도체층의 제조 방법 및 배선 기판
    285.
    发明公开
    도체층의 제조 방법 및 배선 기판 审中-实审
    制造导体层和布线板的方法

    公开(公告)号:KR1020170101249A

    公开(公告)日:2017-09-05

    申请号:KR1020177020244

    申请日:2015-12-17

    Abstract: 기판(20) 상에도체층(30)을형성하는도체층의제조방법은, 금속입자및 금속산화물입자중 적어도한쪽을함유하는전구체층(42, 52, 62)을기판(20) 상에형성하는제1 공정(S21, S22, S31, S32, S41, S42)과, 전구체층(42, 52, 62)에펄스전자파를조사하여소결층(44, 54, 64)을형성하는제2 공정(S23, S33, S43)과, 소결층을압축하는제3 공정(S24, S34, S44)을구비하고, 기판의동일부분에제1~제3 공정을 N회(N은 2 이상의자연수임.) 반복함으로써도체층을형성하고, 1회째~N-1회째의제3 공정은, 소결층의표면을요철상으로형성하는것을포함하고있다.

    Abstract translation: 基板20a在导电层中形成导体层30,金属颗粒和含形成于基板20上的金属氧化物粒子中的至少一个的前体层(42,52,62)的制造方法中, 所述第一过程的第二过程(形成的S23(S21,S22,S31,S32,S41,S42),前体层(42,52,62),脉搏波烧结层(44,54,64)通过检查 ,S33,S43)和第三步骤(S24,S34,S44),用于包括,第一对基板N次(N为自然数的至少2压缩烧结层的相同部分第三过程。)重复 为了形成导体层,并且到第(N-1)步骤的第三步骤包括将烧结层的表面形成为凹凸形状。

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