-
公开(公告)号:DE102008062612B4
公开(公告)日:2018-10-25
申请号:DE102008062612
申请日:2008-12-17
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: TANAKA KEIICHI , NAKAYAMA SATOSHI , ODAWARA AKIKAZU , IIJIMA SUMIO , BANDOW SHUNJI
Abstract: Röntgenstrahl-Analysator, welcher enthält:einen Übergangskantensensor (7) zum Erfassen einer Energie von einem empfangenen Röntgenstrahl als eine Temperaturänderung und Ausgeben der Temperaturänderung als ein Stromsignal;eine supraleitende Magnetabschirmung (8), welche den Übergangskantensensor (7) enthält und aus einem supraleitenden Material erstellt ist;eine Raumtemperatur-Magnetabschirmung (9), welche die supraleitende Magnetabschirmung (8) umgibt und eine Abschirmung eines externen Magnetfeldes durchführt, bis die supraleitende Magnetabschirmung (8) einen supraleitenden Zustand einnimmt; undeinen Kühlmechanismus (3; 5; 6) zum Kühlen des Übergangskantensensors (7) und der supraleitenden Magnetabschirmung (8),wobei die supraleitende Magnetabschirmung (8) und die Raumtemperatur-Magnetabschirmung (9) konzentrisch angeordnet sind, um eine zylindrische Form anzunehmen,wobei der Röntgenstrahl-Analysator ferner eine Wärmeabschirmungsplatte (4) enthält, wobei ein Endspitzenabschnitt der Wärmeabschirmungsplatte (4) an einen Basisendabschnitt der supraleitenden Magnetabschirmung (8) gekoppelt ist, wobei ein Basisendabschnitt der Wärmeabschirmungsplatte (4) mit dem Kühlmechanismus (3; 5; 6) verbunden ist,wobei der Basisendabschnitt vor der supraleitenden Magnetabschirmung (8) und der Endspitzenabschnitt der Wärmeabschirmungsplatte (4) im Querschnitt stufenförmig ausgebildet sind, um miteinander in Eingriff bringbar zu sein.
-
公开(公告)号:DE102018107250A1
公开(公告)日:2018-10-04
申请号:DE102018107250
申请日:2018-03-27
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: ASO TAKUMA , UEMOTO ATSUSHI , ASAHATA TATSUYA , SUZUKI MASATO
Abstract: Es ist hier ein tragbares Informationsendgerät offenbart, das die Bedienung eines ersten Bediengegenstands an einer gewünschten Position ausführt. Das tragbare Informationsendgerät ist von einer Vorrichtung zum Aussenden eines Strahls geladener Partikel, die Verarbeitung einer Probe durch Bestrahlen der Probe mit einem Strahl geladener Partikel ausführt, getrennt und enthält eine Anzeigesteuereinheit, die bewirkt, dass eine Anzeigeeinheit ein Bild anzeigt, das eine grafische Anwenderschnittstelle (GUI) enthält, die zum Bedienen eines ersten Bediengegenstands basierend auf einer Bedienung durch einen Anwender fähig ist, wobei das erste Bediengegenstand ein oder mehrere Bediengegenstände unter mehreren Gegenständen ist, die in der Einrichtung zum Bestrahlen mit einem Strahl geladener Partikel bedienbar sind.
-
公开(公告)号:DE102018107273A1
公开(公告)日:2018-09-27
申请号:DE102018107273
申请日:2018-03-27
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: IWAHORI TOSHIYUKI
Abstract: Hier wird eine Vorrichtung zum Aussenden eines Strahls geladener Teilchen (10) offenbart, umfassend: eine Probenkammer (11); einen Probentisch (31); eine Elektronenstrahlsäule (13), die eine Probe S unter Verwendung eines Elektronenstrahls bestrahlt; und eine Säule (14) für einen fokussierten Ionenstrahl, die die Probe S unter Verwendung eines fokussierten Ionenstrahls bestrahlt. Die Vorrichtung (10) enthält ein Elektrodenelement (45), das zwischen einer Einsetzposition zwischen einem Strahlemissionsendabschnitt der Elektronenstrahlsäule (13) und dem Probentisch (31) und einer Rückzugsposition entfernt von der Einsetzposition verschoben wird, wobei das Elektrodenelement mit einem Elektrodendurchdringungsloch versehen ist, durch das der Elektronenstrahl hindurchgeht. Die Vorrichtung (10) enthält: eine Antriebseinheit (42), die das Elektrodenelement (45) verschiebt; ein Netzteil (20), das eine negative Spannung an das Elektrodenelement (45) anlegt; und ein Isolationselement (43), das die Probenkammer (11) und die Antriebseinheit (42) von dem Elektrodenelement (45) elektrisch isoliert.
