公开(公告)号：WO2017103167A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081520

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar ,  KAYSER, Thomas

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  C03C1/02

CPC classification number: C03B19/106 ,  C03B17/04 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats,wobei das Bereitstellen zumindest die Schritte beinhaltet: I. Bereitstellen von Siliziumdioxidpulver; und II. Verarbeiten des Siliziumdioxidpulvers zu einem Siliziumdioxidgranulat, wobei das Siliziumdioxidgranulat einen größeren Partikeldurchmesser aufweist als das Siliziumdioxidpulver, wobei das Verarbeiten folgende Schritte beinhaltet: 1) Verarbeiten des Siliziumdioxidpulvers zu einem Siliziumdioxidgranulat I, wobei das Siliziumdioxidgranulat I einen ersten Kohlenstoffgehalt w C(1) aufweist, 2) Behandeln des Siliziumdioxidgranulats I mit einem Reaktanden unter Erhalt eines Siliziumdioxidgranulat II mit einem weiteren Kohlenstoffgehalt w C(2) , wobei der weitere Kohlenstoffgehalt w C(2) kleiner ist als der erste Kohlenstoffgehalt w C(1) ; ii.) Bildeneiner Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulatund iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind. Außerdem betrifft die Erfindung ein Siliziumdioxidgranulat II erhältlich als Zwischenprodukt des erfindungsgemäßen Verfahrens.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括工艺步骤i）提供Siliziumdioxidgranulats rpers，其中，提供至少包括：。提供一二氧化硅的步骤; 。和二氧化硅粉末的Siliziumdioxidgranulat，第II处理，其中Siliziumdioxidgranulat一个GR＆ouml;道路年长粒径比该二氧化硅粉末，其特征在于，所述处理包括以下步骤：1）二氧化硅粉末到Siliziumdioxidgranulat我的处理，其中，所述Siliziumdioxidgranulat我第一碳含量瓦特 2）用反应物处理二氧化硅颗粒I以获得具有另外的碳含量w（C）2的二氧化硅颗粒II，其中另外的碳含量w < （2）小于第一碳含量w C（1） ii）由二氧化硅颗粒形成玻璃熔体;以及iii）由至少一部分玻璃熔体形成石英玻璃体。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，光源和模制＆OUML;主体，每个由石英玻璃＆OUML的进一步处理;是ltlich; rpers ERH＆AUML。 另外，本发明涉及可作为本发明方法的中间产物获得的二氧化硅颗粒II。

公开(公告)号：WO2017091386A1

公开(公告)日：2017-06-01

申请号：PCT/US2016/062121

申请日：2016-11-16

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DAWES, Steven Bruce ,  DURAN, Carlos Alberto ,  HRDINA, Kenneth Edward ,  ROSCH, William Rogers ,  WHEATON, Bryan Ray

IPC: C03C3/06 ,  C03B25/02 ,  C03B19/14 ,  C03C3/089

CPC classification number: C03C3/089 ,  C03B19/14 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/54

Abstract: A doped silica-titania ("DST") glass article that includes a glass article having a glass composition comprising a silica-titania base glass containing titania at 7 to 14 wt.% and a balance of silica, and a dopant selected from the group consisting of (a) F at 0.7 to 1.5 wt.%, (b) B 2 O 3 at 1.5 to 5 wt.%, (c) OH at 1000 to 3000 ppm, and (d) B 2 O 3 at 0.5 to 2.5wt.% and OH at 100 to 1400 ppm. The glass article has an expansivity slope of less than about 1.3 ppb/K 2 at 20°C. For DST glass articles doped with F or B 2 O 3 , the OH level can be held to less than 10 ppm, or less than 100 ppm, respectively. In many aspects, the DST glass articles are substantially free of titania in crystalline form.

