公开(公告)号：JP6282622B2

公开(公告)日：2018-02-21

申请号：JP2015206815

申请日：2015-10-21

Applicant: オーエフエス ファイテル,エルエルシー

Inventor： ピーター アイ. ボレル ,  オーレ エー. レヴリング ,  ラスムス ヴイ. イェンセン ,  ヨルゲン オストガールド オルセン ,  デビッド ダブリュ. ペッカム ,  デニス ジェー. トレヴァー ,  パトリック ダブリュ. ウィスク ,  マン エフ. ヤン

IPC: G02B6/02 ,  C03B37/018 ,  C03C3/06 ,  G02B6/036

CPC classification number: G02B6/0365 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/01853 ,  C03B37/01861 ,  C03B37/01869 ,  C03B37/01892 ,  C03B37/027 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/222 ,  C03B2203/223 ,  C03B2205/40 ,  C03B2205/42 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  G02B6/02019 ,  G02B6/03683 ,  G02B6/03694 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：JP2017526601A

公开(公告)日：2017-09-14

申请号：JP2017501188

申请日：2015-07-10

Applicant: コーニング インコーポレイテッド ,  コーニング インコーポレイテッド

Inventor： エドワード バーキー，ジョージ ,  エドワード バーキー，ジョージ ,  クレイグ ブックバインダー，ダナ ,  クレイグ ブックバインダー，ダナ ,  イ，ミン−ジョン ,  タンドン，プシュカー

IPC: C03B37/014 ,  C03B37/027 ,  C03C13/04 ,  G02B6/02 ,  G02B6/036

CPC classification number: G02B6/02014 ,  C03B37/01205 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01262 ,  C03B37/01282 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/01433 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/018 ,  C03B37/01815 ,  C03B37/0183 ,  C03B37/01838 ,  C03B37/01853 ,  C03B37/01869 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/24 ,  C03B2205/42 ,  C03B2207/30 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046 ,  C03C25/1061 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/54 ,  C03C2213/00 ,  G02B6/02019 ,  G02B6/03627

Abstract: シリカと1.5重量%を超える塩素と0.5重量%未満のFとを含むコアを有する光ファイバーであって、当該コアが、屈折率Δ1MAXを有し、当該コアを囲む内側クラッド領域が屈折率Δ2MINを有し、この場合、Δ1MAX>Δ2MINである、光ファイバー。

公开(公告)号：JP5721538B2

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：JP2011117713

申请日：2011-05-26

Applicant: 株式会社オハラ

Inventor： 茶谷 直 ,  木村 康宏 ,  宮岸 裕一

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C13/045 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12

公开(公告)号：JP5642920B2

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：JP2007310052

申请日：2007-11-30

Applicant: コーニング インコーポレイテッド ,  コーニング インコーポレイテッド

Inventor： シー ブックバインダー ダナ ,  シー ブックバインダー ダナ ,  エル ジーニアー マイケル ,  エル ジーニアー マイケル ,  エイ ムーア リサ ,  エイ ムーア リサ

IPC: C03C3/06 ,  G03F1/60

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03C3/06 ,  C03C13/047 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50

公开(公告)号：JP2013530920A

公开(公告)日：2013-08-01

申请号：JP2013517407

申请日：2011-07-08

Applicant: ヘレウス クオーツ ユーケー リミティド

Inventor： ベンジャミン コープス リチャード ,  マンディ アラン ,  ジョージ セイス イアン

IPC: C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1492 ,  C03B19/1438 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/52 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/131

Abstract: Hollow ingots of transparent synthetic vitreous silica glass of external diameter greater than 400 mm and internal diameter greater than 300 mm are disclosed. The ingots are substantially free from bubbles or inclusions greater than 100 mum in diameter, have no more than 100 ppB of any individual metallic impurity, and have chlorine concentration less than 5 ppM. Also disclosed are methods for producing such ingots, in which a porous soot body of density greater than 0.4 g/cm3 is deposited on an oxidation resistant mandrel. The soot body is dehydrated on a mandrel comprising graphite, carbon fibre reinforced carbon, silicon carbide, silicon impregnated silicon carbide, silicon carbide-coated graphite or vitreous silica, either under vacuum or in the presence of a reducing gas, and then sintered to transparent pore-free glass under vacuum or in an atmosphere of helium.

公开(公告)号：JP2010502538A

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：JP2008558998

申请日：2007-07-26

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 順亮 生田 ,  信也 菊川

IPC: C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  G03F1/14 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/12 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  Y10T428/166 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/252

Abstract: 【課題】表面に微細な凹凸パターンを有する基板用石英ガラス基板の垂直方向の凹凸パターンの寸法を極力精度良くかつ基板全面にわたり均一に制御する。
【解決手段】石英ガラス基板の仮想温度分布が４０℃以下であり、かつハロゲン濃度が４００ｐｐｍ未満とする。
【選択図】図２

公开(公告)号：JP2008156206A

公开(公告)日：2008-07-10

申请号：JP2007225718

申请日：2007-08-31

Applicant: Corning Inc ,  コーニング インコーポレイテッド

Inventor： MOORE LISA A ,  SMITH CHARLENE M

IPC: C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  G02B1/02

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B19/12 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/061 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/50 ,  Y02P40/57

