Abstract:
A method for producing a structured wavelength conversion layer is disclosed. In an embodiment the method comprises the following steps: - providing a first wavelength conversion layer with wavelength converting properties such that electromagnetic radiation of a first wavelength range is converted into electromagnetic radiation of a second wavelength range, - structuring of the first wavelength conversion layer into first regions and second regions, wherein the wavelength converting properties of the wavelength conversion layer are impaired or removed in the first regions after the structuring. Furthermore, an optoelectronic device with a structured wavelength conversion layer is specified.
Abstract:
A semiconductor nanocrystal structure may include a core, an inner absorption shell surrounding the core, at least one emission shell surrounding the inner absorption shell, and an outer absorption shell surrounding the emission shell(s). The core may include a different material than the optional inner absorption shell and/or the outer absorption shell. The core may be less absorbent to electromagnetic radiation as compared to the optional inner absorption shell and/or the outer absorption shell, An optoelectronic device may include the semiconductor nanocrystal structure.
Abstract:
In einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von lichtemittierenden Halbleiterbauteilen eingerichtet und umfasst die Schritte: A) Bereitstellen einer Glaskapillare (2) aus einem Glasmaterial, B) Befüllen der Glaskapillare (2) mit Leuchtstoffen (3), C) Versiegeln der Glaskapillare (2) in einem Versieglungsbereich (22) durch Aufschmelzen des Glasmaterials, sodass die Glaskapillare (2) durch das Glasmaterial selbst verschlossen wird, und D) Anbringen der versiegelten Glaskapillare (2) an einen Leuchtdiodenchip (4), sodass im Betrieb die von dem Leuchtdiodenchip (4) emittierte Strahlung durch die Leuchtstoffe (3) in sichtbares Licht umgewandelt wird, wobei im Schritt C) ein Abstand zwischen dem Versieglungsbereich (22) und den Leuchtstoffen (3) bei höchstens 7 mm liegt, und wobei die verschiedenen Leuchtstoffe (3) entlang einer Längsachse (L) der Glaskapillare (2) voneinander getrennt vorliegen.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement (100) aufweisend einen Halbleiterchip (1), der zur Emission von Strahlung (5) zumindest über eine Strahlungshauptfläche (11) eingerichtet ist, ein Konverterelement (2), das im Strahlengang des Halbleiterchips (1) angeordnet ist, ein Verkapselungselement (3), das ein Deckelement (31) und ein Seitenelement (32) aufweist und zumindest eine Versiegelung für das Konverterelement (2) vor Umwelteinflüssen bildet, wobei das Deckelement (31) über dem Konverterelement (31) angeordnet ist und das Seitenelement (32) im Querschnitt lateral zum Halbleiterchip (1) und Konverterelement (2) angeordnet ist und den Halbleiterchip (1) umgibt, wobei das Seitenelement (32) und das Deckelement (31) zumindest bereichsweise direkt in Kontakt stehen, wobei das Seitenelement (32) zumindest ein Metall aufweist.
Abstract:
An arrangement (1) is disclosed. The arrangement comprises at least one semiconductor structure (2) configured to convert a primary radiation into a secondary radiation; an encapsulation layer (3) covering the at least one semiconductor structure; and at least one reflective layer (4) arranged on the encapsulation layer. The semiconductor structure is arranged in a center of the arrangement, and a lateral extent of the arrangement is chosen such that an optically resonant condition is fulfilled for a wavelength of the secondary radiation in the encapsulation layer. Methods for producing an arrangement (1) and an optoelectronic device (10) having the same are also disclosed.