-
24.
公开(公告)号:DE102018107013A1
公开(公告)日:2018-09-27
申请号:DE102018107013
申请日:2018-03-23
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: IWAHORI TOSHIYUKI
IPC: H01J37/20
Abstract: Es wird ein Probenhalter, eine Elementmontagevorrichtung und eine Vorrichtung zum Aussenden eines Strahls geladener Teilchen offenbart, die für den sicheren Transport einer Probe zwischen unterschiedlichen Typen von Vorrichtungen zum Aussenden eines Strahls geladener Teilchen vorgesehen sind, wobei eine Verteuerung der Ausstattungskosten je Einheit oder insgesamt verhindert werden kann. Die Vorrichtung zum Aussenden eines Strahls geladener Teilchen (10) umfasst eine Haltereinheit (13) zum entfernbaren Befestigen eines Probenhalters (12) zum Aufnehmen einer Probe (S) und eine Probenobjekttischeinheit (14) zum Beladen der Haltereinheit (13) in eine Probenkammer (11). Der Probenhalter (12) umfasst ein Probenhalteelement zum Aufnehmen einer Probe (S), einen Stützabschnitt zum Stützen des Probenhalteelements und eine Klammer, die auf dem Stützabschnitt in einer Position angeordnet ist, in der das Probenhalteelement angeordnet ist.
-
公开(公告)号:DE112005000420B4
公开(公告)日:2016-07-14
申请号:DE112005000420
申请日:2005-02-18
Applicant: HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORP
Inventor: OGAWA TAKASHI
IPC: H01L21/66 , G01N23/225 , G01R31/02 , G01R31/28 , G01R31/307
Abstract: Halbleiter-Prüfverfahren, bei dem sowohl der Zustand einer Probenoberfläche, die mit einem Elektronenstrahl oder einem positiv geladenen Ionenstrahl, um die Oberfläche zu laden, bestrahlt wird, als auch die Veränderung des Zustands in Form einer Kontrastumkehr mit einem REM oder einem fokussierten Ionenstrahl, sobald ein stark geladener Zustand mit einem positiv geladenen Ionenstrahl oder einem negativ geladenen Elektronenstrahl punktbestrahlt wird, mikroskopisch beobachtet und analysiert werden, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei dem punktbestrahlenden Ionenstrahl um einen intermittierenden Impuls mit einer vorbestimmten Ladungsmenge handelt, und die Ladungsmenge durch die Anzahl von Impulsen bestimmt wird.
-
公开(公告)号:DE102015101280A1
公开(公告)日:2015-09-24
申请号:DE102015101280
申请日:2015-01-29
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: SAKUTA MASAHIRO
IPC: G01N23/083
Abstract: Ein Röntgenanalysator umfasst einen Probentisch, eine Röntgenstrahlquelle, die eine Probe mit primären Röntgenstrahlen bestrahlt, einen Detektor, der sekundäre Röntgenstrahlen erfasst, die von der Probe erzeugt werden, einen Positionseinstellmechanismus, der relative Positionen des Probentischs und der primären Röntgenstrahlen einstellt, einen Beobachtungsmechanismus, der ein Beobachtungsbild der Probe erhält, und einen Computer mit einer Anzeigeeinheit und einer Eingabeeinheit. Der Computer hat eine Funktion, im Ansprechen darauf, dass ein Zeiger aus einem Mittenbereich des Beobachtungsbildschirms zu einer bestimmten Position dadurch bewegt wird, dass die Eingabeeinheit gezogen wird und dabei einen Haltezustand beibehält, den Probentisch in einer Bewegungsrichtung und mit einer Bewegungsgeschwindigkeit zu bewegen, die einer Richtung und einer Distanz der bestimmten Position in Bezug auf den Mittenbereich entsprechen.