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an F-doped quartz glass material used in the lithographic application operating at a shorter wavelength than about 300 nm, which shows a lower polarization-induced birefringence or preferably, does not show the polarization-induced birefringence substantially even after being subjected to 10 million pulses of linearly polarized pulsed laser beam at 157 nm having a fluence of 250 μJ×cm -2 ×pulse -1 and a pulse length of 30 ns. SOLUTION: The F-doped synthetic quartz glass material contains, by weight, less than 50 ppm of Cl, less than 50 ppb of Na, less than 50 ppb in total of transition metals, and 0.1-5,000 ppm of fluorine. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供在光刻应用中使用的F掺杂的石英玻璃材料，其操作在比约300nm更短的波长，其表现出较低的偏振引起的双折射，或者优选地，不显示极化诱导的 即使在经受了1000万脉冲的线性偏振脉冲激光束（157nm）的照射条件下，双折射基本上具有250μJ×cm -2 SPF脉冲 -1 的脉冲，脉冲 长度为30 ns。 解决方案：掺杂F的合成石英玻璃材料含有小于50ppm的Cl，小于50ppb的Na，小于50ppb的过渡金属和0.1-5,000ppm的氟。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2008037743A

公开(公告)日：2008-02-21

申请号：JP2007170417

申请日：2007-06-28

Applicant: Corning Inc ,  コーニング インコーポレイテッド

Inventor： ELLISON ADAM JAMES

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  G02B1/00

CPC classification number: G02B1/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the emergence of striae, in a low expansion silica-titania glass suitable for manufacturing an extreme ultraviolet ray lithographic element.
SOLUTION: The low expansion silica-titania glass appropriate for manufacturing the extreme ultraviolet lithographic element comprises a titania-containing silica glass, which has a titania content in the range of 5-12 mass% and contains a viscosity reducing dopant having a content in the range of 0.001 to 1 mass%. The element appropriate for extreme ultraviolet ray lithography is constituted by a titania-containing silica glass, which has a titania content in the range of 5-10 mass%, a viscosity reducing dopant having a content in the range of 0.001 to 1 mass%, a polished and formed surface, and a thermal expansion coefficient of 0±3 ppb/°C in a temperature range of 5-35°C.
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了防止在适合制造极紫外线光刻元件的低膨胀二氧化硅 - 二氧化钛玻璃中出现条纹。 解决方案：适用于制造极紫外光刻元件的低膨胀二氧化硅 - 二氧化钛玻璃包括二氧化钛含量为二氧化钛的二氧化硅玻璃，其二氧化钛含量为5-12质量％，含有具有 含量在0.001〜1质量％的范围。 适用于极紫外线光刻的元件由二氧化钛含量为5-10质量％的含二氧化钛的二氧化硅玻璃构成，粘度降低掺杂剂的含量在0.001〜1质量％的范围内， 抛光形成的表面，在5-35℃的温度范围内的热膨胀系数为0±3ppb /℃。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2007182367A

公开(公告)日：2007-07-19

申请号：JP2006318172

申请日：2006-11-27

Applicant: Shin Etsu Chem Co Ltd ,  信越化学工業株式会社

Inventor： MAIDA SHIGERU ,  YAMADA MOTOYUKI

IPC: C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/076 ,  G03F1/24 ,  G03F1/68

CPC classification number: C03B19/1407 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G21K2201/067

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide titania-doped quartz glass having high homogeneity and providing high surface accuracy as required for EUV lithographic members such as EUV lithographic photomask substrates, and to provide EUV lithographic members such as EUV lithographic photomask substrates which are composed of titania-doped quartz glass and excellent in flatness and thermal expansion characteristics. SOLUTION: The titania-doped quartz glass contains 3-12 mass% of titania and has a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 mass%/μm and has apparent transmittance at 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供高均匀性的二氧化钛掺杂石英玻璃，并提供EUV光刻元件如EUV光刻光掩模基板所需的高表面精度，并提供EUV光刻元件，例如EUV光刻光掩模基片，它们是 由掺杂二氧化钛的石英玻璃组成，具有优异的平坦度和热膨胀特性。 解决方案：掺杂二氧化钛的石英玻璃含有3-12质量％的二氧化钛，其二氧化钛浓度梯度小于或等于0.01质量％/μm，并且在440nm波长的光下具有至少30％的表观透射率 厚度6.35毫米。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2006298754A

公开(公告)日：2006-11-02

申请号：JP2006112974

申请日：2006-04-17

Applicant: Heraeus Quarzglas Gmbh & Co Kg ,  Shinetsu Quartz Prod Co Ltd ,  ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー ,  信越石英株式会社

Inventor： KUEHN BODO ,  OCHS STEFAN ,  KAISER STEFFEN ,  KASSUBE DENIS

IPC: C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  G02B1/02 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  Y02P40/57

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical component of quartz glass which is optimized for use with linearly polarized UV laser radiation and particularly with respect to compaction and birefringence induced by anisotropic density change and suitable for use in a projection lens system for immersion lithography with an operating wavelength below 250 nm. SOLUTION: The quartz glass shows the combination of several characteristics: particularly a glass structure essentially without oxygen defects; a mean content of hydroxy groups of less than 60 wt ppm; a mean content of fluorine of less than 10 wt ppm; and a mean content of chlorine of less than 1 wt ppm. A method for producing such an optical component comprises the following steps: producing and drying an SiO 2 soot body under reducing conditions and treating the dried soot body before or during vitrification with a reagent reacting with oxygen defects of the quartz glass structure. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供优化用于线偏振UV激光辐射的石英玻璃的光学部件，特别是关于由各向异性密度变化引起的压实和双折射，并适用于投影透镜系统 工作波长低于250nm的浸没光刻技术。

解决方案：石英玻璃显示出几个特征的组合：特别是基本上没有氧缺陷的玻璃结构; 羟基的平均含量小于60重量ppm; 氟的平均含量小于10重量ppm; 氯的平均含量小于1重量ppm。 一种制造这种光学元件的方法包括以下步骤：在还原条件下制备和干燥SiO 2 SBS烟炱体，并在玻璃化之前或玻璃化期间用与氧气缺陷反应的试剂处理干燥的烟炱体 石英玻璃结构。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT