公开(公告)号：KR101382516B1

公开(公告)日：2014-04-07

申请号：KR1020127027356

申请日：2011-04-18

Applicant: 파나소닉 주식회사

Inventor： 오가와준야 ,  야마우치노리히로 ,  마쓰시마도모아키 ,  아이자와고이치

IPC: H01L41/113 ,  G01J1/02

CPC classification number: H01L41/1136 ,  B81B2201/032 ,  B81C1/00658 ,  G01J5/04 ,  G01J5/046 ,  G01J5/34 ,  G01P15/09 ,  G01P2015/0828 ,  H01L37/02 ,  H01L41/0815 ,  H02N2/186

Abstract: 본 발명의 강유전체(强誘電體) 디바이스는, 실리콘 기판(제1 기판)(10)의 상기 일표면측에 형성된 하부 전극(제1 전극)(14a)과, 하부 전극(14a)에서의 제1 기판(10) 측과는 반대측에 형성된 강유전체막(14b)과, 강유전체막(14b)에서의 하부 전극(14a) 측과는 반대측에 형성된 상부 전극(제2 전극)(14c)을 구비하고, 강유전체막(14b)이, 실리콘과는 격자(格子) 상수차(常數差)가 있는 강유전체 재료에 의해 형성되어 있다. 하부 전극(14a)의 바로 아래에, 실리콘에 비해 강유전체막(14b)과의 격자 정합성(整合性)이 양호한 재료로 이루어지는 완충층(14d)이 형성되고, 제1 기판(10)에, 완충층(14d)에서의 하부 전극(14a) 측과는 반대의 표면을 노출시키는 공동(空洞)(10a)이 형성되어 있다.

公开(公告)号：KR1020120139825A

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：KR1020127027356

申请日：2011-04-18

Applicant: 파나소닉 주식회사

Inventor： 오가와준야 ,  야마우치노리히로 ,  마쓰시마도모아키 ,  아이자와고이치

IPC: H01L41/113 ,  G01J1/02

CPC classification number: H01L41/1136 ,  B81B2201/032 ,  B81C1/00658 ,  G01J5/04 ,  G01J5/046 ,  G01J5/34 ,  G01P15/09 ,  G01P2015/0828 ,  H01L37/02 ,  H01L41/0815 ,  H02N2/186

Abstract: 본 발명의 강유전체(强誘電體) 디바이스는, 실리콘 기판(제1 기판)(10)의 상기 일표면측에 형성된 하부 전극(제1 전극)(14a)과, 하부 전극(14a)에서의 제1 기판(10) 측과는 반대측에 형성된 강유전체막(14b)과, 강유전체막(14b)에서의 하부 전극(14a) 측과는 반대측에 형성된 상부 전극(제2 전극)(14c)을 구비하고, 강유전체막(14b)이, 실리콘과는 격자(格子) 상수차(常數差)가 있는 강유전체 재료에 의해 형성되어 있다. 하부 전극(14a)의 바로 아래에, 실리콘에 비해 강유전체막(14b)과의 격자 정합성(整合性)이 양호한 재료로 이루어지는 완충층(14d)이 형성되고, 제1 기판(10)에, 완충층(14d)에서의 하부 전극(14a) 측과는 반대의 표면을 노출시키는 공동(空洞)(10a)이 형성되어 있다.

公开(公告)号：KR101036063B1

公开(公告)日：2011-05-19

申请号：KR1020080135544

申请日：2008-12-29

Applicant: 가부시끼가이샤 도시바

Inventor： 니시가끼미찌히꼬 ,  나가노도시히꼬 ,  이따야가즈히꼬 ,  가와꾸보다까시

IPC: H02N2/02 ,  H02N2/04 ,  H01L41/04

CPC classification number: H01H57/00 ,  B81B3/0021 ,  B81B2201/032 ,  H01G5/18 ,  H01H2057/006 ,  H01L41/094 ,  H01L41/0973

