公开(公告)号：JP2018095483A

公开(公告)日：2018-06-21

申请号：JP2016238182

申请日：2016-12-08

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 岡田 英昭 ,  堀越 秀春

IPC: C03B20/00

Abstract: 【課題】従来の製品加工方法で端材として生成する中心部材である不透明石英ガラス塊を有効利用し、製品加工方法全体の歩留(生産性)を改善することを課題とする。 【解決手段】加熱伸展成型による不透明石英ガラス成型体の製造方法。不透明石英ガラス被成型塊が変形可能な温度において、90kPa以上、150kPa未満の成型圧力にて、不透明石英ガラス被成型塊を加圧して成型体を得ることを含む。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP5646292B2

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：JP2010254649

申请日：2010-11-15

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 英昭 岡田 ,  英昭 岡田 ,  堀越　秀春 ,  秀春 堀越

IPC: C03B11/00 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1469

公开(公告)号：JP5529369B2

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：JP2007235031

申请日：2007-09-11

Applicant: 東ソー株式会社 ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 一喜 新井 ,  努 高畑 ,  眞吉 橋本 ,  雅人 内田 ,  修輔 山田 ,  美徳 原田 ,  秀春 堀越

IPC: C03B20/00

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03C3/06 ,  C03C4/10 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

公开(公告)号：JP2012106869A

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：JP2010254649

申请日：2010-11-15

Applicant: Tohos Sgm Kk ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： OKADA HIDEAKI ,  HORIKOSHI HIDEHARU

IPC: C03B11/00 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1469

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a quartz glass formed body having optical characteristics suitable for optical use by eliminating influence of striae with no heat treatment for removing striae even when the quartz glass formed body has a relatively large diameter.SOLUTION: A method of manufacturing an optical quartz glass formed body includes a process of obtaining a plate formed body by pressurizing a quartz glass ingot compounded by a direct method from the same direction as the growth direction of the ingot, and a process of deleting one or both faces (hereinafter, referred to as a pressurized formed face) formed by pressurizing the obtained plate formed body until no striae can be observed by visual inspection from the vertical direction of the pressurized formed face to obtain the quartz glass formed body.

Abstract translation: 解决的问题：提供一种制造具有适合于光学用途的光学特性的石英玻璃成形体的方法，即使当石英玻璃成形体具有相对大的直径时，也可以通过消除不进行热处理的条纹的影响来去除纹皮 。 解决方案：一种制造光学石英玻璃成形体的方法包括通过从与锭的生长方向相同的方向通过直接法合成的石英玻璃锭加压获得板成形体的工艺，以及工艺 通过对获得的板状体进行加压而形成的一个或两个面（以下称为加压成形面），直到通过从加压成形面的上下方向观察而无法观察到条纹，得到石英玻璃成形体 。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP3919831B2

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：JP36033492

申请日：1992-12-29

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー・クォーツ株式会社

Inventor： 野 健 一 久 ,  生 伸 葛

IPC: C03B19/14 ,  H01S3/02 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1446 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/70

公开(公告)号：JP2005336011A

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：JP2004157738

申请日：2004-05-27

Applicant: Tohos Sgm Kk ,  Tosoh Corp ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： ARAI KAZUYOSHI ,  TAKAHATA TSUTOMU ,  HASHIMOTO SHINKICHI

IPC: C03C23/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/20 ,  C03C21/00 ,  H01L21/205

CPC classification number: C03C21/008 ,  C03C4/20 ,  C03C23/007

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a corrosion resistant glass member having sufficient corrosion resistance against a halogen gas, excellent workability, small Al contamination and low in selective corrosion causing the occurrence of particles.
SOLUTION: A part of the corrosion resistant glass member where exposed by the halogen gas contains 50-1,000 wt.ppm Al and has a melt-treated surface. The member is manufactured by mixing silica power, transition alumina powder and/or alumina-silica compound oxide power and melting the mixture.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供对卤素气体具有足够的耐腐蚀性的耐腐蚀玻璃构件，优异的可加工性，小的Al污染和低选择性腐蚀导致颗粒的发生。

解决方案：由卤素气体暴露的耐腐蚀玻璃构件的一部分含有50-1,000重量ppm的Al并且具有熔融处理的表面。 该构件通过混合二氧化硅粉末，过渡氧化铝粉末和/或氧化铝 - 二氧化硅复合氧化物粉末并将混合物熔化而制成。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2005170706A

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：JP2003410258

申请日：2003-12-09

Applicant: Tohos Sgm Kk ,  Tosoh Corp ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： HORIKOSHI HIDEHARU ,  KATO KINYA

