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11.
公开(公告)号:DE102019134267A1
公开(公告)日:2021-06-17
申请号:DE102019134267
申请日:2019-12-13
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: SCHALLER RAINER MARKUS , KOLB STEFAN , EBERL MATTHIAS , JOST FRANZ , GASSNER SIMON
IPC: G01N21/17 , B81B7/02 , G01N21/3504
Abstract: Eine photoakustische Detektoreinheit umfasst ein Gehäuse mit einer Öffnung sowie einen photoakustischen Wandler, der dazu ausgelegt ist, optische Strahlung in zumindest eines von einem Drucksignal oder einem Wärmesignal umzuwandeln. Der photoakustische Wandler deckt die Öffnung des Gehäuses ab, so dass der photoakustische Wandler und das Gehäuse einen akustisch dichten Hohlraum ausbilden. In dem akustisch dichten Hohlraum ist ein Druckaufnehmer angeordnet.
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公开(公告)号:DE102023211448B3
公开(公告)日:2025-02-20
申请号:DE102023211448
申请日:2023-11-17
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: KANDLER MICHAEL , EBERL MATTHIAS
Abstract: Es wird eine Schaltungsanordnung zum Betrieb eines resistiven Sensorelements beschrieben. Gemäß einem Ausführungsbeispiel umfasst die Schaltungsanordnung einen ersten Versorgungsanschluss und einen zweiten Versorgungsanschluss, zwischen denen im Betrieb eine Versorgungsspannung anliegt, sowie eine Sensorschaltung mit mindestens einem resistiven Sensorelement. Die Sensorschaltung weist einen ersten Schaltungsknoten und ein zweiten Schaltungsknoten zum Anlegen einer Sensorspannung auf, wobei der erste Schaltungsknoten mit dem ersten Versorgungsanschluss verbunden ist. Die Schaltungsanordnung umfasst weiter eine Sensorversorgungsschaltung, die dazu ausgebildet ist, während eines Messzeitintervalls einen geladenen Kondensator mit dem zweiten Schaltungsknoten elektrisch so zu koppeln, dass die Sensorspannung zwischen dem ersten Schaltungsknoten und dem zweiten Schaltungsknoten größer ist als die Versorgungsspannung.
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公开(公告)号:DE102022107944A1
公开(公告)日:2023-10-05
申请号:DE102022107944
申请日:2022-04-04
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: ELIAN KLAUS , MERBELER FABIAN , SCHALLER RAINER MARKUS , THEUSS HORST , EBERL MATTHIAS
Abstract: Vorgeschlagen wird ein Ultraschallwandler (910) mit wenigstens einem Ultraschallwandlerelement, mit wenigstens einem Halbleiterchip (911), wobei der Halbleiterchip (911) das Ultraschallwandlerelement aufweist, mit wenigstens einem Gehäuse (912), wobei der Halbleiterchip (911) in dem Gehäuse (912) angeordnet ist, wobei der Halbleiterchip (911) in einer formstabilen Einkapselung (913) eingebettet ist, wobei eine Kontaktfläche (914) der Einkapselung (913) zur akustischen Ankopplung des Ultraschallwandlers (910) an eine Verkleidung (920) eingerichtet ist. Vorgeschlagen wird weiter ein Ultraschallwandlersystem und ein Verfahren zum Anbringen des Ultraschallwandlers bzw. Ultraschallwandlersystems.
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14.
公开(公告)号:DE102021103897A1
公开(公告)日:2022-08-18
申请号:DE102021103897
申请日:2021-02-18
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: SCHALLER RAINER MARKUS , EBERL MATTHIAS , JOST FRANZ
Abstract: Ein Gassensor (10) umfasst einen Hohlraum (11), eine zwischen dem Hohlraum (11) und dem Außenraum angeordnete Gasdurchlassstruktur (12), welche ein selektiv gasdurchlässiges Element (12A) enthält, wobei der Hohlraum (11) mit Ausnahme der Gasdurchlassstruktur (12) hermetisch abgeschlossen ist, und ein oder mehrere Sensorelemente (13), welche konfiguriert sind, das Vorhandensein von einem oder mehreren Gasen in dem Hohlraum zu detektieren.
