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公开(公告)号：TWI437378B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW100106532
申请日：2011-02-25
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德仁特 威廉 彼得 , VAN DRENT, WILLIAM PETER
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01B11/0608 , G03F9/7034 , G03F9/7096
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公开(公告)号：TWI436171B
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW100108807
申请日：2011-03-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 拉法瑞 雷孟德 威黑墨斯 路易斯 , LAFARRE, RAYMOND WILHELMUS LOUIS , 羅賽特 耐可 賈可伯斯 喬漢 , ROSET, NIEK JACOBUS JOHANNES , 茲德拉夫科夫 亞歷山得 尼可拉夫 , ZDRAVKOV, ALEXANDER NIKOLOV , 史都丹 真 威廉 , STOUWDAM, JAN WILLEM , 比傑 伯那都斯 蘭伯杜斯 喬納斯 , BIJL, BERNARDUS LAMBERTUS JOHANNES
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70716
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公开(公告)号：TW201416803A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102133245
申请日：2013-09-13
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 畢瑞恩斯 洛德 安東尼斯 凱薩琳娜 瑪利亞 , BEERENS, RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA , 瑞登 羅布 喬漢 希鐸 , RUTTEN, ROB JOHAN THEODOOR , 威斯特雷肯 禎 史蒂芬 克里斯丁 , WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN , 薩爾 柯恩 賈可布 喬哈奈 馬瑞亞 , ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 凡 黎紗 李查 亨利克斯 雅卓安尼斯 , VAN LIESHOUT, RICHARD HENRICUS ADRIANUS , 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70725 , G01D5/34 , G01D5/38 , G03F7/70775 , G03F7/70933
Abstract: 一種平台系統，其包括：一可移動平台；及一編碼器，其用於量測該平台之一位置，其中該編碼器包括用於發射一編碼器光束之一發射器、用於與該編碼器光束相互作用之一光柵，及用於偵測已與該光柵相互作用之該編碼器光束之一偵測器，該編碼器光束在使用時沿著一光學路徑傳播；一淨洗罩蓋，其至少部分地圍封該光學路徑；及一淨洗介質供應器件，其用於將一淨洗介質供應至該淨洗罩蓋中。
Abstract in simplified Chinese: 一种平台系统，其包括：一可移动平台；及一编码器，其用于量测该平台之一位置，其中该编码器包括用于发射一编码器光束之一发射器、用于与该编码器光束相互作用之一光栅，及用于侦测已与该光栅相互作用之该编码器光束之一侦测器，该编码器光束在使用时沿着一光学路径传播；一净洗罩盖，其至少部分地围封该光学路径；及一净洗介质供应器件，其用于将一净洗介质供应至该净洗罩盖中。
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公开(公告)号：TWI434128B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW098138291
申请日：2009-11-11
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 克魯辛賈 馬修斯 , KRUIZINGA, MATTHIAS , 奧爾 法蘭克 , AUER, FRANK , 傑考伯 法蘭西可斯 馬休傑斯 , JACOBS, FRANSISCUS MATHIJS , 韓森 羅尼 賀曼 安娜 , HENSEN, RONNIE HERMAN ANNA
IPC: G03B27/58
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70733
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公开(公告)号：TW201413400A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102144702
申请日：2009-09-21
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 戴 嘉格 派特 威廉 鶴鳴 , DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 斑尼 維頂 維根維齊 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 班斯洽普 喬茲夫 佩勒斯 韓瑞卡 , BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS , 桂 成群 , GUI, CHENG-QUN , 昂夫里 喬漢斯 , ONVLEE, JOHANNES , 范 茲維 愛爾恩 約翰 , VAN ZWET, ERWIN JOHN
CPC classification number: G03F7/70183 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 在一實施例中，本發明揭示一種微影裝置，該微影裝置包括：一調變器，該調變器經組態以將基板之一曝光區域曝光於根據一所要圖案所調變之複數個光束；及一投影系統，該投影系統經組態以將該等經調變光束投影至該基板上。該調變器可相對於該曝光區域可移動，及/或該投影系統可具有用以接收該複數個光束之一透鏡陣列，該透鏡陣列係相對於該曝光區域可移動。
