公开(公告)号：KR1020170069969A

公开(公告)日：2017-06-21

申请号：KR1020170070807

申请日：2017-06-07

Applicant: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

Inventor： 타네다야스유키 ,  야마나카요시로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/3002 ,  B01J19/087 ,  B01J2219/0801 ,  B01J2219/085 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0875 ,  C01B13/10 ,  H01J37/045 ,  H01J37/147 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/15 ,  H01L21/027 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/0275 ,  H01L21/67034

Abstract: 오존공급장치에있어서, 오존가스를생성하는오존발생기와, 상기오존발생기에의해생성된상기오존가스의유량을제어하는제1 유량제어기구와, 진공장치에공급되는상기오존가스의유량을제어하는제2 유량제어기구와, 상기제1 유량제어기구의이차측이고, 상기제2 유량제어기구의일차측에설치되고, 상기제1 유량제어기구에의해내부압력이대기압보다낮아지도록제어된유량으로상기오존가스가도입되는주배관을구비한다.

Abstract translation: 第一流量控制机构，用于控制由臭氧发生器产生的臭氧气体的流量;以及第二流量控制机构，用于控制供应给真空装置的臭氧气体的流量 以及第二流量控制机构，其设置在所述第二流量控制机构的一次侧，并被所述第一流量控制机构控制为内部压力比所述大气压低， 并且引入臭氧气体的主管道。

公开(公告)号：KR1020160125442A

公开(公告)日：2016-10-31

申请号：KR1020167025931

申请日：2015-02-19

Applicant: 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.

Inventor： 빌란트마르코얀-야코

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/04 ,  H01J37/30 ,  H01J37/302

CPC classification number: H01J37/3174 ,  H01J37/045 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3026 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/31769 ,  H01J2237/3175

Abstract: 본발명은하나이상의하전입자빔을사용하여대상물상에패터닝될디지털레이아웃패턴을수신하는단계; 알파근접함수와베타근접함수의합을포함하는기저근접함수를선택하는단계 - 상기알파근접함수는단거리근접효과를모델링하고상기베타근접함수는장거리근접효과를모델링하며, 상수η는상기합에서의베타근접함수와알파근접함수사이의비로서정의되고 0

Abstract translation: 本发明涉及一种用于执行带电粒子束邻近效应校正的方法，包括以下步骤：使用一个或多个带电粒子束将待图案化的数字布局图案接收到目标上; 选择包括α和β接近度函数之和的基本接近函数，其中所述α接近函数模拟短距离邻近效应，并且所述β接近函数模拟远距离邻近效应，其中恒定和近似函数 被定义为所述总和中β接近函数和α接近函数之间的比率，其中0 <＆eegr; <1; 确定对应于所述基本邻近效应函数的修改的接近度函数，其中所述α邻近函数已被Dirac delta函数代替，并且使用电子处理器执行所述数字布局图案与所述修改的接近函数的去卷积，以产生经校正的 布局模式。

公开(公告)号：KR1020150070309A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：KR1020157012596

申请日：2013-10-11

Applicant: 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.

Inventor： 블라닉,제프리챨스 ,  위버,윌리암티.

IPC: H01J27/08 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/302 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J27/024 ,  H01J27/08 ,  H01J37/08 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/30472 ,  H01J2237/3171

Abstract: 이온소스는아크챔버를정의하는아크챔버하우징을포함한다. 아크챔버하우징은고정된위치에추출플레이트를갖고, 추출플레이트는복수개의추출개구들을정의한다. 이온소스는또한추출플레이트에근접하여아크챔버의외측에위치된셔터어셈블리를포함한다. 셔터어셈블리는하나의시간간격(time interval) 동안에복수개의추출개구들중 적어도하나의부분을차단하도록구성된다. 이온소스로부터추출된이온빔으로처리될작업물의상대적움직임과결합된이온소스는단지하나의이온소스를이용하여 2 차원이온주입패턴이작업물상에형성되는것을가능하게한다.

