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公开(公告)号:MX2012006941A
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:MX2012006941
申请日:2010-12-15
Applicant: BASF SE
Inventor: HAHN KLAUS , MASSONNE KLEMENS , KRIHA OLAF , HOFMANN MAXIMILIAN , BELLIN INGO , SPIES PATRICK , DEGLMANN PETER , DENECKE HARTMUT , FLECKENSTEIN CHRISTOPH , KINDLER ALOIS , FLUCHS SABINE
Abstract: La invención se refiere al uso de compuestos fosforosos de la fórmula (I) como un pirorretardante, en donde los símbolos de la fórmula (I) tienen los siguientes significados: un grupo Y es -P(=X2)sR3R4, H, un grupo alquilo de C1-C12 de cadena recta o ramificada, cicloalquilo de C5-C6, arilo de C6-C12, bencilo, en donde los cuatro últimos grupos citados son sin sustituir o sustituidos por uno o más radicales del grupo alquilo de C1-C4 o alquenileno de C2-C4; R1, R2, R3 y R4 son el mismo o diferente hidrógeno, OH, alquilo de C1-C16, alquenilo de C2-C16, alcoxi de C1-C16, alquenoxi de C2-C6, cicloalquilo de C3-C6, cicloalcoxi de C3-C10, arilo de C6-C10, ariloxi de C6-C10, arilo de C6-C10-alquilo de C1-C16, arilo de C6-C10-alcoxi de C1-C16, SR9 COR10, COOR11, CONR12R13, o dos radicales R1, R2, R3, R4 forman un sistema en el anillo junto con el átomo fosforoso al cual se unen o el grupo P-O-A-O-P; R5, R6, R7, y R8 son el mismo o diferente H, alquilo de C1-C16, alquenilo de C2-C16, alcoxi de C1-C16, alquenoxi de C2-C16, R9, R10, R11, R12 y R13 son el mismo o diferente H d-de-alquilo, alquenilo de C2-C16, arilo de C6-C10, arilo de C6-C10-alquilo de C1-C16, arilo de C6-C10-alcoxi de C1-C16 X1 y X2 son el mismo o diferente S u O; r y s son el mismo o diferente 0 ó 1, y X3, X4, X5 y X6 son el mismo o diferente S u O y n es un número entero de 1 a 50.
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公开(公告)号:MX2012008974A
公开(公告)日:2012-08-23
申请号:MX2012008974
申请日:2011-02-03
Applicant: BASF SE
Inventor: HAHN KLAUS , MASSONNE KLEMENS , DOERING MANFRED , KRIHA OLAF , FUCHS SABINE , JANSSENS GEERT , HOFMANN MAXIMILIAN , BELLIN INGO , SPIES PATRICK , DEGLMANN PETER , DENECKE HARTMUT , FLECKENSTEIN CHRISTOPH , MICHAEL CIESIELSKI , WAGNER JOCHEN
IPC: B29C65/02 , B29C65/74 , B65B3/00 , B65B3/28 , C08J9/00 , C08K5/51 , C08K5/5398 , G01G13/24 , G01G17/06
Abstract: La invención se refiere a una espuma polimérica que tiene una densidad en el rango entre 5 y 120 kg/m3, conteniendo a) un componente polimérico, conteniendo por lo menos un polímero de estireno, b) 0.1 a 5 partes en peso (relativo a 100 partes en peso de componente a)) de una mezcla retardadora de llama, conteniendo b1) por lo menos un compuesto fosforoso de la fórmula (I) teniendo un contenido fosforoso en el rango entre 5 y 80% en peso, relativo al compuesto fosforoso, (X1)S=PR1R2R3 (I), en donde los símbolos e índices en la fórmula (I) tienen los siguientes significados: R1 es alquilo de C1-C6, hidroxialquilo de C1-C10, alquenilo de C2-C16, alcoxi de C1-C16, alquenoxi de C2-C16, cicloalquilo de C3-C10, cicloalcoxi de C3-C10, arilo de C6-C10, ariloxi de C6-C10, arilo de C6-C10-alquilo de C1-C16, arilo de C6-C10-alcoxi de C1-C16, SR9, COR10, COOR11, CONR12R13; R2 es alquilo de C1-C16, hidroxialquilo de C1-C10, alquenilo de C2-C16, alcoxi de C1-C16, alquenoxi de C2-C16, ciclo-alquilo de C3-C10, cicloalcoxi de C3-C10, arilo de C6-C10, arilo de C6-C10-alquilo de C1-C16, arilo de C6-C10-alcoxi de C1-C16, SR9, COR10, COOR11, CONR12R13; R3 es H, SH, SR4, OH, OR5 o un grupo 30 - (Y1)n[P(=X2)uR6-(Y2)n]mP(=X3)tR7R8; o dos grupos R1, R2, R3 juntos con el átomo fosforoso al cual se unen forman un sistema de anillo; x1, x2 y X3 son independientemente uno del otro de manera idéntica o diferente O o S; Y1, Y2 son de manera idéntica o diferente O o S; R4, R5, R9, R10, R11, R12, R13 son de manera idéntica o diferente alquilo de C1-C12, cicloalquilo de C3-C8, que es no sustituido o sustituido por uno o más grupos alquilo de C1-C4, alquenilo de C2-C12, alquinilo de C2-C12, arilo de C6-C10 o arilo de C6-C10-alquilo de C1-C4; R6, R7, R8 son independientemente uno del otro de manera idéntica o diferente arilo de C6-C10-alquilo de C1-C16, arilo de C6-C10-alcoxi de C6-C10, SR9, COR10, COOR11, CONR12R13; n es 1, si Y1 o Y2 es O, y 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 u 8, si Y1 o Y2 es S; m es un número entero entre 0 y 100; s, t y u son independientemente uno del otro 0 ó 1; y b2) azufre elemental.