Abstract: 빔의 휨의 영향을 저감함으로써, 최대 정전 용량이 크고, 또한, 최대 정전 용량 부근에서의 정전 용량의 급준한 변화를 완화시킨 액추에이터 및 이를 사용한 전자 기기를 제공한다. 제1 고정단부로부터 제1 접속단부까지 연장되는 제1 빔과, 제1 고정단부와, 기판을 연결하고, 제1 빔을 기판의 주면의 상방에 간극을 두고 지지하는 제1 고정부와, 제2 접속단부로부터 제1 작용단부까지 연장되고, 제1 빔과 나란히 설치되고, 제1 작용단부로부터 제2 접속단부를 향해서 연장된 제1 슬릿에 의해 분할된 제1 분할부를 갖는 제2 빔과, 제1 접속단부와, 제2 접속단부를 연결하고, 제2 빔을 기판의 주면의 상방에 간극을 두고 유지되는 제1 접속부와, 제1 분할부의 제1 작용단부측의 일부에 대향하고, 기판의 주면에 설치된 제1 고정 전극을 구비한 것을 특징으로 하는 액추에이터가 제공된다.
액추에이터, 제1 빔, 제2 빔, 제1 접속부, 제1 분할부

公开(公告)号：KR20070097264A

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：KR20060028250

申请日：2006-03-29

Applicant: KOREA INST SCI & TECH

Inventor： PARK SUK HO ,  KIM JIN SEOK ,  HONG JU HEE ,  YANG SUNG WOOK ,  SHIN HEE SUP ,  LEE DONG WON ,  LEE SUK CHAN ,  KIM HUI SU

IPC: A61B5/0476

CPC classification number: B81B3/0024 ,  B81B2201/032 ,  B81B2203/051 ,  Y10S310/80

Abstract: A polymer linear actuator for an MEMS(Micro Electro Mechanical System) system and a micro manipulator for measuring a brain signal using the same are provided to increase a driving force of the polymer linear actuator by using a thermal expansion and a thermal contraction of polymer. A polymer linear actuator for an MEMS system includes first and second body units(10,12) and at least one V-type driving unit(37,37'). The first and second body units are apart from each other. The V-type driving units couple the first and second body units with each other. The respective V-type driving units are arranged to face each other and convert a rotation movement from the driving unit to a linear movement. The driving unit includes a polymer hinge(34), a pair of screen driving units(31,32), polymer couplers(36,38), a resistor(35), and a power source. First ends of the silicon driving units are connected to a slant line of a trapezoid of the polymer couplers.

Abstract translation: 提供用于MEMS（微机电系统）系统的聚合物线性致动器和用于测量使用其的脑信号的微操纵器，以通过使用聚合物的热膨胀和热收缩来增加聚合物线性致动器的驱动力。 用于MEMS系统的聚合物线性致动器包括第一和第二主体单元（10,12）和至少一个V型驱动单元（37,37'）。 第一和第二身体单位彼此分开。 V型驱动单元将第一和第二主体单元彼此连接。 相应的V型驱动单元被布置成彼此面对并将来自驱动单元的旋转运动转换成线性运动。 驱动单元包括聚合物铰链（34），一对丝网驱动单元（31,32），聚合物耦合器（36,38），电阻器（35）和电源。 硅驱动单元的第一端连接到聚合物耦合器的梯形的倾斜线。

公开(公告)号：KR1020070047840A

公开(公告)日：2007-05-07

申请号：KR1020077007057

申请日：2005-08-31

Applicant: 주식회사 아도반테스토

Inventor： 타카야나기후미카즈 ,  산페이히로카즈

IPC: H01H61/01 ,  B81B3/00 ,  G02B26/08 ,  H01L35/00

CPC classification number: B81B3/0072 ,  B81B2201/032 ,  B81B2203/0118 ,  G02B26/0866 ,  H01H61/02 ,  H01H2061/006

Abstract: 산화 실리콘층과, 산화 실리콘층상에 형성되고, 산화 실리콘층의 열팽창률보다 높은 열팽창률을 갖는 고팽창률층과, 산화 실리콘층의 표면을 덮고, 시간의 경과에 따른 변화로 인한 산화 실리콘층의 변형을 방지하는 변형 방지막을 포함하는 바이모르프 소자가 제공된다. 변형 방지막은, 수분 및 산소의 투과율이 산화 실리콘층보다 낮아도 좋고, 산화 실리콘층을 형성하는 경우보다 높은 에너지로 막이 형성되는 산화 실리콘이어도 좋고, 질화 실리콘의 막이어도 좋고, 금속의 막이어도 좋다.
바이모르프 소자, 바이모르프 스위치, 미러 소자, 산화 실리콘, 열팽창률.

公开(公告)号：EP3343266A1

公开(公告)日：2018-07-04

申请号：EP17172107.9

申请日：2017-05-20

Applicant: STMicroelectronics S.r.l.