公开(公告)号：KR1020130090806A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：KR1020130009682

申请日：2013-01-29

Applicant: 캐논 가부시끼가이샤

Inventor： 츠치야고 ,  모리타도모유키

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3007 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/30488 ,  H01L21/0274 ,  G03F1/20 ,  H01L21/02689

Abstract: PURPOSE: An image drawing device and a method for manufacturing an article are provided to improve a throughput by drawing a plurality of charged particle beams on a substrate. CONSTITUTION: A stage is controlled by a stage control circuit. A digital to analog conversion circuit is formed on an output terminal. The output terminal is formed on a deflector signal control circuit (109). A signal processing circuit (107) processes a signal of an electron beam detecting unit. A lens control circuit (106) controls an electrostatic lens. [Reference numerals] (100) Control unit; (101) Lens control circuit; (102) Writing pattern generating circuit; (103) Bitmap converting circuit; (104) Energy quantity command generating circuit; (105) Blanking control circuit; (106) Lens control circuit; (107) Signal processing circuit; (108) Stage control circuit; (109) Deflector signal control circuit; (110) Deflector amplifier; (111) Data memory circuit; (112) Synchronous clock signal generating circuit; (113) Bitmap memory; (114) Deflection speed calculating circuit

Abstract translation: 目的：提供一种图像绘制装置和用于制造制品的方法，以通过在基板上拉制多个带电粒子束来提高产量。 构成：舞台由舞台控制电路控制。 在输出端子上形成数模转换电路。 输出端子形成在偏转器信号控制电路（109）上。 信号处理电路（107）处理电子束检测单元的信号。 透镜控制电路（106）控制静电透镜。 （附图标记）（100）控制单元; （101）镜头控制电路; （102）写入模式生成电路; （103）位图转换电路; （104）能量指令发生电路; （105）消隐控制电路; （106）镜头控制电路; （107）信号处理电路; （108）舞台控制电路; （109）偏转器信号控制电路; （110）偏转放大器; （111）数据存储电路; （112）同步时钟信号发生电路; （113）位图存储器; （114）变速计算电路

公开(公告)号：KR1020160066510A

公开(公告)日：2016-06-10

申请号：KR1020150167499

申请日：2015-11-27

Applicant: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 ,  엔.티.티. 어드밴스 테크놀로지 가부시키가이샤

Inventor： 치바카즈히로 ,  마츠모토히로시 ,  오가사와라무네히로 ,  요시카와료이치 ,  모리타히로후미 ,  야마다히로카즈 ,  사후테루아키 ,  코니시토시후미 ,  마츠시마타카아키 ,  쿠도카즈히사 ,  야노마사키 ,  마치다카츠유키

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  G03F1/20

CPC classification number: H01J37/045 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/0432 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/3175 ,  H01J2237/31774

Abstract: 본발명의일 태양의멀티빔의블랭킹애퍼처어레이장치의제조방법은, 하층측으로부터제1 절연막과제1 금속막과제2 절연막과제2 금속막이표면에차례로적층된기판을이용하여, 제2 금속막상에복수의전극과복수의패드를형성하고, 제2 금속막의일부를에칭에의해제거하고, 복수의전극과복수의패드와제2 금속막의잔부를마스크로하여, 제2 절연막을에칭에의해제거하고, 각각이복수의전극중 쌍이되는전극끼리사이의위치에서기판을관통하는복수의개구부를형성하고, 제2 금속막의일부를에칭에의해제거할시, 각각복수의전극중 1 개와복수의패드의 1 개를연결하는복수의영역에제2 금속막의일부가각각잔존하도록제2 금속막이에칭되고, 기판면상방으로부터보아, 복수의개구부의형성후에있어서의복수의개구부전체를포함하는영역이, 복수의전극과복수의패드와제1과제2 금속막에의해절연막이노출되지않도록형성된다.

Abstract translation: 根据本发明的实施例的用于制造用于多个光束的消隐孔阵列器件的方法包括以下步骤：在第二金属膜上形成多个电极和多个焊盘，其中使用基板，第一绝缘膜与第一绝缘膜 金属膜和第二绝缘膜与第二金属膜一起从下层侧交替堆叠; 通过蚀刻去除一部分第二金属膜; 通过使用电极，焊盘和第二金属膜的剩余部分作为掩模通过蚀刻去除第二绝缘膜; 并且形成多个开口，每个开口在电极之间成对的两个电极之间的位置处穿透基板。 当通过蚀刻去除第二金属膜的一部分时，第二金属膜的一部分保留在多个区域中的每一个中，每个区域将电极中的一个连接到焊盘中的一个。 在形成开口之后，当从基板表面的上侧观察时，形成包括整个开口的区域，以防止绝缘膜被电极，焊盘，第一金属膜和第二金属膜暴露。