Abstract translation: 掺杂二氧化硅 - 二氧化钛（“DST”）玻璃制品，其包括玻璃制品，所述玻璃制品具有包含二氧化钛 - 二氧化钛基玻璃的玻璃组合物，所述二氧化钛 - 二氧化钛基玻璃含有7重量％至14重量％的二氧化钛， 二氧化硅和掺杂剂，所述掺杂剂选自（a）0.7至1.5重量％的F，（b）1.5至5重量％的B 2 O 3， ％，（c）1000-3000ppm的OH，和（d）0.5-2.5wt％的B 2 O 3和100-1400ppm的OH。 玻璃制品在20℃下的膨胀率斜率小于约1.3ppb / K 2。 对于掺杂有F或B 2 O 3的DST玻璃制品，OH水平可分别保持在小于10ppm或小于100ppm。 在许多方面，DST玻璃制品基本不含结晶形式的二氧化钛。

公开(公告)号：WO2016094494A2

公开(公告)日：2016-06-16

申请号：PCT/US2015/064662

申请日：2015-12-09

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos Alberto ,  HRDINA, Kenneth Edward

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/14 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/112 ,  C03C4/00 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/14 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/52

Abstract: A doped silica-titania glass article is provided that includes a glass article having a glass composition comprising (i) a silica-titania base glass, (ii) a fluorine dopant, and (iii) a second dopant. The fluorine dopant has a concentration of fluorine of up to 5 wt. % and the second dopant comprises one or more oxides selected from the group consisting of Al, Nb, Ta, B, Na, K, Mg, Ca and Li oxides at a total oxide concentration from 50 ppm to 6 wt.%. Further, the glass article has an expansivity slope of less than 0.5 ppb/K 2 at 20 ⃘ C. The second dopant can be optional. The composition of the glass article may also contain an OH concentration of less than 100 ppm.

Abstract translation: 提供一种掺杂二氧化硅 - 二氧化钛玻璃制品，其包括具有玻璃组成的玻璃制品，所述玻璃制品包含（i）二氧化硅 - 二氧化钛基玻璃，（ii）氟掺杂剂，和（iii）第二 掺杂剂。 氟掺杂剂具有高达5wt。％的氟浓度。 ％，第二掺杂剂包含一种或多种选自Al，Nb，Ta，B，Na，K，Mg，Ca和Li氧化物的氧化物，总氧化物浓度为50ppm至6wt％。 此外，该玻璃制品在20℃时的膨胀率斜率小于0.5ppb / K 2。 第二掺杂剂可以是可选的。 玻璃制品的组成也可以含有小于100ppm的OH浓度。

公开(公告)号：WO2013140688A1

公开(公告)日：2013-09-26

申请号：PCT/JP2012/082658

申请日：2012-12-17

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 春名　徹也 ,  平野　正晃 ,  田村　欣章

IPC: C03B37/027 ,  C03C13/04

CPC classification number: C03B37/027 ,  C03B37/0253 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/50 ,  C03B2203/02 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/26 ,  C03B2205/40 ,  C03B2205/42 ,  C03B2205/60 ,  C03B2205/72 ,  C03C13/045 ,  C03C25/1061

Abstract: 　アルカリ金属元素をコアに含み伝送損失が小さい光ファイバを製造することができる方法を提供する。平均濃度５原子ｐｐｍ以上のアルカリ金属を含むコア部とフッ素および塩素を含むクラッド部とを含むシリカ系光ファイバ母材２０を線引き装置１により線引きして、ガラス部と樹脂被覆部とからなり、ガラス部に残留した圧縮応力の最大値が１３０ＭＰａ以下である光ファイバ３０を製造する。その線引きの際に光ファイバ母材の各位置が１５００℃以上の温度で保持される時間が１１０分以下である。線引き速度は、１２００ｍ／ｍｉｎ以上が好ましく、更には１５００ｍ／ｍｉｎ以上２３００ｍ／ｍｉｎ以下が好ましい。光ファイバ母材２０の直径は、７０ｍｍφ以上１７０ｍｍφ以下が好ましく、更に９０ｍｍφ以上１５０ｍｍφ以下が好ましい。

Abstract translation: 提供了一种使得可以在芯体中制造包含碱金属元素并且传输损失小的光纤的方法。 使用拉丝装置（1），通过拉丝来制造包括玻璃部分和树脂涂布部分的玻璃部分中剩余的压缩应力的最大值为130MPa以下的光纤（30） 包括具有平均浓度为5原子ppm以上的碱金属的核心部以及包含氟和氯的包层部的二氧化硅系光纤预制件（20）。 在拉丝期间将光纤预制件的每个位置保持在1500℃以上的温度的持续时间为110分钟以下。 拉丝速度优选为1200m / min以上，进一步优选为1500〜300m / min。 光纤预制件（20）的直径优选为70-170mmφ，更优选为90-150mmφ。

