 외부링과 상기 내부링 및 외부링을 서로 연결하는 복수의 연결부가 일체로 형성된 것을 특징으로 한다. 따라서, 웨이퍼 및 석영로드가 환경요인에 의해서 휘어지는 것을 방지함으로써 웨이퍼의 표면이 찢어지는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100303918B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019970066717

申请日：1997-12-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 남기흠 ,  한현 ,  박제응

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A fabrication method of a capacitor of a semiconductor device is provided to decrease a manufacturing time by preventing an exposure of a wafer to surroundings using only one capacitor manufacture equipment without several cleansing steps. CONSTITUTION: An HSG(Hemi Spherical Grain) is formed on a surface of a capacitor lower electrode in a first processing chamber(52). An HSG formed wafer is transferred to a second processing chamber(50) through a load lock chamber(48) in which a vacuum condition is kept. An annealing is performed on the wafer in the second processing chamber(50). After the condition of the second processing chamber(50) is changed, a dielectric is formed on the capacitor lower electrode by IS(In-Situ). The dielectric has an oxide and a nitride layer sequentially formed. The annealing is performed on a phosphine gas condition. All the processing step are performed in one capacitor manufacturing equipment.

公开(公告)号：KR1020000065993A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990012803

申请日：1999-04-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김채호 ,  한현

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: An apparatus for storing a semiconductor wafer is provided to prevent the semiconductor wafer from being contaminated and damaged by eliminating static electricity generated on the semiconductor wafer. CONSTITUTION: An apparatus for storing a semiconductor wafer comprises a body, a slot(206), a conductive contact(208) and a ground terminal. The body has an inner space, in which an opening for loading/unloading the wafer of a predetermined diameter is formed on one surface of the body. The slot on which the wafer is placed is positioned in the inner space of the body. The ground terminal is composed of two terminals, of which one terminal is connected to the contact and the other terminal is exposed to the outside of the body.

Abstract translation: 目的：提供一种用于存储半导体晶片的装置，以通过消除半导体晶片上产生的静电来防止半导体晶片被污染和损坏。 构成：用于存储半导体晶片的装置包括主体，狭槽（206），导电触点（208）和接地端子。 主体具有内部空间，在主体的一个表面上形成有用于装载/卸载预定直径的晶片的开口。 其上放置晶片的槽位于主体的内部空间中。 接地端子由两个端子组成，一个端子连接到触点，另一个端子暴露于主体的外部。

公开(公告)号：KR1020000015476A

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019980035403

申请日：1998-08-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한현 ,  김채호

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: The present invention is intended to provide an internal temperature control method to form a specific film such as an oxide film and a nitride film whose uniformity on a wafer is improved. CONSTITUTION: The method comprises a first stabilization step, a temperature rise step, a process step, a temperature fall step and a second stabilization step. The process step is divided into several process steps that after the internal temperature of a process tube decreases to a specific temperature from a specific temperature with a constant rate, the decreased temperature is maintained, or the process step decreases the internal temperature of the process tube to a specific temperature from a specific temperature, or the process step comprises a first process maintaining the internal temperature of the process tube to a specific temperature for a fixed time and a post process step of decreasing the specific temperature to other specific temperature with a constant rate.

Abstract translation: 目的：本发明旨在提供一种内部温度控制方法，以形成诸如氧化物膜和氮化物膜的特定膜，其中晶片的均匀性得到改善。 构成：该方法包括第一稳定步骤，升温步骤，工艺步骤，降温步骤和第二稳定步骤。 工艺步骤分为几个工艺步骤，在工艺管的内部温度以恒定速率从特定温度降低到特定温度之后，保持降低的温度，或者工艺步骤降低处理管的内部温度 到特定温度的特定温度，或者工艺步骤包括将处理管的内部温度维持在特定温度一段固定时间的第一过程和将特定温度降低到其它特定温度的后处理步骤，其具有常数 率。

