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    N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체 제조방법 및 N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체를 이용한 내열성 포지티브 레지스트 화상 형성 방법
    12.
    发明授权
    N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체 제조방법 및 N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체를 이용한 내열성 포지티브 레지스트 화상 형성 방법 失效
    生产N-叔丁氧羰基马来酰亚胺与苯乙烯衍生物的共聚物的方法以及用N-叔丁氧羰基马来酰亚胺与苯乙烯衍生物的共聚物形成耐热正性抗蚀剂的方法

    公开(公告)号：KR1019950000702B1

    公开(公告)日：1995-01-27

    申请号：KR1019910010272

    申请日：1991-06-21

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  구덕일 ,  정동욱

    IPC: C08G73/06

    Abstract: The copolymer, useful for a heat-resistant positive resist image, of N-t-butoxycarbonyl maleimide and styrene deriv. is produced by radical polycondensing an N-t-butoxycarbonyl maleimide monomer and a styrene deriv. with a radical initiator. The styrene deriv. is pref. styrene, p-acetoxystyrene, p-methylstyrene, p-t-butoxycarbonyloxystyrene, p-trimethylsillylstyrene or p- chlorinated styrene. The resist image is formed by spin-coating a soln. obtd. by dissolving the copolymer and an onium salt in a chlorobenzene on the silicon wafer, prebaking, ultra-violet exposing and postbaking the coated wafer, and developing it with a developing liquor i.e. trimethylammonium hydroxy soln., anisole, toluene, methylisobutyl ketone or chloroform.

    Abstract translation: 用于耐热正性抗蚀剂图像的共聚物，N-叔丁氧基羰基马来酰亚胺和苯乙烯衍生物。 通过自由基缩聚N-叔丁氧基羰基马来酰亚胺单体和苯乙烯衍生物来制备。 与激进的发起者。 苯乙烯衍生物 是首选 苯乙烯，对乙酰氧基苯乙烯，对甲基苯乙烯，对叔丁氧基羰氧基苯乙烯，对三甲基甲硅烷基苯乙烯或对氯化苯乙烯。 通过旋涂溶胶形成抗蚀剂图像。 obtd。 通过将共聚物和鎓盐溶解在硅晶片上的氯苯中，预烘烤，紫外曝光和后烘烤涂覆的晶片，并用显影液，即三甲基铵羟基溶胶，苯甲醚，甲苯，甲基异丁基酮或氯仿显影。

    N-터셔리-부톡시말레이미드 공중합체 제조방법
    13.
    发明授权
    N-터셔리-부톡시말레이미드 공중합체 제조방법 失效
    生产N-叔丁氧基马来酰亚胺共聚物的方法

    公开(公告)号：KR1019940010966B1

    公开(公告)日：1994-11-21

    申请号：KR1019920003540

    申请日：1992-03-04

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  구덕일 ,  강종희

    IPC: C08F222/40

    Abstract: The N-tert-butoxymaleimide/styrene copolymer is produced by radical- copolymerizing N-tert-butoxymaleimide monomer and styrene derivative in the presence of a radical copolymerization initiator i.e. benzoyl peroxide or azobis (isobutylonitrile). The styrene derivative is pref. styrene, p-acetoxy styrene, p-methyl styrene, p-chloro styrene, m-chloromethyl styrene, p-tert- butoxycarbonyloxy styrene or p-trimethylsilyl styrene. The copolymer is used as a microlithographic resist having a high radiation-sensibility, resolution and heat resistance.

    Abstract translation: N-叔丁氧基马来酰亚胺/苯乙烯共聚物通过在自由基共聚引发剂即过氧化苯甲酰或偶氮双（异丁腈）的存在下，使N-叔丁氧基马来酰亚胺单体和苯乙烯衍生物自由基共聚来制备。 苯乙烯衍生物是优选的。 苯乙烯，对乙酰氧基苯乙烯，对甲基苯乙烯，对氯苯乙烯，间氯甲基苯乙烯，对叔丁氧基羰基氧基苯乙烯或对三甲基甲硅烷基苯乙烯。 该共聚物用作具有高辐射敏感性，分辨率和耐热性的微光刻抗蚀剂。

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