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    微波放射機構、微波電漿源及表面波電漿處理裝置
    282.
    发明专利
    微波放射機構、微波電漿源及表面波電漿處理裝置 审中-公开
    微波放射机构、微波等离子源及表面波等离子处理设备

    公开(公告)号：TW201344741A

    公开(公告)日：2013-11-01

    申请号：TW102101628

    申请日：2013-01-16

    Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    Inventor： 池田太郎 ,  IKEDA, TARO ,  宮下大幸 ,  MIYASHITA, HIROYUKI ,  長田勇輝 ,  OSADA, YUKI ,  藤野豊 ,  FUJINO, YUTAKA ,  小松智仁 ,  KOMATSU, TOMOHITO

    IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01J37/32266 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32229 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4615 ,  H05H2001/4622 ,  H05H2001/463

    Abstract: [課題]提供可以提升增加輸入電力之時的電漿密度(電子密度)增加率的微波放射機構。[解決手段]微波放射機構(43)具有傳送微波的微波傳送路(44)，和對腔室(1)內放射在微波傳送路(44)被傳送之微波的天線部(45)，天線部(45)具有形成有放射微波之縫槽(131)的天線(81)，和使從天線(81)被放射之微波透過，在其表面形成表面波的介電體構件(110b)，並且具有包含縫槽(131)內壁及介電體構件(110b)之表面及內部的流動表面電流及位移電流之閉路(C)，閉路(C)之長度係於將微波之波長設為λ0之時，成為nλ0±δ(n為正的整數，δ為微調整成分(包含0))。

    Abstract in simplified Chinese: [课题]提供可以提升增加输入电力之时的等离子密度(电子密度)增加率的微波放射机构。[解决手段]微波放射机构(43)具有发送微波的微波发送路(44)，和对腔室(1)内放射在微波发送路(44)被发送之微波的天线部(45)，天线部(45)具有形成有放射微波之缝槽(131)的天线(81)，和使从天线(81)被放射之微波透过，在其表面形成表面波的介电体构件(110b)，并且具有包含缝槽(131)内壁及介电体构件(110b)之表面及内部的流动表面电流及位移电流之闭路(C)，闭路(C)之长度系于将微波之波长设为λ0之时，成为nλ0±δ(n为正的整数，δ为微调整成分(包含0))。

    電漿處理裝置及電漿處理方法
    284.
    发明专利
    電漿處理裝置及電漿處理方法 审中-公开
    等离子处理设备及等离子处理方法

    公开(公告)号：TW201613421A

    公开(公告)日：2016-04-01

    申请号：TW104120032

    申请日：2015-06-22

    Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    Inventor： 久保田紳治 ,  KUBOTA, SHINJI ,  市川裕介 ,  ICHIKAWA, YUUSUKE

    IPC: H05H1/46 ,  C23C16/511 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/316

    CPC classification number: C23C16/511 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32935 ,  H01J2237/332 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67069

    Abstract: 本發明之電漿處理裝置具備處理容器、載置台、氣體供給機構、電漿產生機構、及調整部。載置台設置於處理容器之內部，供載置被處理體。氣體供給機構向處理容器之內部供給用於電漿反應之處理氣體。電漿產生機構包含微波振盪器，且使用藉由該微波振盪器而振盪之微波，將被供給至處理容器之內部之處理氣體電漿化。調整部於執行用以對被處理體進行電漿處理之複數個步驟之各者之情形時，於切換複數個步驟之各者之時序，將藉由微波振盪器而振盪之微波之頻率調整為針對每一步驟預先決定之目標頻率。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明之等离子处理设备具备处理容器、载置台、气体供给机构、等离子产生机构、及调整部。载置台设置于处理容器之内部，供载置被处理体。气体供给机构向处理容器之内部供给用于等离子反应之处理气体。等离子产生机构包含微波振荡器，且使用借由该微波振荡器而振荡之微波，将被供给至处理容器之内部之处理气体等离子化。调整部于运行用以对被处理体进行等离子处理之复数个步骤之各者之情形时，于切换复数个步骤之各者之时序，将借由微波振荡器而振荡之微波之频率调整为针对每一步骤预先决定之目标频率。