公开(公告)号：KR1020160034213A

公开(公告)日：2016-03-29

申请号：KR1020150131547

申请日：2015-09-17

Applicant: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

Inventor： 타네다야스유키 ,  야마나카요시로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/3002 ,  B01J19/087 ,  B01J2219/0801 ,  B01J2219/085 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0875 ,  C01B13/10 ,  H01J37/045 ,  H01J37/147 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/15

Abstract: 오존공급장치에있어서, 오존가스를생성하는오존발생기와, 상기오존발생기에의해생성된상기오존가스의유량을제어하는제1 유량제어기구와, 진공장치에공급되는상기오존가스의유량을제어하는제2 유량제어기구와, 상기제1 유량제어기구의이차측이고, 상기제2 유량제어기구의일차측에설치되고, 상기제1 유량제어기구에의해내부압력이대기압보다낮아지도록제어된유량으로상기오존가스가도입되는주배관을구비한다.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施方案，提供了一种能够提供高浓度臭氧气体的臭氧提供装置，臭氧提供方法和使用该臭氧提供装置的带电粒子束描绘系统。 臭氧提供装置包括：产生臭氧气体的臭氧发生器; 第一流量控制装置，其控制臭氧发生器产生的臭氧气体的流动; 第二流量控制装置，其控制提供给真空装置的臭氧气体的流量;以及主管，其安装在所述第一流量控制装置的次级端和所述第二流量控制装置的主端上，并且所述臭氧气体 被引入其内部压力被第一流量控制装置控制到低于大气压力的流量。

公开(公告)号：KR1020160007443A

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：KR1020150098701

申请日：2015-07-10

Applicant: 아이엠에스 나노패브릭케이션 아게

Inventor： 플라츠굼머엘마

IPC: H01J37/302 ,  H01J37/317 ,  H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  G06F17/50

CPC classification number: H01J37/3177 ,  G06F17/5072 ,  G06F17/5081 ,  H01J37/045 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3026 ,  H01J37/3175 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/3175 ,  H01J2237/31764

Abstract: 가능하게는상이한타입의기준기록툴에매치하도록하전입자멀티빔처리장치에서타겟에소정의패턴을노출시키도록및/또는상기타겟위의이미지에어리어의적어도하나의방향을따른임계치수의소정의값으로부터상기패턴형성장치로부터상기타겟으로의이미지화의편차를보상하도록구성되어있다. 이러한소정의패턴(160)은타겟위의이미지에어리어에, 래스터그래픽스(161)와같은, 기준툴에적절한그래픽표현으로서제공된다. 이러한그래픽표현의엘리먼트로부터상기엘리먼트의공칭위치주위에중심이있는화소의그룹으로의맵핑을기술하는컨볼루션커널(162)이사용된다. 이러한컨볼루션커널과의그래픽표현의컨볼루션에의해공칭노출패턴이계산되는데, 상기공칭노출패턴은상기처리장치에의해노출될때 타겟위에공칭선량분포를생성하기에적절하다.

Abstract translation: 用于匹配不同参考记录工具的带电粒子多光束处理装置被配置为根据目标上的图像区域的至少一个方向将目标图像与图案形成装置的预定阈值的预定阈值进行补偿 或者将预定图案暴露给目标。 预定图案（16）被提供为适合于诸如目标图像区域上的光栅图形（161）的参考工具的图形表达。 卷积核心（162）用于描述图形表达式的元素到元素的标称位置的中心上的像素组的映射。 标称曝光图案通过卷积核的图形表达式卷积计算，以便当标称曝光图案暴露于处理装置时，产生目标上的标称剂量分布。

公开(公告)号：KR1020150104042A

公开(公告)日：2015-09-14

申请号：KR1020150029117

申请日：2015-03-02

Applicant: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

Inventor： 오가사와라무네히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3177 ,  H01J37/045 ,  H01J37/3007 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/12 ,  H01L21/0275 ,  G03F7/20

Abstract: 멀티 하전 입자빔 묘화 장치는, 멀티빔을 형성하는 애퍼처 부재와, 상기 애퍼처 부재의 복수의 개구부를 통과한 멀티빔 중, 각각 대응하는 빔의 블랭킹 편향을 행하는 복수의 블랭커가 배치된 블랭킹 플레이트와, 상기 복수의 블랭커에 의해 빔 OFF의 상태가 되도록 편향된 각 빔을 차폐하는 블랭킹 애퍼처 부재와, 상기 애퍼처 부재를 격자로서 이용한, 하전 입자빔의 구면 수차를 보정하는 제1 격자 렌즈와, 상기 격자 렌즈에 의해 발생한 고차의 구면 수차를 보정하는 보정 렌즈를 구비한 것을 특징으로 한다.