-
公开(公告)号:DE102015103657A1
公开(公告)日:2015-09-17
申请号:DE102015103657
申请日:2015-03-12
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: NISHIMURA SHINYA , FUJIWARA HIROHITO
Abstract: Ein Thermoanalysator ist versehen mit: einer Ofenröhre; einem Probenhalter; einem Heizofen; einer Messkammer; und einer Messeinheit. Der Heizofen hat einen an der Ofenröhre zu fixierenden Fixierungsbereich. Die Ofenröhre ist dazu ausgelegt, am Heizofen angebracht und davon gelöst werden zu können und ist mit einem Eingriffsabschnitt versehen, der dazu ausgelegt ist, mit dem Fixierungsbereich an einer variablen Position in der radialen Richtung in Eingriff zu sein. Eine ist dazu ausgelegt, vom Heizofen und der Ofenröhre gelöst werden zu können, nachdem die Ofenröhre in den Heizofen eingeführt wird und der Eingriffsabschnitt der Ofenröhre mit dem Fixierungsbereich in Eingriff ist, während die Zwischenraumeinhaltevorrichtung zwischen dem Heizofen und der Ofenröhre eingesetzt ist, um den Zwischenraum zwischen dem Heizofen und der Ofenröhre in der radialen Richtung im vorbestimmten Abstand zu halten.
-
公开(公告)号:DE102014119282A1
公开(公告)日:2015-06-25
申请号:DE102014119282
申请日:2014-12-19
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: TANAKA KEIICHI , ODAWARA AKIKAZU
IPC: G01N23/223
Abstract: Eine Röntgenfluoreszenz-Analysiereinrichtung umfasst: eine Anregungsquelle, welche dazu ausgebildet ist, eine zu analysierende Probe dazu anzuregen, charakteristische Röntgenstrahlung zu emittieren; einen Röntgendetektor, welcher dazu ausgebildet ist, die von der zu analysierenden Probe emittierte charakteristische Röntgenstrahlung zu detektieren; und eine Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen und eine Wärmeabschirmung, welche aufeinander folgend von der Analysezielprobe in Richtung zum Röntgendetektor hin angeordnet sind. Die Abschirmung gegen elektromagnetische Wellen umfasst einen Durchgangslochabschnitt, an welchem ein Durchgangsloch, durch welches die charakteristische Röntgenstrahlung tritt, ausgebildet ist, wobei das Durchgangsloch eine Größe von gleich oder weniger als 50 μm hat. Die Wärmeabschirmung ist mit einem Fensterabschnitt bereitgestellt, durch welchen die charakteristische Röntgenstrahlung tritt.
-
公开(公告)号:DE102013102659A1
公开(公告)日:2013-09-19
申请号:DE102013102659
申请日:2013-03-15
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: MAN XIN
IPC: H01J37/30 , G01N1/28 , G01N23/225 , H01J37/26
Abstract: Es ist eine Einrichtung zum Vorbereiten einer Probe bereitgestellt, welche enthält: eine Probenstufe, welche eine Probe hält; eine Säule eines fokussierten Ionenstrahls, welche einen fokussierten Ionenstrahl an die gleiche Probe anlegt und die Probe verarbeitet; und eine Bestrahlungsbereich-Einstelleinheit, welche einen Bestrahlungsbereich eines fokussierten Ionenstrahls einstellt, welcher einen ersten Bestrahlungsbereich, welcher zur Ausbildung eines Beobachtungsfeldes verwendet wird, welches mit einem Elektronenstrahl bestrahlt wird, um Rückstreu-Elektronen zu erfassen, und einen zweiten Bestrahlungsbereich, welcher zur Ausbildung einer geneigten Fläche verwendet wird, welche mit Bezug auf die senkrechte Linie des Beobachtungsfeldes bei einem Winkel von 67,5° oder mehr und weniger als 90° geneigt ist, umfasst.
-
公开(公告)号:DE102013101257A1
公开(公告)日:2013-08-14
申请号:DE102013101257
申请日:2013-02-08
Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
Inventor: SUZUKI HIDEKAZU
IPC: G01N1/28 , G01N1/32 , G01N1/44 , H01J37/305
Abstract: Es ist ein Verfahren zum Vorbereiten einer Probe zur TEM-Beobachtung bereitgestellt, welches enthält: Zuführen eines Beschichtungsgases an einen Querschnitt eines streifenförmigen Abschnitts, welcher exponierte Aussparungen hat, und Bestrahlen eines Beschichtungsfilm-Ausbildungsbereichs des Querschnitts, welcher die Aussparungen enthält, mit einem Elektronenstrahl, wodurch ein Beschichtungsfilm ausgebildet wird; Bestrahlen des Beschichtungsfilms mit einem Ionenstrahl, wodurch ein Beschichtungsfilm abgetragen wird, welcher auf dem Querschnitt ausgebildet ist; und Bestrahlen des streifenförmigen Abschnitts mit dem Ionenstrahl, wodurch der streifenförmige Abschnitt verdünnt wird.
-
-
-
-
-
-
-
-
-