Abstract:
Provided is an electron beam generating apparatus capable of easily controlling electron beam energy to obtain the energy beam of desired energy in one electron beam generating apparatus. The electron beam generating apparatus includes an electron generation part generating electrons, a chamber providing a space where the electrons generated from the electron generation part progresses, and an RF generation part generating high frequency wave and providing the high frequency wave to the chamber and the electron generation part. [Reference numerals] (112) Power unit;(12) RF generation part;(121) Attenuator;(122) Phase transformation unit
Abstract:
본 발명은 형광표시(VFD:vacuum fluorescent display)장치용 가속 그리드 패턴 및 그 제조방법에 관한 것으로 가속 그리드(grid)의 홀 사이즈(hole size)를 상대적으로 중심부는 크게하고 가장자리로 갈수록 작게하여 가속 그리드와 캐소드(cathod) 간의 전기장을 중심부보다 가장자리부가 더 크도록 설계하므로써, 종래 캐소드의 온도차에 의해 야기되던 불균일한 전자방출을 전기장 차를 이용하여 균일하게 할수 있어 상기 장치의 중심부와 가장자리 간의 휘도차를 줄일수 있는 고신뢰성의 가속 그리드를 실현할수 있게 된다.
Abstract in simplified Chinese:提供一种系统,该系统包含一基板处理腔室、一或更多注入器、及一控制器。该一或更多注入器将一负电性气体、一基准正电性气体、及一额外正电性气体注入至该基板处理腔室中。该负电性气体包含一蚀刻前驱物。该额外正电性气体与该基板处理腔室中的一等离子相混合并使该等离子之电子密度提高。该控制器系用以基于该负电性气体的一压力或该额外正电性气体的一电子亲和力位准其中至少一者而设置该额外正电性气体的量、流率、或压力。