Abstract in simplified Chinese: 在一实施例中，本发明揭示一种微影设备，该微影设备包括：一调制器，该调制器经组态以将基板之一曝光区域曝光于根据一所要图案所调制之复数个光束；及一投影系统，该投影系统经组态以将该等经调制光束投影至该基板上。该调制器可相对于该曝光区域可移动，及/或该投影系统可具有用以接收该复数个光束之一透镜数组，该透镜数组系相对于该曝光区域可移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI431434B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW099144837
申请日：2006-06-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 潭 凱 尼可拉斯 , TEN KATE, NICOLAAS , 坎普 尼可拉斯 魯道夫 , KEMPER, NICOLAAS RUDOLF , 東德 史傑德 尼可拉斯 藍伯特 , DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS , 胡甄丹 克莉絲汀娜 艾利珊卓 , HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER , 舒洛普 瑟吉 , SHULEPOV, SERGEI
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , H01L21/67034
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公开(公告)号：TWI430050B
公开(公告)日：2014-03-11
申请号：TW100102145
申请日：2011-01-20
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 迪瑞克 丹尼爾 約瑟夫 馬利亞 , DIRECKS, DANIEL JOZEF MARIA , 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA , 凡 德 唐真 賽曼斯 裘漢納斯 葛瑞德斯 , VAN DEN DUNGEN, CLEMENS JOHANNES GERARDUS , 史屈普斯 梅克爾 阿德里阿奴斯 克爾內里斯 , SCHEPERS, MAIKEL ADRIANUS CORNELIS , 蘇雷波夫 塞爾傑 , SHULEPOV, SERGEI , 穆德 派得 , MULDER, PIETER , 貝瑟斯 大衛 , BESSEMS, DAVID , 巴瑞格納 馬可 , BARAGONA, MARCO
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03B27/52
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公开(公告)号：TWI428709B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW100110847
申请日：2011-03-29
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 飛利浦 丹尼 瑪莉亞 赫伯特斯 , PHILIPS, DANNY MARIA HUBERTUS , 迪瑞克 丹尼爾 約瑟夫 馬利亞 , DIRECKS, DANIEL JOZEF MARIA , 凡 德 唐真 賽曼斯 裘漢納斯 葛瑞德斯 , VAN DEN DUNGEN, CLEMENS JOHANNES GERARDUS , 史屈普斯 梅克爾 阿德里阿奴斯 克爾內里斯 , SCHEPERS, MAIKEL ADRIANUS CORNELIS , 柏克文斯 保羅 佩托拉斯 強漢斯 , BERKVENS, PAUL PETRUS JOANNES , 凡 德 禪登 馬可 約翰那斯 , VAN DER ZANDEN, MARCUS JOHANNES , 穆德 派得 , MULDER, PIETER
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , Y10T137/86292
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公开(公告)号：TWI428708B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW099143354
申请日：2010-12-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 文 德 蘭恩 漢斯 , VAN DER LAAN, HANS , 霍夫曼 捷羅德 卡拉斯 喬納斯 , HOFMANS, GERARDUS CAROLUS JOHANNUS , 麥格奴森 史芬 古納 克利斯特 , MAGNUSSON, SVEN GUNNAR KRISTER , 巴特勒 漢斯 , BUTLER, HANS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/709 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70666 , G03F7/70725 , G03F9/7088
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公开(公告)号：TWI428706B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW099135486
申请日：2010-10-18
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 凡 德 科克霍夫 馬庫斯 愛得瑞奴司 , VAN DE KERKHOF, MARCUS ADRIANUS , 維南馬 威廉 朱瑞奴司 , VENEMA, WILLEM JURRIANUS , 莫依司特 比爾愛曲 , MOEST, BEARRACH , 馬提雅司 瑟拉歐 瓦司科 米古爾 , MATIAS SERRAO, VASCO MIGUEL , 邦霍夫 西德倫 , BOMHOF, CEDRAN
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70775 , B21B38/00 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7026 , G03F9/7088 , G03F9/7092 , H01J2235/062
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