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公开(公告)号:BR112022002754A2
公开(公告)日:2022-05-10
申请号:BR112022002754
申请日:2020-09-10
Applicant: BASF SE
Inventor: MEYSAMI MOHAMMAD , MONIRUZZAMAN MOHAMMAD , SPIES PATRICK , STEPHEN J HANLEY
Abstract: artigos moldados, uma composição de poliamida, processos para preparar um artigo moldado e uma composição de poliamida, uso da composição de poliamida e conector elétrico. a presente invenção refere se a uma composição de poliamida fluida por fusão para artigos moldados, particularmente conectores de parede fina, tais como conectores elétricos. a composição de poliamida compreende uma poliamida; ácido 1,2,4,5-benzenotetracarboxílico ou anidrido 1,2,4,5 benzeno tetracarboxílico; e um enchimento fibroso.
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公开(公告)号:BR112022001830A2
公开(公告)日:2022-03-29
申请号:BR112022001830
申请日:2020-09-11
Applicant: BASF SE
Inventor: KELLER ANGELIKA , LONGO-SCHEDEL DANIELA , ISA ALEXANDRA QUEIROZ DA FONSECA , SPIES PATRICK , BIRLI RAINER , HOLSCHUH RENE
Abstract: partículas de espuma de poliamida, processos de preparação de partículas de espuma de poliamida e de moldes, moldes e uso dos moldes. partículas de espuma de poliamida que compreendem uma mistura de polímeros que compreende (a) 25 a 95% em peso de pelo menos uma poliamida que é diferente da copoliamida (b); e (b) 5 a 75% em peso de pelo menos uma copoliamida preparada por meio da polimerização dos componentes a seguir: (b1) 15 a 84% em peso de pelo menos uma lactama, (b2) 16 a 85% em peso de uma mistura de monômeros (m) que compreende (m1) pelo menos um ácido dimérico c32-c40 e (m2) pelo menos uma diamina c4-c12, em que a soma dos componentes (b1) e (b2) é de 100% em peso; processo de preparação dessas partículas de espuma de poliamida e moldes de espuma de partículas de poliamida que podem ser obtidos por meio de modelagem por compressão a vapor.
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公开(公告)号:PL2658905T3
公开(公告)日:2016-02-29
申请号:PL11807928
申请日:2011-12-23
Applicant: BASF SE
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公开(公告)号:MX2012002896A
公开(公告)日:2012-04-02
申请号:MX2012002896
申请日:2010-09-10
Applicant: BASF SE
Inventor: HAHN KLAUS , MASSONNE KLEMENS , KRIHA OLAF , FUCHS SABINE , JANSSENS GEERT , BELLIN INGO , SPIES PATRICK , DEGLMANN PETER , DENECKE HARTMUT , FLECKENSTEIN CHRISTOPH
Abstract: Espumas poliméricas retardadoras de flama libres de halógeno que comprenden, como retardador de flama, por lo menos un compuesto oligofosforoso cíclico o acíclico y proceso para su producción. Ejemplos de compuestos oligofosforosos adecuados son aquellos que tienen la estructura la, Ib, o Ic: (ver fórmulas (Ia, Ib, Ic)) Otro grupo de compuestos oligofosforosos adecuados es que tienen una de las siguientes estructuras IIa, IIb o IIc: (ver formulas (IIa, IIb, IIc)) Los compuestos oligofosforosos de la siguiente estructura III también son adecuados: (ver fórmula) Los radicales R1-R5 se han seleccionado independientemente uno del otro del grupo de alquilo de C1-C16 , alquenilo de C1-C16, alcoxi de C1-C16, alqueniloxi de C1- C16, cicloalquilo de C3-C10, cicloalcoxi de C3-C10, arilo de C6-C10, ariloxi de C6-C10, arilo de C6-C10-alquilo de C1-C16, arilo de C5-C10-alcoxi de C1-C16, NR2R3, COOR2, y CONR2R3 y los radicales X1 y X2, independientemente uno del otro son 0 ó S.