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公开(公告)号:DE102017130988B4
公开(公告)日:2022-07-07
申请号:DE102017130988
申请日:2017-12-21
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: EBERL MATTHIAS , JOST FRANZ
Abstract: Vorrichtung (100), umfassend:einen optischen Breitbandemitter (110), der eingerichtet ist, optische Strahlung (111) bei mehreren Wellenlängen zu emittieren;eine erste hermetisch abgeschlossene Messzelle (120), die mit einem ersten Gas (121) gefüllt ist, wobei das erste Gas (121) eingerichtet ist, die optische Strahlung (111) bei einer oder mehreren vorbestimmten Wellenlängen zumindest teilweise zu absorbieren;ein erstes Mikrofon (130), das in der ersten Messzelle (120) angeordnet und eingerichtet ist, ein erstes Mikrofonsignal (131) in Abhängigkeit von einer photoakustischen Anregung des ersten Gases durch die optische Strahlung (111) zu erzeugen;eine Auswerteschaltung (140), die eingerichtet ist, basierend auf dem ersten Mikrofonsignal (131) ein erstes Messsignal (141) zu erzeugen, das eine Emissionsintensität des optischen Breitbandemitters (110) bei der einen oder den mehreren vorbestimmten Wellenlängen anzeigt;eine zweite hermetisch abgeschlossene Messzelle (220), die mit einem zweiten Gas (221) gefüllt ist, wobei das zweite Gas (221) eingerichtet ist, die optische Strahlung (111) bei der einen oder den mehreren vorbestimmten Wellenlängen zu absorbieren, und wobei das erste Gas (121) und das zweite Gas (221) die gleiche chemische Zusammensetzung aufweisen;ein mit einem zu untersuchenden Gas (250) gefüllter erster Bereich (260), der zwischen dem optischen Breitbandemitter (110) und der zweiten Messzelle (220) angeordnet ist, wobei die erste Messzelle (120) zwischen dem optischen Breitbandemitter (110) und dem mit dem zu untersuchenden Gas (250) gefüllten Bereich (260) angeordnet ist; undein zweites Mikrofon (230), das in der zweiten Messzelle (220) angeordnet und eingerichtet ist, ein zweites Mikrofonsignal (231) in Abhängigkeit von einer photoakustischen Anregung des zweiten Gases (221) durch die optische Strahlung (111) zu erzeugen,wobei die Auswerteschaltung (140) ferner eingerichtet ist, basierend auf dem zweiten Mikrofonsignal (231) und dem ersten Mikrofonsignal (131) ein zweites Messsignal (142) zu erzeugen, das eine Konzentration des zu untersuchenden Gases (250) in dem ersten Bereich (260) anzeigt.
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公开(公告)号:DE102017126635B4
公开(公告)日:2020-10-08
申请号:DE102017126635
申请日:2017-11-13
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: EBERL MATTHIAS , JOST FRANZ , KOLB STEFAN
Abstract: Mikroelektromechanisches Lichtemitterbauelement (100; 200) umfassend:eine Emitterschichtstruktur (110; 210) des mikroelektromechanischen Lichtemitterbauelements (100; 200); undeine induktive Struktur (120; 220) des mikroelektromechanischen Lichtemitterbauelements (100; 200), die, wenn ein Erregerstrom durch die induktive Struktur (120; 220) fließt, ausgebildet ist, um durch elektromagnetische Induktion Wirbelströme in der Emitterschichtstruktur (110; 210) zu induzieren, so dass die Emitterschichtstruktur (110; 210) Licht emittiert, wobei die Emitterschichtstruktur (110; 210) von der induktiven Struktur (120; 220) elektrisch isoliert ist.