公开(公告)号：WO2009128560A1

公开(公告)日：2009-10-22

申请号：PCT/JP2009/058028

申请日：2009-04-16

Applicant: Asahi Glass Company, Limited. ,  SAITOU, Kenta ,  KOIKE, Akio ,  KAWATA, Mitsuhiro

Inventor： SAITOU, Kenta ,  KOIKE, Akio ,  KAWATA, Mitsuhiro

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C4/00 ,  C03B19/14 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/076 ,  C03C4/0085 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a TiO 2 -containing silica glass from which a transparent extremely low thermal expansion glass having excellent transparency and having a temperature region in which the coefficient of thermal expansion is substantially zero can be obtained. The present invention relates to a TiO 2 -containing silica glass for optical member for EUV lithography, having a TiO 2 concentration of from 3 to 14 % by mass; an internal transmittance per 1-mm thickness in a wavelength region of from 400 to 700 nm, T 400-700 , of 97 % or more; and an internal transmittance per 1-mm thickness in a wavelength region of from 400 to 3,000 nm, T 400-3000 , of 70 % or more.

Abstract translation: 本发明提供一种含TiO 2的二氧化硅玻璃，可以得到透明度极高的透明性高且热膨胀系数基本上为零的温度区域的玻璃。 本发明涉及TiO 2浓度为3〜14质量％的用于EUV光刻用的光学部件的含TiO 2的二氧化硅玻璃， 在400〜700nm波长范围内，每1mm厚的内透射率，T400-700，97％以上; 在400〜3000nm的波长范围内，每1mm厚的内透射率为T400〜3000，为70％以上。

公开(公告)号：WO2008139916A1

公开(公告)日：2008-11-20

申请号：PCT/JP2008/058175

申请日：2008-04-28

Applicant: 信越石英株式会社 ,  有限会社オプトエレクトロニクスラボラトリ ,  上田 哲司 ,  大内 道成 ,  西村 裕幸 ,  藤ノ木 朗 ,  中塚 正大 ,  吉田 英次

Inventor： 上田 哲司 ,  大内 道成 ,  西村 裕幸 ,  藤ノ木 朗 ,  中塚 正大 ,  吉田 英次

IPC: C03B20/00 ,  C03B8/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/12

CPC classification number: C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/40 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/085 ,  C03C4/12 ,  C03C23/0095 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44

Abstract: 　波長４００ｎｍ以下の紫外線の照射により、波長５２０ｎｍから５８０ｎｍにピークを持つ蛍光を発するガラスであり、高出力での使用においても長期安定性に優れた銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプを提供することを目的とする。 　５ｗｔｐｐｍ以上２００ｗｔｐｐｍ以下の銅を含有し、波長１６０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の紫外光の照射により５２０ｎｍ以上５８０ｎｍ以下の領域にピークを持つ蛍光を発し、かつ、波長５３０ｎｍにおける厚さ２．５ｍｍあたりの内部透過率が９５％以上であるようにした。

Abstract translation: 本发明提供一种含有铜的二氧化硅玻璃，其在暴露于波长不大于400nm的紫外线时发出波长为520〜580nm的峰值的荧光，即使在高输出时使用也具有优异的长期稳定性 以及使用含铜石英玻璃的含铜石英玻璃和氙闪光灯的制造方法。 采用其中含有不小于5重量ppm且不大于200重量ppm的铜的结构，通过施加紫外光与...发射具有不小于520nm且不大于580nm的峰的荧光 不小于160nm且不大于400nm的波长，并且每2.5mm厚度的波长530nm的内部透射率不小于95％。

公开(公告)号：WO2008031742A2

公开(公告)日：2008-03-20

申请号：PCT/EP2007/059217

申请日：2007-09-04

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  WEBER, Juergen ,  SATO, Tatsuhiro ,  SCHNEIDER, Ralf ,  HOFMANN, Achim ,  GEBAUER, Christian

Inventor： WEBER, Juergen ,  SATO, Tatsuhiro ,  SCHNEIDER, Ralf ,  HOFMANN, Achim ,  GEBAUER, Christian

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03C4/20 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/3435 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/54

Abstract: The invention starts from a known component of quartz glass for use in semiconductor manufacture, which component at least in a near-surface region shows a co-doping of a first dopant and of a second oxidic dopant, said second dopant containing one or more rare-earth metals in a concentration of 0.1-3% by wt. each (based on the total mass of SiO 2 and dopant). Starting from this, to provide a quartz glass component for use in semiconductor manufacture in an environment with etching action, which component is distinguished by both high purity and high resistance to dry etching and avoids known drawbacks caused by co-doping with aluminum oxide, it is suggested according to the invention that the first dopant should be nitrogen and that the mean content of metastable hydroxyl groups of the quartz glass is less than 30 wtppm.