Abstract:
A quantum dot structure (1), a radiation conversion element (10) and a light emitting device (100) are disclosed, In an embodiment a quantum dot structure includes an active region (2) configured to emit radiation, a barrier region (3) surrounding the active region and a trap region (4) spaced apart from the active region, wherein a band edge of the trap region forms a trap configuration with respect to the barrier region for at least one type of charge carrier.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement (10, 20) umfasst einen optoelektronischen Halbleiterchip (100, 200) mit optoelektronischen Halbleiterschichten (115, 116, 117, 215, 216, 217), die geeignet sind, elektromagnetische Strahlung (15) zu erzeugen. Die optoelektronischen Halbleiterschichten (115, 116, 117, 215, 216, 217) umfassen eine erste Halbleiterschicht (115, 215), aus der die erzeugte elektromagnetische Strahlung (15) auskoppelbar ist. Das optoelektronische Bauelement (10, 20) umfasst ferner eine Passivierungsschicht (120, 220) in direktem Kontakt mit einer ersten Hauptoberfläche (110, 210) der ersten Halbleiterschicht (115, 215). Die Passivierungsschicht (120, 220) enthält Quantenpunkt-Teilchen (121, 221), welche geeignet sind, eine Wellenlängeder erzeugten elektromagnetischen Strahlung (15) zu konvertieren.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement (1) angeben. Dieses umfassteine Schichtenfolge (2) mit einer aktiven Schicht, die dazu eingerichtet ist im Betrieb des Bauelements eine elektromagnetische Primärstrahlung zu emittieren und zumindest ein Konversionselement (3). Daszumindest eine Konversionselement (3) ist im Strahlengang der elektromagnetischen Primärstrahlung angeordnet und umfasst Quantenpunkte (3a) und ein anorganisches Matrixmaterial. Die Quantenpunkte (3a) sind in dem anorganischen Matrixmaterial verteilt und dazu eingerichtet sind im Betrieb des Bauelements (1) zumindest teilweise die elektromagnetische Primärstrahlung in eine elektromagnetische Sekundärstrahlung zu konvertieren.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement (1) angegeben, das ein Gehäuse (2) aufweist, wobei das Gehäuse (2) wenigstens eine erste Ausnehmung (3A) aufweist. Das Bauelement weist ferner wenigstens einen ersten Halbleiterchip (4A) auf, wobei der erste Halbleiterchip (4A) in der ersten Ausnehmung (3A) angeordnet ist, wobei die erste Ausnehmung (3A) als Reflektor ausgebildet ist zur Reflexion der im Betrieb des ersten Halbleiterchips (4A) erzeugten Strahlung. Der Reflektorweist eine Oberfläche, wobei die Oberfläche zur gezielten Einstellung einer Abstrahlcharakteristik (6) der vom ersten Halbleiterchip (4A) im Betrieb abgestrahlten Strahlung ausgebildet ist. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements (1) angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement umfassend einen Halbleiterchip mit einem aktiven Bereich, der in einem eingeschalteten Zustand elektromagnetische Strahlung mit einem ersten Spektrum emittiert und ein Wellenlängenkonversionselement, das dem Halbleiterchip im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung mit dem ersten Spektrum nachgeordnet ist und zumindest teilweise elektromagnetische Strahlung mit dem ersten Spektrum in elektromagnetische Strahlung mit einem zweiten Spektrum konvertiert. Weiter umfasst das optoelektronische Halbleiterbauelement eine Farbanpassungsschicht, die dem Wellenlängenkonversionselement im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung mit dem ersten Spektrum nachgeordnet ist und die zumindest einen Teil einer von außen auf das Wellenlängenkonversionselement einfallenden elektromagnetischen Strahlung reflektiert. Wobei von außen auf das Wellenlängenkonversionselement einfallende und von dem Wellenlängenkonversionselement reflektierte elektromagnetische Strahlung einen ersten Farbort aufweist, und wobei eine Mischstrahlung, enthaltend die von außen auf das Wellenlängenkonversionselement einfallende und von dem Wellenlängenkonversionselement reflektierte elektromagnetische Strahlung und die von außen auf die Farbanpassungsschicht einfallende und von der Farbanpassungsschicht reflektierte elektromagnetische Strahlung, einen zweiten Farbort aufweist, wobei der zweite Farbort näher an einem Weißpunkt liegt als der erste Farbort.