    電漿處理裝置
    286.
    发明专利
    電漿處理裝置 审中-公开
    等离子处理设备

    公开(公告)号：TW201331408A

    公开(公告)日：2013-08-01

    申请号：TW101136552

    申请日：2012-10-03

    Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    Inventor： 石橋清隆 ,  ISHIBASHI, KIYOTAKA ,  森田治 ,  MORITA, OSAMU

    IPC: C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32

    CPC classification number: H01J37/32201 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/511 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32495 ,  H05H2001/463

    Abstract: 本發明旨在提供一種電漿處理裝置，在使電漿產生用電磁波透射過並導入腔室內之介電體窗中設置氣體流路時，可確實防止於其氣體流路入口附近異常放電。此微波電漿處理裝置作為用來將處理氣體導入腔室10內之氣體導入機構，包含分別設於穿通介電體窗52之複數介電體窗氣體流路94(1)~94(8)之放電防止構件96(1)~96(8)。各放電防止構件96(n)其入口側部分114自介電體窗52背面朝上方恰突出既定距離H以上之高度h，通過狹縫板54之開口54a插入氣體分支部90之分支氣體流路92(n)中。包圍各放電防止構件96(n)突出部114周圍之氣體分支部90、彈簧線圈116及狹縫板54構成包圍導體118。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明旨在提供一种等离子处理设备，在使等离子产生用电磁波透射过并导入腔室内之介电体窗中设置气体流路时，可确实防止于其气体流路入口附近异常放电。此微波等离子处理设备作为用来将处理气体导入腔室10内之气体导入机构，包含分别设于穿通介电体窗52之复数介电体窗气体流路94(1)~94(8)之放电防止构件96(1)~96(8)。各放电防止构件96(n)其入口侧部分114自介电体窗52背面朝上方恰突出既定距离H以上之高度h，通过狭缝板54之开口54a插入气体分支部90之分支气体流路92(n)中。包围各放电防止构件96(n)突出部114周围之气体分支部90、弹簧线圈116及狭缝板54构成包围导体118。

    電漿處理裝置及微波導入裝置
    287.
    发明专利
    電漿處理裝置及微波導入裝置 审中-公开
    等离子处理设备及微波导入设备

    公开(公告)号：TW201306080A

    公开(公告)日：2013-02-01

    申请号：TW101111097

    申请日：2012-03-29

    Applicant: 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

    Inventor： 藤野豐 ,  FUJINO, YUTAKA ,  植田篤 ,  UEDA, ATSUSHI ,  尾崎成則 ,  OZAKI, SHIGENORI ,  北川淳一 ,  KITAGAWA, JUNICHI

    IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H01J37/32201 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32211 ,  H01J37/32238 ,  H01J37/32431 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/463

    Abstract: 本發明的課題是在於以簡單的構成來使電漿的分布均一化。其解決手段，電漿處理裝置(1)具備對處理容器(2)內導入微波的微波導入裝置(5)。微波導入裝置(5)包括嵌合於頂部(11)的複數個開口部的複數個微波透過板(73)。複數個微波透過板(73)是在嵌合於頂部(11)的複數個開口部的狀態下，配置於與載置台(21)的載置面(21a)平行的1個假想的平面上。複數個微波透過板(73)是包括微波透過板(73A~73G)。微波透過板(73G，73A)的中心點(PG，PA)間距離與微波透過板(73G，73B)的中心點(PG，PB)間距離是被設定成彼此相等或幾乎相等。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明的课题是在于以简单的构成来使等离子的分布均一化。其解决手段，等离子处理设备(1)具备对处理容器(2)内导入微波的微波导入设备(5)。微波导入设备(5)包括嵌合于顶部(11)的复数个开口部的复数个微波透过板(73)。复数个微波透过板(73)是在嵌合于顶部(11)的复数个开口部的状态下，配置于与载置台(21)的载置面(21a)平行的1个假想的平面上。复数个微波透过板(73)是包括微波透过板(73A~73G)。微波透过板(73G，73A)的中心点(PG，PA)间距离与微波透过板(73G，73B)的中心点(PG，PB)间距离是被设置成彼此相等或几乎相等。

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