IPC: C03B20/00 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a quartz glass excellent in ultraviolet absorptivity and visible light transmittance and excellent in devitrification resistance and heat resistance and to provide a method for producing the same.
SOLUTION: The synthetic quartz glass controlled so as to have an OH group content of at most 20 ppm, an H
2 molecule content of at most 1×10
17 molecules/cm
3 , a Cl content of at most 10 ppm, and a total metal impurity content of at most 1 ppm is excellent in ultraviolet absorptivity and visible light transmittance and excellent in devitrification resistance and heat resistance. The quartz glass can be produced by treating a soot body with an NH
3 -containing atmosphere in a soot synthesis method and vitrifying the treated soot body.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Abstract translation: 解决的问题：提供紫外吸收率和可见光透射性优异，耐失透性和耐热性优异的石英玻璃，并提供其制造方法。 解决方案：将合成石英玻璃的OH基含量控制在至多为20ppm，H SB 2分子含量至多为1×10 17 SP SP 17， 分子/ cm 3，Cl含量为10ppm以下，总金属杂质含量为1ppm以下，紫外线吸收率，可见光透射率优异，耐失透性和耐热性优异。 石墨玻璃可以通过用烟灰合成法处理具有含NH 3 SB 3气氛的烟灰体并通过玻璃化经处理的烟灰体来制造。 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2004026587A

公开(公告)日：2004-01-29

申请号：JP2002186599

申请日：2002-06-26

Applicant: Tohos Sgm Kk ,  Tosoh Corp ,  東ソ−・エスジ−エム株式会社 ,  東ソー株式会社

Inventor： HORIKOSHI HIDEHARU

IPC: C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  G03F1/60 ,  H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  Y02P40/57

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low cost synthetic quartz glass for vacuum ultraviolet light which has excellent homogeneity and is manufactured using existing general equipment without carrying out excessive and needless modification of a quartz glass synthesized by the soot method (VAD method) using a glass forming raw material such as SiCl
4 and a manufacturing method of the same and a mask substrate for vacuum ultraviolet light using the same.
SOLUTION: The synthetic quartz glass for vacuum ultraviolet light has ≥70% transmissivity per 10 mm thickness in 163 mm wave length, the difference (refractive index distribution) of ≤5×10
-6 per 10 mm thickness between the maximum refractive index and the minimum refractive index in a region of 200 mm diameter and ≤5 nm/cm birefringence. The manufacturing method of the same and the mask substrate for vacuum ultraviolet light using the same are provided.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO

公开(公告)号：JP2020132469A

公开(公告)日：2020-08-31

申请号：JP2019027719

申请日：2019-02-19

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 岡田 英昭 ,  堀越 秀春

IPC: C03B19/08 ,  C03B20/00

Abstract: 【課題】見掛け密度が低い不透明層を有し、多層石英ガラス板の熱伝導率も低く、その結果、加熱炉からの輻射や伝導による熱を十分に遮断できる多層構造石英ガラス材を提供する。 【解決手段】透明石英ガラス層、不透明石英ガラス層及び透明石英ガラス層をこの順に有する多層石英ガラス材において、不透明石英ガラス層の見掛け密度が、2.0g/cm 3 以下である、多層構造石英ガラス材。第1の透明石英ガラス板と第2の透明石英ガラス板とを対向する面が所定間隔で略平行になるように成型用鋳型内に支持し、 第1の透明石英ガラス板と第2の透明石英ガラス板との間の空間にシリカ粉末および窒化ケイ素粉末の混合粉末である不透明層用の原料粉末を充填し、 第1の透明石英ガラス板と第2の透明石英ガラス板の外側から対向する向きに荷重を掛けつつ電気炉内で加熱して原料粉末を溶融および発泡させ、その後に冷却して多層構造石英ガラス材を製造する方法。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2019182691A

公开(公告)日：2019-10-24

申请号：JP2018072674

申请日：2018-04-04

Applicant: 東ソ−・エスジ−エム株式会社

Inventor： 岡田 英昭 ,  堀越 秀春

IPC: C01B33/12 ,  C03B20/00

Abstract: 【課題】赤外領域の透過率が高く、屈折率分布の均質性に優れた石英ガラスインゴットであって、大型インゴットを製造することができる方法を提供。上記大型インゴットを熱処理し、光学特性に優れた大口径製品を得るための成型方法を提供する。 【解決手段】OH基濃度が100ppm以下であり、かつ金属不純物の濃度が各金属について1ppm以下である合成シリカ粉末をプラズマ火炎中で熔融し、熔融状態で堆積させて石英ガラスインゴットを得ることを含む石英ガラスインゴットの製造方法。この方法により石英ガラスインゴットを調製し、得られた石英ガラスインゴットを鋳型を用いて加熱変形させて石英ガラス製品を得る、石英ガラス製品の製造方法。 【選択図】図2