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公开(公告)号:BR112013016682A2
公开(公告)日:2016-10-04
申请号:BR112013016682
申请日:2011-12-23
Applicant: BASF SE
Inventor: FLECKENSTEIN CHRISTOPH , JANSSENS GEERT , DENECKE HARTMUT , BELLIN INGO , WAGNER JOCHEN , HAHN KLAUS , MASSONNE KLEMENS , DÖRING MANFRED , HOFMANN MAXIMILIAN , CIESIELSKI MICHAEL , SPIES PATRICK , DEGLMANN PETER , OSTERMANN RAINER , FUCHS SABINE
Abstract: sistema retardante de chama, usos de uma mistura dos sinergistas retardantes de chama, e de uma composição polimérica isenta de halogênio e/ou de uma composição polimérica, processos para tornar polímeros espumados ou não espumados retardantes de chama, para produzir um polímero de estireno expansível, e para produzir uma espuma de estireno extrusada, e, composição polimérica a invenção diz respeito a um sistema retardante de chama que compreende: a) pelo menos um composto de enxofre da fórmula (i), onde as definições dos símbolos e índices são como segue: r, sendo idênticos ou diferentes, preferivelmente idênticos, é arila c~ 6~-c~ 12~, um grupo heteroarila de 5 a 10 membros que compreende um ou mais heteroátomos do grupo de n, o e s, alquila c~ 1~-c~ 18~, alquila c~ 1~-c~ 18~, alquenila c~ 2~-c~ 18~, alquinila c~ 2~-c~ 18~ ou cicloalquila c~ 3~-c~ 10~; x, sendo idênticos ou diferentes, preferivelmente idênticos, é or^ 2^, sr^ 2^, nr^ 2^r^ 3^, coor^ 2^, so~ 2~r^ 2^, f, cl, br, r, h, ou um grupo -y^ 1^-p(y^ 2^)pr'r''; y^ 1^ é o, s ou nr'''; y^ 2^ é o ou s; p é 0 ou 1; r' e r'', sendo idênticos ou diferentes, preferivelmente idênticos, são alquila c~ 1~-c~ 18~, alquenila c~ 2~-c~ 18~, alquinila c~ 2~-c~ 18~, arila c~ 6~-c~ 12~, cicloalquilac~ 3~-c~ 10~, arila c~ 3~-c~ 10~, arila c~ 6~-c~ 12~-alquila c~ 1~-c~ 18~, um grupo heteroarila ou grupo heteroarilóxi que compreende um ou mais heteroátomos do grupo de n, o e s, o-alquila (c~ 1~-c~ 18~), o-alquenila (c~ 2~-c~ 18~), o-alquinila (c~ 2~-c~ 10~), o-arila (c~ 6~-c~ 12~), o-cicloalquila (c~ 3~-c~ 10~) ou arila (c~ 6~-c~ 12~)-alquila (c~ 1~-c~ 18~)-o; r''' é h, alquila c~ 1~-c~ 18~ ou (p(y^ 2^)pr'r''); r1, sendo idênticos ou diferentes, preferivelmente idênticos, é alquila c~ 1~-c~ 18~, alquenila c~ 2~-c~ 18~, alquinila c~ 2~-c~ 18~, arila c~ 6~-c~ 12~, cicloalquila c~ 3~-c~ 10~, arila c~ 6~-c~ 12~-alquila c~ 1~-c~ 18~, um grupo heteroarila que compreende um ou mais heteroátomos do grupo de n, o e s, o-alquila (c~ 1~-c~ 18~), o-alquenila (c~ 2~-c~ 18~), o-alquinila (c~ 2~-c~ 18~), o-arila (c~ 6~-c~ 12~), o-cicloalquila (c~ 3~-c~ 10~), arila (c~ 6~-c~ 12~)-alquila (c~ 1~-c~ 18~)-o, s-alquila (c~ 1~-c~ 18~), s-alquenila (c~ 1~-c~ 18~), s alquinila (c~ 2~-c~ 18~), s-arila (c~ 6~-c~ 12~), s-cicloalquila (c~ 3~-c~ 10~), arila (c~ 6~-c~ 12~)-alquila (c~ 1]-c~ 18~)-s, oh, f, cl, br ou h; r2 e r3, sendo idênticos ou diferentes, preferivelmente idênticos, são h, alquila c~ 1~-c~ 18~) alquenila c~ 2~-c~ 18~, alquinila c~ 2~-c~ 18~, arila c~ 6~-c~ 12~, cicloalquila c~ 3~-c~ 10~, arila c~ 6~-c~ 12~-alquila c~ 1~-c~ 18~ ou um grupo heteroarila que compreende um ou mais heteroátomos do grupo de n, o e s; n é um número inteiro de 1 a 8 e m é um número de 1 a 1000; b) pelo menos um composto de orgnofósforo isento de halogênio com teor de fósforo na faixa de 0,5 a 40% em peso, com base no composto de fósforo.
