Abstract:
본 발명은 산처리 과정을 포함하는 강유전체 박막 형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 염기성을 가지는 표면을 식각하고 산성을 가지는 표면을 노출시키기 위해 기판 표면을 산처리하는 단계; 및 상기 산처리 과정을 거친 기판 상에 수열합성법에 의해 페로브스카이트형 강유전체 박막을 형성하는 단계를 포함하는 강유전체 박막 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 마이크로 액추에이터용 무연계 압전 세라믹 박막 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 높은 전기 기계결합계수와 높은 압전상수 및 소결온도를 갖는 마이크로 액추에이터용 무연계 압전 세라믹 박막 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명의 압전 세라믹 박막 제조 방법은 K 2 CO 3 , Na 2 CO 3 , Nb 2 O 5 의 원료 분말을 이용하여 세라믹 표적을 생성하는 단계, 생성한 상기 세라믹 표적을 스퍼터링 챔버에 장착한 후 플라즈마를 이용하여 박막을 형성하는 단계, 형성된 상기 박막을 설정된 산소 압력하에서 후열처리를 수행하는 단계를 포함한다.
Abstract:
A silica glass film formation method for passivating surface using polysilazane is provided to have no deformity by impurity when cured in a room temperature and to form glass film having high density. A glass film formation method for passivating surface comprises steps of: coating polysilazane on a substrate; and curing the polysilazane by using atmospheric pressure plasma process. A process time of the curing step is 10-20 minutes. A processing temperature of the curing step is 50~120°C. A process gas of the atmospheric pressure plasma process is argon gas and oxygen gas.
Abstract:
A structure having a glass protection layer formed on the surface thereof is provided to protect the surface of the structure from scratches, wear, finger printing, dust, etc. while maintaining color or gloss of the substrate, to reduce the entire coating process time, and to allow the glass protection layer to exhibit best physical properties even at room temperature. In a structure having a glass protection layer(240) in which a matrix(210) and a silver coating layer(220) are sequentially formed, a structure having a glass protection layer formed on the surface thereof comprises the glass protection layer formed on the silver coating layer using polysilazane. The structure having a glass protection layer formed on the surface thereof further comprises a coloring layer(230) formed between the silver coating layer and glass protection layer to display gloss and color of the structure. The formation of the glass protection layer is performed using atmospheric pressure plasma hardening, pressurized wet hardening, or seam hardening. The sliver coating layer and glass protection layer are formed by spray coating, dip coating, or spin coating. The glass protection layer is coated to a thickness of 0.1 to 5 mum.
Abstract:
본 발명은 이종 도금 결합방식을 이용한 하이브리드형 고강도 탐침 구조물 및 그 제작 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 반도체 칩 또는 디스플레이의 회로패드와 직접 접촉되는 탐침부는 고강도 도금으로 제작하고, 나머지 스프링부는 패턴의 일부가 상기 탐침부와 상호 겹치도록 정렬한 상태에서 이종의 다른 재질로 도금하여 상기 탐침부와 상기 스프링부가 상호 결합된 형태를 갖는 탐침 구조물 및 그 제작 방법에 관한 것이다. 본 발명의 이종 도금 결합방식을 이용한 하이브리드형 고강도 탐침 구조물 제작 방법은 탐침 구조물을 제작함에 있어서, 기판상에 탐침부를 형성하는 제1단계; 상기 탐침부가 형성된 상기 기판상에 제2감광막을 형성하는 제2단계; 상기 제2감광막에 스프링부 패턴을 형성하는 제3단계; 상기 스프링부 패턴에 도금하는 제4단계; 및 상기 제2감광막을 제거하는 제5단계를 포함한다. 탐침구조물, 이종도금, MEMS, 탐침, 스프링
Abstract:
A hybrid high-strength probe structure manufacturing method using a plating binding method of different kinds of materials is provided to secure mechanical stability of a probe structure and to prevent wear resistance by combining a spring unit with relieved plating stress and a high-strength probe unit through plating using the different kinds of materials. A hybrid high-strength probe structure manufacturing method using a plating binding method of different kinds of materials is composed of steps for forming a probe unit(260) on a substrate; forming a second photosensitive film on the substrate having the probe unit; forming a pattern of a spring unit(270) on the second photosensitive film; plating the pattern of the spring unit; removing the second photosensitive film; separating a probe structure(280) from the substrate; and inserting the probe structure into a carrier hole.
Abstract:
A sheet-type heater is disclosed. The sheet-type heater according to an embodiment of the present invention comprises a conductive exothermic thin film and electrode units mounted on both sides of the conductive exothermic thin film, wherein the conductive exothermic thin film includes a first exothermic portion having a first resistance and a second exothermic portion having a second resistance lower than the first resistance. The second resistance is disposed at the central portion of the conductive exothermic thin film.
Abstract:
PURPOSE: An apparatus for measuring ultraviolet intensity is provided to indicate the ultraviolet ray intensity in a display of a mobile communication terminal. CONSTITUTION: An ultraviolet ray intensity measure system(300) outputs the ultraviolet information of a mobile communication terminal(400) with an input unit(420) and a display(410). An ultraviolet-ray sensor senses the external ultraviolet ray intensity. A connection terminal is connected to a communication port of the mobile communication terminal. A signal processing unit receives a signal from the ultraviolet-ray sensor and processes the ultraviolet information. The signal processing unit has the communication with the mobile communication terminal. A power switch transmits the command signal by user to the signal processing unit.