Abstract translation: 一种多带电粒子束光刻设备，包括：用于形成多光束的孔径部件; 在多个光束中通过孔径构件的多个开口部分布置有多个消光器进行相应光束的消隐偏振的消隐板; 遮挡孔径构件，其遮蔽每个偏振光束以由遮光器形成光束关闭状态; 使用孔径构件作为栅格的，校正带电粒子束的球面像差的第一栅格透镜; 以及校正由球面透镜产生的高阶球面像差的校正透镜。

公开(公告)号：JP2015204450A

公开(公告)日：2015-11-16

申请号：JP2014085050

申请日：2014-04-16

Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー

Inventor： 野村 春之

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01J37/1471 ,  H01J37/045 ,  H01J37/10 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/1502

Abstract: 【目的】従来よりもさらに分解能を向上させる装置を提供する。 【構成】本発明の一態様の電子ビーム描画装置は、電子ビームを放出する電子銃機構230と、光軸方向に対して電子銃機構よりも後側に配置され、電子銃機構の高さ位置を可変に調整可能な高さ調整機構216と、光軸方向に対して高さ調整機構よりも後側に配置され、電子ビームを収束させる電子レンズ211と、電子銃機構の高さ位置が可変に調整されて変化した高さ位置ごとに、所定の位置に電子ビームがクロスオーバーを形成するように電子レンズを制御するレンズ制御部と、を備えたことを特徴とする。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种比传统方法更高分辨率的装置。解决方案：电子束光刻设备包括：电子枪机构230释放电子;高度调节机构216，布置在电子枪机构的后侧; 光轴方向，并且可以可变地调节电子枪机构的高度位置;电子透镜211，其设置在电子枪机构的光轴方向的后侧，并会聚电子束;以及透镜控制部，其用于 控制电子透镜，使得电子束在电子枪机构的各个高度位置处在预定位置处形成交叉，该高度位置被可变地改变。

公开(公告)号：JP2015525428A

公开(公告)日：2015-09-03

申请号：JP2015510717

申请日：2013-04-25

Applicant: ア−カム アーベー ,  ア−カム アーベー

Inventor： スヴェンソン，マティアス ,  リュングブラッド，ウルリック

IPC: H01J37/077 ,  B22F3/105 ,  B22F3/16 ,  B29C67/00 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  H01J37/06 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J29/52 ,  B29C64/153 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  H01J37/077 ,  H01J37/305 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/043 ,  H01J2237/3128 ,  H01J2237/31732

Abstract: 本発明は、プラズマ電子源装置(150)に関する。装置は、その内部でプラズマを発生する陰極放電チャンバ(100)と、陰極放電チャンバ(100)と陽極(104)との間に生じる加速場によってプラズマ(107)からの電子を抽出する、陰極放電チャンバに提供された出口穴(120)と、少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイス(例えば、電磁石コイル103)と、プラズマからの電子抽出が可能な第一の値とプラズマからの電子抽出を防止する第二の値との間で、少なくとも一つのプラズマ閉じ込めデバイスをスイッチングするためのスイッチング機構(190)と、を含む。関連する方法も提供する。特に、作業台上に提供された粉ベッドの少なくとも一つの層の一部の連続的な溶融によって三次元体を形成するための装置(150)の使用方法が提供される。【選択図】図1a

Abstract translation: 本发明涉及一种等离子体电子源设备（150）。 装置提取的阴极放电室用于从所述等离子体（107）通过在阴极放电室（100）和所述阳极（104），阴极放电之间产生的加速度场产生等离子体在其中（100），电子 在腔室（120）提供一个出口孔，至少一个等离子体约束装置（例如，电磁线圈103）和第二防止从第一值和血浆中提取电子的电子抽出可能从等离子体 值之间，至少一个等离子体约束切换机构，用于切换装置和（190），则。 还提供了相关的方法。 特别地，提供了一种用于通过设置在工作台（150）的粉末床中的至少一个层的连续熔化的一部分上形成一个三维体使用设备的。 点域1A