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公开(公告)号:BR112012030589A2
公开(公告)日:2016-08-16
申请号:BR112012030589
申请日:2011-05-31
Applicant: BASF SE
Inventor: SCHMIED BERNHARD , BREITSCHEIDEL BORIS , HOLOCH JAN , HAHN KLAUS , KRIHA OLAF , HESSE PASCAL , SPIES PATRICK , LEHNEN UWE-JOHANNES , HUSEMANN WOLFRAM
IPC: C08J9/00
Abstract: composição, processo para produzir composições poliméricas de estireno expansível, e um material de espuma, material de espuma, método para usar um material de espuma e um éster ciclo-hexanocarboxílixo. a invenção se refere a uma composição que contém pelo menos um componente polimérico de estireno expansível e pelo menos um éster do ácido ciclo-hexano carboxílico, e opcionalmente outros componentes. a dita composição pode ser processada para formar espumas mecanicamente carregáveis.
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公开(公告)号:PL2513251T3
公开(公告)日:2015-10-30
申请号:PL10790979
申请日:2010-12-15
Applicant: BASF SE
Inventor: FLECKENSTEIN CHRISTOPH , DENECKE HARTMUT , BELLIN INGO , KRIHA OLAF , SPIES PATRICK , FUCHS SABINE , MASSONNE KLEMENS , HAHN KLAUS , DEGLMANN PETER , HOFMANN MAXIMILIAN , KINDLER ALOIS
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公开(公告)号:ES2545331T3
公开(公告)日:2015-09-10
申请号:ES10790979
申请日:2010-12-15
Applicant: BASF SE
Inventor: FLECKENSTEIN CHRISTOPH , DENECKE HARTMUT , BELLIN INGO , KRIHA OLAF , SPIES PATRICK , FUCHS SABINE , MASSONNE KLEMENS , HAHN KLAUS , DEGLMANN PETER , HOFMANN MAXIMILIAN , KINDLER ALOIS
Abstract: Uso de un compuesto de fósforo de la fórmula (I) como agente ignífugo,**Fórmula** donde los símbolos en la fórmula (I) tienen los siguientes significados: A es un grupo **Fórmula** Y es -P(>=X2)sR3R4, H, un grupo alquilo C1-C12 de cadena recta o ramificada, cicloalquilo C5-C6, arilo C6-C12, bencilo, donde los cuatro últimos grupos mencionados son no sustituidos o sustituidos por uno o varios radicales alquilo C1- C4 o alquenilo C2-C4; R1, R2, R3 y R4 son iguales o diferentes a hidrógeno, OH, alquilo C1-C6, alquenilo C2-C16, alcoxi C1-C16, alquenoxi C2- C16, cicloalquilo C3-C10, cicloalcoxi C3-C10, arilo C6-C10, ariloxi C6-C10, arilo C6-C10 alquilo C1-C16, arilo C6-C10-alcoxi C1-C16, SR9 COR10, COR11, CONR12R13 o dos radicales R1, R2, R3, R4 forman junto con el átomo de fósforo al cual están unidos, o el grupo P-O-A-O-P, un sistema de anillo; R5, R6, R7, R8 son iguales o diferentes a H, alquilo C1-C16-, alquenilo C2-C16, alcoxi C1-C16, alquenoxi C2-C16; R9, R10, R11, R12, R13 son iguales o diferentes a H, alquilo C1-C16, alquenilo C2-C16, arilo C6-C10, arilo C6-C10-alquilo- C1-C16, arilo C6-C10-alcoxi C1-C16; X1, X2 son iguales o diferentes a S u O; r, s son iguales o diferentes a 0 o 1; X3, X4, X5, X6 son iguales o diferentes a S u O y n es un número natural de 1 a 50.
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