샘플의 화학성분을 분석하는 분석시스템 및 그 분석방법
    271.
    发明公开
    샘플의 화학성분을 분석하는 분석시스템 및 그 분석방법 失效
    用于分析样品化学试剂的分析系统及其方法

    公开(公告)号:KR1020050028756A

    公开(公告)日:2005-03-23

    申请号:KR1020030065280

    申请日:2003-09-19

    CPC classification number: G01J3/443 G01N21/3563 G01N21/3577

    Abstract: Analysis system for analyzing a chemical agent of a sample and a method thereof are provided to detect predetermined chemical components from the sample having various chemical components. An analysis system for analyzing a chemical agent of a sample(101) includes a first container(103), a second container(105), a differential amplifier(107), a chemical component detector, and a variable filter(111). The sample(101) includes various chemical components. The first container(103) includes a main component of the sample(101). The second container(105) includes predetermined chemical components of the sample(101) to be detected. The differential amplifier(107) amplifies a differential IR radiation ray generated from the first and second containers(103,105).

    Abstract translation: 提供用于分析样品的化学试剂的分析系统及其方法,以从具有各种化学成分的样品中检测预定的化学成分。 用于分析样品(101)的化学试剂的分析系统包括第一容器(103),第二容器(105),差分放大器(107),化学成分检测器和可变过滤器(111)。 样品(101)包括各种化学成分。 第一容器(103)包括样品(101)的主要成分。 第二容器(105)包括要检测的样品(101)的预定化学成分。 差分放大器(107)放大从第一和第二容器(103,105)产生的差分IR辐射线。

    플라스마 처리 동작을 감시하기 위한 방법 및 장치
    272.
    发明公开
    플라스마 처리 동작을 감시하기 위한 방법 및 장치 无效
    用于监视等离子体处理操作的方法和设备

    公开(公告)号:KR1020040053203A

    公开(公告)日:2004-06-23

    申请号:KR1020047006151

    申请日:1999-04-23

    CPC classification number: G01J3/443 G01J3/28 G01J2003/2866

    Abstract: 본 발명은 일반적으로 플라스마 처리의 다양한 형태에 관한 것으로, 보다 상세히는 이러한 플라스마 처리의 감시에 관한 것이다. 하나의 형태는 플라스마 감시 어셈블리의 보정 또는 초기화를 위한 적어도 일부의 방법에 관한 것이다. 보정의 타입은 플라스마 처리에서 획득된 광학적 이미션에 관련된 파장 변화, 세기 변화 또는 양쪽 모두를 지시하는데 이용될 수 있다. 보정광은, 만약 윈도우의 내부 표면, 또는 광학적 이미션 데이터 수집 장치의 동작이 획득되는 광학적 이미션 데이터에 영향을 주는 경우가 있다면, 그 영향을 판단하기 위해 획득되는 광학적 이미션 데이터를 통해 윈도우로 전달된다. 다른 형태는 실시된 플라스마 처리에 수행된 적어도 약간의 방식의 다양한 형태의 평가에 관한 것이다. 플라스마 상태 평가 및 광학적 이미션 분석을 통한 처리 식별이 이 형태에 포함된다. 본 발명과 관련된 또 다른 형태는 플라스마 처리(예로, 플라스마 레시피, 플라스마 세정, 조절 웨이퍼 동작)의 종료점 또는 그것의 분리된/식별 가능한 부분(여러 단계의 플라스마 레시피의 하나의 플라스마 단계)에 대한 적어도 약간의 방식에 관한 것이다. 본 발명과 관련된 다른 형태는, 웨이퍼 생산 시스템에 대한 웨이퍼의 분배와 같이, 위에 표시된 하나 또는 그 이상의 형태를 반도체 제조 설비에서 어떻게 구현하는지에 관한 것이다. 본 발명의 마지막 형태는 원격 능력(즉, 클린룸 외부)을 포함하는 다수의 플라스마 감시 시스템 네트워크에 관한 것이다.

