Abstract:
PURPOSE: A flexible dielectric thin film and a manufacturing method thereof are provided to obtain a flexible thin film by producing a dielectric thin film in a low temperature process under 400°C. CONSTITUTION: A flexible dielectric thin film (100) includes a flexible member (110) and a dielectric layer (120). The flexible member has the surface roughness as nanometers. The flexible member is made of polyethersulfone, polyacrylate, polyether imide, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, polyphenylenesulfide, polyarylate, polyimide, polycarbonate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, and combinations thereof. The dielectric layer is made of Bi-Nb group ceramic composition and formed on the upper side of the flexible member. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S110) Decrease the intensity of illumination of the surface of a flexible member; (S120) Form a dielectric layer on the upper part of the flexible member; (S130) Increase a dielectric rate by heat treatment
Abstract:
본 발명은 하이브리드 형태로 제작되는 세라믹-고분자 하이브리드 기판에 대응하기 위한 것으로, 특히 열처리 온도가 250~350℃ 정도의 훨씬 낮은 온도에서 경화시켜서 제조할 수 있고, 그 수축률이 상대적으로 적은 무소결 세라믹 하이브리드 기판의 층간 접속을 위한 비아 페이스트 및 이를 이용하여 제조된 무소결 세라믹 하이브리드 기판을 제공한다. 무소결, 비아홀, 세라믹 하이브리드 기판
Abstract:
본 발명은 다층 프린트 배선판을 형성하는데 적합하게 사용될 수 있는 수지조성물로써 가교성, 내열성, 및 난연성을 더욱 향상시키면서도 특히 고주파 대역에 적합한 전송특성을 가지는 저유전손실 등 유전특성이 좋은 저유전손실 복합수지 조성물을 제공하며, 이를 사용하여 제조된 필름, 프리프레그, 적층판 등을 제공한다. 저유전손실, 고주파, 복합 수지 조성물, 프리프레그
Abstract:
PURPOSE: A thermosetting resin composition is provided to ensure low permittivity, low loss, and a low thermal expansion coefficient in a high frequency band by mixing cyclo olefin polymers with a cross-linking agent and initiator. CONSTITUTION: A thermosetting resin composition comprises: a base resin consisting of solid-phase cyclo olefin homopolymers; an organic solvent for dissolving the base resin; a cross-linking agent of 5-20% weight based on the base resin; an initiator actuating a reaction catalyst of the cross-linking agent; and silica raw materials. The thermal expansion coefficient of the resin composition lowers by blending the silica raw materials.
Abstract:
A thermosetting composite resin composition, a prepreg prepared by using the composition, and a composite film prepared by using the composition are provided to reduce dielectric loss and to allow desired dielectric constant to be obtained. A thermosetting composite resin composition comprises a base resin comprising a cycloolefin polymer of solid state; an organic solvent which dissolves the base resin; a crosslinking agent; an initiator; and at least one inorganic filler selected from BaTiO3, SrTiO3, TiO2, PZT, Al, Cu, Ni, Fe, Ag, Ti, Cr, Si, Mg, Zn, Sn, Pb, Ti, Zr, Ta, Pt, carbon black and graphite, wherein the ratio of the base resin and the crosslinking agent is 95:5 to 80:20 by weight. The composition has a dielectric constant of 4-1,750 according to the content of the inorganic filler.
Abstract:
A CCL(Copper Clad Laminate), a PCB(Printed Circuit Board), and a CCL manufacturing method are provided to secure high heat resistance and high junction property with copper clad and to increase the dielectric property to the desirable level. A CCL is composed of a prepreg(10) formed by impregnating a low-loss polymer composition with glass fiber and a complex film(20) containing an inorganic filler selected from ceramic and metal materials, carbon black, and graphite and a low-loss polymer composition. The low-loss polymer composition contains thermoplastic resin selected from PPO(Polyphenylene Oxide), copolymer of PPO and PS(Polystyrene), cyclic olefin, and PEI(Polyetherimide) and thermosetting materials applying cross-linking property to the thermoplastic resin. The prepregs are laminated on both ends of a complex film layer formed by laminating the complex films in at least two layers. The copper clad is formed at both ends of the laminated prepreg.
Abstract:
A method of fabricating a thermoset thick film resistor and a resistor manufactured by the same are provided to form a resistor in a uniform shape and prevent overlap between the resistor and a metal pad. A metal material is deposited on a substrate(1), and then is partially etched to form a lower metal pad(4). A thick resistor paste is applied to cover the lower metal pad, and is dried or annealed to form a resistor(5). An insulating material is applied on the substrate, in which the resistor is not formed, to form an insulating layer(6). After the metal material is deposited on the resistor and the insulating layer, both sides of the metal material are etched to form an upper metal pad(7).
Abstract:
본 발명은 감광성 도전체 페이스트의 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것으로, (a) 저온동시소성용 도전성 금속분말 55 ~ 75 중량%; (b) 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트 및 n-부틸 메타 크릴레이트를 함유하고, 산성 관능기를 갖는 용액화된 유기 바인더, 단량체와 광개시제를 포함하는 비이클 10 ~ 40 중량%; (c) 소성 수축율 제어를 위한 유리 프릿 0.1 ~ 5 중량%; (d) 분산제 0.5 ~ 1.5 중량%; (e) 유기용매 1 ~ 8 중량%를 함유하고 있는 감광성 도전체 페이스트 조성물이다. 따라서, 본 발명은 저온동시소성 세라믹 적층 공정 기술에 적합한 감광성 도전체 페이스트 조성물을 제조함으로써, 페이스트로 그린시트에 미세 도선을 형성할 시, 해상도가 높고, 현상 후 선간격의 잔류물이 적으며, 그린시트와의 소성수축 거동이 정합되어 기판의 휨을 적게 할 수 있는 효과가 있다. 감광, 도전체, 페이스트, 유기 바인더, 해상도
Abstract:
본 발명은 하기 화학식 1의 유전체 세라믹 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 상기 유전체 세라믹 조성물은 800℃ 이하의 저온에서도 소결이 가능할 뿐만 아니라 유전율( r )이 30~40이고, 품질계수(Q×f 0 )가 5,000~9,000 GHz이며, 공진 주파수 온도계수( f )의 범위가 -20∼-30 ppm/℃이어서 고주파용 유전체 세라믹 부품의 재료로 사용될 수 있는 우수한 특성을 갖는다. [화학식 1] Bi 12 SiO 20 ·x B 2 O 3 (상기 식에서 2몰% x 30몰% 이다.) 유전체, 세라믹, 고주파유전체, BS, B2O3