Inventor： COSTANTINI, Sonia ,  CARMINATI, Marta ,  GATTI, Daniela Angela Luisa ,  CASTOLDI, Laura Maria ,  CARMINATI, Roberto

IPC: G02B26/08 ,  B81B7/00

CPC classification number: G02B26/0833 ,  B81B3/0083 ,  B81B2201/032 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/0307 ,  B81B2203/058 ,  B81C1/00714 ,  B81C2203/032 ,  G02B26/105

Abstract: The micro-electro-mechanical device (20) is formed in a first wafer (40) overlying and bonded to a second wafer (70). A fixed part (91), a movable part (92), and elastic elements, elastically coupling the movable part and the fixed part, are formed in the first wafer. The movable part carries actuation elements (60) configured to control a relative movement, such as a rotation, of the movable part with respect to the fixed part. The second wafer is bonded to the first wafer through projections (66) of the first wafer, formed by selectively removing part of a semiconductor layer (43). The composite wafer formed by the first and second wafers is cut to form a plurality of MEMS devices.

公开(公告)号：EP2945276A4

公开(公告)日：2016-07-27

申请号：EP13868579

申请日：2013-12-27

Applicant: ALPS ELECTRIC CO LTD ,  NAT INST OF ADVANCED IND SCIEN

Inventor： TAKATSUKA TOMOMASA ,  TAKAHASHI ISAO ,  SUGAWARA TEPPEI ,  MITSUMORI KENICHI ,  ASAKA KINJI ,  SUGINO TAKUSHI

IPC: H02N11/00 ,  C08K3/04 ,  C08K7/02 ,  C08L101/00

CPC classification number: B81B3/0021 ,  B81B2201/032 ,  F03G7/005

Abstract: Provided is a polymer actuator element that can maintain satisfactory durability and has a great displacement amount or a great generating force, and excellent responsiveness. A polymer actuator element 1 includes an electrolyte layer 2 and electrode layers 3 and 4, in which the electrode layers 3 and 4 include an activated carbon nanofiber and a carbon nanohorn.

公开(公告)号：EP3009395A1

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：EP15188669.4

申请日：2015-10-07

Applicant: Ricoh Company, Ltd.

Inventor： NAKAGAWA, Jun ,  HASHIGUCHI, Tsuyoshi ,  WATANABE, Eri ,  AKANUMA, Goichi ,  KITAZAWA, Tomofumi

IPC: B81B3/00 ,  H01L41/053 ,  H01L41/113

CPC classification number: G02B26/101 ,  B81B3/0045 ,  B81B2201/032 ,  B81B2201/042 ,  G02B26/0858 ,  H04N9/3129

Abstract: A light deflector (2, 30) is provided including a mirror unit (4) having a light reflection plane, a movable frame (6) to support the mirror unit (4), a support frame (8) disposed to surround the movable frame (6), and a pair of serpentine beams (10, 12). In the light deflector (2, 30), the serpentine beam has one end attached to the support frame (8), and another end attached to the movable frame (6), the mirror unit (4) oscillates as deformation of the serpentine beams (10, 12) caused by application of voltage is transferred to the mirror unit (4) through the movable frame (6), and a portion that moves due to the deformation of the serpentine beams (10, 12) is provided with a vibration damper (16) which reduces vibration for the mirror unit (4).

公开(公告)号：EP2571156B1

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：EP11780513.5

申请日：2011-04-27

Applicant: Konica Minolta Holdings, Inc.

Inventor： HIGASHINO Kusunoki ,  MATSUDA Shinya

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16 ,  B81B3/00 ,  H01L41/09 ,  H01L41/047

CPC classification number: H01L41/0973 ,  B41J2/14233 ,  B41J2/161 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1645 ,  B41J2/1646 ,  B81B3/0072 ,  B81B2201/032 ,  B81B2203/0127 ,  H01L41/0475

公开(公告)号：EP2322971B1

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：EP10177223.4

申请日：2006-02-23

Applicant: Pixtronix, Inc.

Inventor： Hagood, Nesbitt W. ,  Steyn, Jasper Lodewyk

IPC: G02B26/02 ,  G09G3/34

CPC classification number: G09G3/3433 ,  B81B3/0054 ,  B81B2201/032 ,  B81B2201/038 ,  B81B2201/045 ,  B81B2203/051 ,  G02B26/02 ,  G02B26/0841 ,  G09G2300/0809 ,  G09G2310/0262