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公开(公告)号:DE102017130988A1
公开(公告)日:2019-06-27
申请号:DE102017130988
申请日:2017-12-21
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: EBERL MATTHIAS , JOST FRANZ
Abstract: Vorgeschlagen wird eine Vorrichtung beinhaltend einen optischen Emitter, der eingerichtet ist, optische Strahlung zu emittieren. Ferner beinhaltet die Vorrichtung eine erste hermetisch abgeschlossene Messzelle, die mit einem ersten Gas gefüllt ist. Das erste Gas ist eingerichtet, die optische Strahlung bei einer oder mehreren vorbestimmten Wellenlängen zumindest teilweise zu absorbieren. Weiterhin beinhaltet die Vorrichtung ein erstes Mikrofon, das in der Messzelle angeordnet und eingerichtet ist, ein erstes Mikrofonsignal in Abhängigkeit von einer photoakustischen Anregung des ersten Gases durch die optische Strahlung zu erzeugen. Die Vorrichtung beinhaltet zudem eine Auswerteschaltung, die eingerichtet ist, basierend auf dem ersten Mikrofonsignal ein erstes Messsignal zu erzeugen, das eine Emissionsintensität des optischen Emitters bei der einen oder den mehreren vorbestimmten Wellenlängen anzeigt.
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公开(公告)号:DE102024207878A1
公开(公告)日:2025-03-06
申请号:DE102024207878
申请日:2024-08-19
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: STEINER CHRISTOPH , EBERL MATTHIAS , HUFNAGL JOHANNES
Abstract: Ein Sensorkalibrierungssystem umfasst einen Gassensor, der eingerichtet ist, eine Wärmeleitfähigkeit eines Zielgases zu messen. Der Gassensor umfasst eine Referenzkammer, die ein Referenzgas enthält, eine Messkammer, die ein Messgas enthält, und eine Kalibrierungsschaltung. Das Referenzgas weist ein erstes Wärmeleitfähigkeits-Profil auf und das Messgas weist ein unterschiedliches zweites Wärmeleitfähigkeits-Profil auf, die von einem ersten Umweltstimulus und einem zweiten Umweltstimulus abhängig sind. Die Kalibrierungsschaltung ist eingerichtet, während der erste Umweltstimulus variiert wird und der zweite Umweltstimulus fixiert ist, eine Vielzahl von Messungen zu erfassen. Jede Messung der Vielzahl von Messungen ist repräsentativ für eine Differenz in der Wärmeleitfähigkeit zwischen Wärmeleitfähigkeiten des Referenzgases und des Messgases. Die Kalibrierungsschaltung ist eingerichtet, eine Zielgasempfindlichkeit des Gassensors gegenüber dem Zielgas basierend auf der Vielzahl von Messungen zu bestimmen.
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公开(公告)号:DE102021117778A1
公开(公告)日:2023-01-12
申请号:DE102021117778
申请日:2021-07-09
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: SCHALLER RAINER MARKUS , EBERL MATTHIAS , STEINER CHRISTOPH
IPC: G01D11/24 , B81B7/02 , G01N21/01 , G01N27/00 , G01N27/12 , G01N27/16 , G01N27/18 , G01N27/22 , G01N27/406 , G01N27/74 , G01N29/07 , H01M8/0444
Abstract: Ein Gassensor (10) umfasst ein Sensorelement (1) zur Detektion eines Gases, eine Einkapselung (2), welche das Sensorelement (1) umgibt und eine Öffnung (2A) für den Durchtritt eines zu detektierenden Gases zu dem Sensorelement (1) aufweist, und eine Flammensperre (3A, 4A), welche in der Öffnung (2A) der Einkapselung (2) angeordnet ist.
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20.
公开(公告)号:DE102020120259A1
公开(公告)日:2022-02-03
申请号:DE102020120259
申请日:2020-07-31
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: ELIAN KLAUS , EBERL MATTHIAS , KOLB STEFAN , SCHALLER RAINER MARKUS
Abstract: Ein Gas- oder Druck-Sensormodul (100) umfasst ein erstes Substrat (10), einen oder mehrere auf einer Hauptoberfläche des ersten Substrats (10) ausgebildete Elektronenemitter (20), ein zweites Substrat (30), und ein erstes Beschleunigungsgitter (40), welches zwischen den Elektronenemittern (20) und dem zweiten Substrat (30) angeordnet ist, wobei dem ersten Substrat (10), dem zweiten Substrat (30) und dem Beschleunigungsgitter (40) elektrische Potentiale zuführbar sind, und wobei das Sensormodul (100) für die Aufnahme von einem oder mehreren Gasen in einem räumlichen Bereich zwischen den Elektronenemittern (20) und dem zweiten Substrat (30) ausgebildet ist.
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