    고효율 광섬유 프로브를 이용한 수질오염 측정장치
    273.
    发明公开
    고효율 광섬유 프로브를 이용한 수질오염 측정장치 无效
    用高效光纤探头测量水污染的装置

    公开(公告)号:KR1020020022876A

    公开(公告)日:2002-03-28

    申请号:KR1020000055416

    申请日:2000-09-21

    CPC classification number: G01N21/8507 G01J3/443 G01N21/64 G01N2021/6417

    Abstract: PURPOSE: An apparatus for measuring the contamination of water is provided to conveniently manage an apparatus by storing a fiber-optic probe contacting to the contaminated water in a washing liquid when not in use and to accurately measure the contamination of water by employing a spherical reflector having a high signal detecting efficiency. CONSTITUTION: An apparatus for measuring the contamination of water comprises a washing unit(13) to wash a fiber-optic probe(9) after measurement, a driving unit to sink the washed fiber-optic probe under the contaminated water(14), a lamp to emit a light of a specific wavelength, the fiber-optic probe to capture a fluorescent signal emitted to the contaminated water via a beam splitter and reflected onto the contaminated water, the beam splitter to transmit a half signal to a spectrometer(11), the spectrometer to diffuse the fluorescent signal by a specific wavelength and transmit the analyzed signal to a control unit(8b), and the control unit to operate the analyzed signal and a correction coefficient, display a contamination signal and control the motion of the driving unit.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于测量水污染的设备,以方便地管理设备,方法是在不使用时将与受污染水接触的光纤探针存储在洗涤液中,并通过采用球面反射镜准确测量水的污染 具有高信号检测效率。 构成:用于测量水污染的装置包括:洗涤单元(13),用于在测量之后洗涤光纤探针(9);驱动单元,用于将污染的水(14)下的已洗过​​的光纤探针吸收; 灯以发射特定波长的光,光纤探针通过分束器捕获发射到污染水的荧光信号并反射到污染水上,分束器将半信号传输到光谱仪(11) ,所述光谱仪将所述荧光信号扩散到特定波长并将分析的信号传输到控制单元(8b),并且所述控制单元用于操作所述分析的信号和校正系数,显示污染信号并控制所述驱动的运动 单元。

    分光測定装置及び分光測定方法
    274.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018194428A

    公开(公告)日:2018-12-06

    申请号:JP2017098284

    申请日:2017-05-17

    Abstract: 【課題】試料の特性を精度良く測定することができる分光測定装置及び分光測定方法を提供することを目的とする。 【解決手段】試料2から発せられる被測定光を測定する分光測定装置1であって、内壁面10a、及び取付孔11を有する積分球10と、被測定光を誘導する誘導孔31cを有し、積分球10に配置されるアダプタ30と、積分球10の外側から誘導孔31cを覆うと共に試料2が載置される第1面41a、及び第2面41bを有し、被測定光を透過するプレート40と、プレート40が載置される凹部57を有し、取付孔11に取り付けられるホルダ50と、被測定光を検出する分光検出器60と、を備え、凹部57は、第2面41bと対向する底面57a、及びプレート40の周りを取り囲む側面57bを含み、底面57a及び側面57bは、被測定光を反射する反射材にて覆われている。 【選択図】図6

    分光器及びそれを備えた発光分光分析装置

    公开(公告)号:JPWO2016059675A1

    公开(公告)日:2017-04-27

    申请号:JP2016553777

    申请日:2014-10-14

    CPC classification number: G01J3/443 G01N21/67

    Abstract: 波長分散素子123と、光検出器124a〜124cと、それらを収容するチャンバ121とを有する分光器に、チャンバ121内部のガスを排出するための排気管128と、大気圧以上に圧縮された不活性ガスが充填されたガス供給源150と、ガス供給源150からチャンバ121内に不活性ガスを導入して該不活性ガスを膨張させることでチャンバ121内の温度を低下させる冷却手段151b、152b、153bと、チャンバ121内の温度を検知する温度センサ127と、温度センサ127で検知される温度が目標温度となるよう冷却手段151b、152b、153bを制御する制御手段140とを設ける。これにより、従来よりも低い温度で分光器を温調することが可能となり光検出器の暗電流によるバックグラウンドの影響を軽減することができる。

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