公开(公告)号：KR1019990041352A

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019970061934

申请日：1997-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한현 ,  남기흠 ,  곽선우

IPC: H01L21/48 ,  H01L21/68

Abstract: 본 발명은 보트의 경사도를 감지하여 웨이퍼를 자동으로 수평조절시키는 자동수평조절장치를 설치함으로써 수평정렬작업시간과 공수를 줄이고, 웨이퍼 가공불량을 방지하게 하는 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치는, 하측에 수평유지되는 베이스를 구비하고, 웨이퍼가 적재되는 보트와, 상기 보트를 공정챔버내로 로딩 및 언로딩하는 엘리베이터와, 상기 보트의 수평여부를 감지하는 센싱수단과, 상기 보트의 베이스와 상기 엘리베이터 사이에 위치하며, 그 간격을 조절함으로써 상기 보트의 수평이 유지되도록 하는 수평조절수단 및 상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 인가받아 상기 수평조절수단에 제어신호를 인가하는 제어부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 웨이퍼의 정확한 수평정렬이 이루어지도록 하고, 정렬시간과 공수를 줄이며, 웨이퍼의 위치이탈을 방지하게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR100352765B1

公开(公告)日：2002-09-16

申请号：KR1019990054172

申请日：1999-12-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안재혁 ,  양창집 ,  김태철 ,  한현

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C30B25/10 ,  C23C16/46

Abstract: 본발명은반도체제조용가열장치에관한것으로서, 특히로내의온도가저하되는것을방지하기위한열차단수단이구비된가열로에있어서, 상기열차단수단(30)은밀폐가이루어지는케이스(31)와, 상기케이스(31)의내측에횡방향으로위치된복수개의반사판(33)과, 상기반사판(33)을지지고정하는복수개의지지핀(34)(35)을포함한다. 따라서, 본발명에서는반사판을갖는열차단수단에의해웨이퍼보트의로딩시등에로내의열이손실됨에따라로내의온도가저하되는것을최소화함으로써웨이퍼보트의로딩후 공정이시작될때까지의로내온도를안정화시키고, 이에따라공정시간이단축됨으로써생산성이향상됨과동시에균일한품질을갖는웨이퍼를얻게된다.

公开(公告)号：KR1020000050961A

公开(公告)日：2000-08-05

申请号：KR1019990001161

申请日：1999-01-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정창구 ,  한현

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A boat of an apparatus for manufacturing semiconductor is provided to increase yield and quality of a semiconductor wafer, by eliminating the possibility of generating a particle caused by quality of layers accumulated on a dummy wafer. CONSTITUTION: A boat of an apparatus for manufacturing semiconductor, having a plurality of slots to load a group of semiconductor wafers, monitoring wafers and dummy wafers, includes filters for filtering processing gas and preventing uniformity of the group of semiconductor wafers from lowering because of instability of the processing gas. The filters are in the same shape as the dummy wafer.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体的装置的船，以通过消除由于在虚设晶片上积累的层的质量而产生颗粒的可能性，从而提高半导体晶片的产量和质量。 构成：具有用于加载一组半导体晶片，监视晶片和虚设晶片的多个槽的半导体制造装置的船包括用于过滤处理气体并防止半导体晶片组的均匀性由于不稳定而降低的滤波器 的处理气体。 滤光器的形状与虚设晶片相同。

公开(公告)号：KR1020000001935A

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019980022422

申请日：1998-06-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 남기흠 ,  한현

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer transmit system is provided to place plural wafers on a wafer boat and to prevent the slip causing a crack on the wafer. CONSTITUTION: The wafer transmit system comprises: a wafer boat(20) placing by inclining plural wafers(2) to a certain angle; a transmission device(30) for transmitting the wafers(2) to the wafer boat(20) from a wafer cassette(3); and a control unit(40) for controlling the movement of the transmission device(30) by feeding the control signal to the transmission device(30).

Abstract translation: 目的：提供晶片传输系统以将多个晶片放置在晶片舟上，并防止滑动导致晶片上的裂纹。 构成：晶片传输系统包括：通过使多个晶片（2）倾斜一定角度放置的晶片舟（20）; 用于从晶片盒（3）将晶片（2）传送到晶片舟（20）的传输装置（30）; 以及控制单元（40），用于通过将控制信号馈送到发送装置（30）来控制发送装置（30）的移动。