Abstract translation: 本发明从用于半导体制造的石英玻璃的已知组件开始，至少在近表面区域中的该组分表现出第一掺杂剂和第二氧化物掺杂剂的共掺杂，所述第二掺杂剂含有一种或多种稀有金属 浓度为0.1-3％（重量）的矿物金属。 每个（基于SiO 2的总质量和掺杂剂）。 从此开始，为了在具有蚀刻作用的环境中提供用于半导体制造的石英玻璃组分，该组分通过高纯度和高耐干蚀刻性而被区分，并避免了与氧化铝共掺杂引起的已知缺点， 根据本发明建议第一掺杂剂应为氮气，并且石英玻璃的亚稳态羟基的平均含量小于30重量ppm。

公开(公告)号：WO2006108766A1

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：PCT/EP2006/061192

申请日：2006-03-30

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  WEBER, Juergen ,  POGGE, Tobias ,  TROMMER, Martin ,  KUEHN, Bodo ,  KIRST, Ulrich ,  WERDECKER, Waltraud

Inventor： WEBER, Juergen ,  POGGE, Tobias ,  TROMMER, Martin ,  KUEHN, Bodo ,  KIRST, Ulrich ,  WERDECKER, Waltraud

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  H01L21/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/09 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/006 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/54 ,  C30B25/12 ,  C30B31/14 ,  C30B35/00 ,  Y02P40/57

Abstract: Ein ideales Quarzglas für einen Wafer-Halter zum Einsatz in ätzend wirkender Umgebung zeichnet sich sowohl durch hohe Reinheit als auch durch eine hohe Trockenätzbeständigkeit aus. Um ein Quarzglas anzugeben, das diese Anforde rungen weitgehend erfüllt, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Quarz glas mindestens in einem oberflächennahen Bereich mit Stickstoff dotiert ist, einen mittleren Gehalt an metastabilen Hydroxylgruppen von weniger als 30 Gew.-ppm aufweist, und dass seine fiktive Temperatur unterhalb von 1250 °C und seine Vis kosität bei einer Temperatur von 1200°C mindestens 1013 dPas betragen. Ein wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung eines derartigen Quarzglases umfasst folgende Verfahrensschritte: Erschmelzen eines SiO2-Rohstoffs zu einem Quarz- glas-Rohling, wobei der SiO2-Rohstoff oder der Quarzglas-Rohling einer Entwäs serungsmaßnahme unterzogen werden, ein Erhitzen des SiO2-Rohstoffs oder des Quarzglas-Rohlings auf eine Nitridierungstemperatur im Bereich zwischen 1050°C und 1850 °C unter einer Ammoniak enthaltenden Atmosphäre, eine Temperatur behandlung, mittels der das Quarzglas des Quarzglas-Rohlings auf eine fiktive Temperatur von 1250 °C oder weniger eingestellt wird, und eine Oberflächenbe handlung des Quarzglas-Rohlings unter Bildung des Quarzglas-Halters.

Abstract translation: 用于在腐蚀性环境中使用的晶片保持器的理想的石英玻璃的演技由两个高纯度和高耐干蚀性区分。 为了提供一个石英玻璃，其支柱很大程度上满足这些Anforde，本发明提出的是，石英玻璃至少与氮的近表面区域掺杂，具有按重量计小于30ppm的亚稳定羟基的平均含量，且其虚拟 以下1250℃，粘度温度由显示是在1200℃的温度下为至少1013 dPa·s相当。 用于制造这样的石英玻璃的经济的方法包括下列步骤：形成SiO 2原料的熔融，以获得石英玻璃坯料中，SiO 2原材料或石英玻璃坯料的Entwässerungsmaßnahme进行SiO 2的原料的加热或石英玻璃 Döhring添加包含在氨气氛下1050℃和1850℃之间的范围内的氮化温度下，通过该石英玻璃坯料中石英玻璃被设置为1250℃或更低的温度处理的假想温度的装置，和一个治疗Oberflächenbe 该石英玻璃坯料与形成在石英玻璃夹具的。

