度量方法與裝置、基板、微影系統及元件製造方法
    217.
    发明专利
    度量方法與裝置、基板、微影系統及元件製造方法 审中-公开
    度量方法与设备、基板、微影系统及组件制造方法

    公开(公告)号:TW201400993A

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:TW102117423

    申请日:2013-05-16

    CPC classification number: G03F7/70625 G03F7/70483 G03F7/70633 G03F7/70683

    Abstract: 藉由一微影程序形成於一基板上之一度量目標包括複數個組件光柵。使用由該等組件光柵繞射之輻射之+1階及-1階而形成該目標之影像。識別對應於該等組件光柵的經偵測影像中之所關注區(ROI)。在若干影像之間處理及比較每一ROI內之強度值,以獲得不對稱性之一量測且因此獲得疊對誤差。將分離區帶形成於該等組件光柵之間且設計成在該影像中提供暗區。在一實施例中,將該等ROI選擇為其邊界屬於對應於該等分離區帶之該等影像區。藉由此措施,使該不對稱性量測更容許該ROI之位置變化。該等暗區亦輔助該等影像中之該目標之辨識。

    Abstract in simplified Chinese: 借由一微影进程形成于一基板上之一度量目标包括复数个组件光栅。使用由该等组件光栅绕射之辐射之+1阶及-1阶而形成该目标之影像。识别对应于该等组件光栅的经侦测影像中之所关注区(ROI)。在若干影像之间处理及比较每一ROI内之强度值,以获得不对称性之一量测且因此获得叠对误差。将分离区带形成于该等组件光栅之间且设计成在该影像中提供暗区。在一实施例中,将该等ROI选择为其边界属于对应于该等分离区带之该等影像区。借由此措施,使该不对称性量测更容许该ROI之位置变化。该等暗区亦辅助该等影像中之该目标之辨识。

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