公开(公告)号：WO2005102950A3

公开(公告)日：2006-03-02

申请号：PCT/EP2005003549

申请日：2005-04-05

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD ,  SCHREIBER ANDREAS ,  KUEHN BODO ,  SCHILLING FRANZ-JOSEF ,  ARNOLD ERICH ,  WITZKE HANS-DIETER

Inventor： SCHREIBER ANDREAS ,  KUEHN BODO ,  SCHILLING FRANZ-JOSEF ,  ARNOLD ERICH ,  WITZKE HANS-DIETER

IPC: C03B19/01 ,  C03B19/14 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  H01J61/30 ,  G01N21/64

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06

Abstract: A conventional method for producing a quartz glass component for a UV radiation source includes melting SiO 2 containing grains. The aim of the invention is to provide an improved and inexpensive method which allows for the production of a quartz glass component that is characterized by high radiation resistance. For this purpose, synthetically produced quartz crystals are smelted to give an initial product that consists of quartz glass, and contains hydroxyl groups in a number greater than the number of SiH groups. In order to remove the SiH groups, the initial product is subjected to a tempering step at a temperature of at least 850 °C, thereby obtaining the quartz glass component. The inventive quartz glass component is characterized in that the quartz glass is smelted from synthetically produced quartz crystals and has an SiH group content of less than 5 x 10 17 molecules/cm 3 . The invention also relates to a method for testing the aptitude of a quartz glass component for the use thereof with a UV radiation source.

Abstract translation: 在已知的处理的石英玻璃部件的制造中的SiO _{2 砂砾的熔化进行一个用于含UV辐射源。 要指定此基础上具有成本效益的方法，通过其获得石英玻璃元件，其特征是高耐辐射性，本发明提出的是合成产生的熔融石英的晶体，以形成一个初步的产品，它由石英玻璃含有以羟基数 比SiH基团的数量越多，并且进行消除SiH基团，所述前体的退火在至少850℃的温度，而获得石英玻璃元件。 在本发明的石英玻璃元件，合成产生的石英晶体的石英玻璃被熔化并具有小于5×10 ^{17 分子/ cm 3 到的SiH基团的含量 ， 对于石英玻璃元件的适用性使用用UV辐射的源的诊断方法也被要求保护。}}

公开(公告)号：WO2005059972A3

公开(公告)日：2005-08-04

申请号：PCT/JP2004019443

申请日：2004-12-17

Applicant: ASAHI GLASS CO LTD ,  IKUTA YOSHIAKI ,  AGATA NORIYUKI

Inventor： IKUTA YOSHIAKI ,  AGATA NORIYUKI

IPC: G02B1/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B32/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  Y02P40/57

Abstract: A synthetic quartz glass for an optical member which is free from compaction and rarefaction is obtained. A synthetic quartz glass for an optical member to be used for an optical device employing a light having a wavelength of at most 400 nm and at least 170 nm as a light source, which contains substantially no oxygen excess defects, dissolved oxygen molecules nor reduction type defects, which has a chlorine concentration of at most 50 ppm and a OH group concentration of at most 100 ppm, and which contains oxygen deficient defects within a concentration range of at most 5x10(14) defects/cm(3) and at least 1x10(13) defects/cm(3). The fluorine concentration is preferably at most 100 ppm. A process for producing the synthetic quartz glass is also claimed.

Abstract translation: 得到不含压实和稀释的用于光学构件的合成石英玻璃。 用于光学构件的合成石英玻璃，其用于使用波长最多为400nm且至少170nm的光作为光源的光学元件，其基本上不含氧过剩缺陷，溶解的氧分子或还原型 缺陷，其氯浓度最多为50ppm，OH基浓度为至多100ppm，并且在至少5×10（14）个缺陷/ cm 3（3）的浓度范围内含有缺氧缺陷，并且至少1×10 （13）缺陷/ cm（3）。 氟浓度优选为100ppm以下。 保护合成石英玻璃的方法。