公开(公告)号：KR1020130084627A

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：KR1020130004782

申请日：2013-01-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32477 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32119 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32495 ,  H05H1/46

Abstract: PURPOSE: A plasma treatment device is provided to prevent damage to other configuration member by preventing other configuration members wrapped by a dielectric cover from being exposed. CONSTITUTION: A treatment chamber (3) generates plasma. A dielectric cover (12) is arranged to face to a board (S) exposed by plasma in the treatment chamber. The dielectric cover is configured by a plurality of divided pieces (13). A gap (27) is formed at the boundary line of the two divided pieces. The gap is wrapped by a cover plate (17), and each divided pieces is supported by the cover plate.

Abstract translation: 目的：提供等离子体处理装置，通过防止由电介质盖包裹的其它构件被暴露而防止损坏其它构件。 构成：处理室（3）产生等离子体。 电介质盖（12）布置成面对在处理室中由等离子体暴露的板（S）。 电介质盖由多个分割片（13）构成。 在两个分割片的边界线处形成间隙（27）。 间隙由盖板（17）包裹，每个分割片由盖板支撑。

公开(公告)号：KR1020110139111A

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：KR1020110058551

申请日：2011-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68707

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to suppress the increase of a device due to separation of a process chamber cover by sharing a cover holding mechanism. CONSTITUTION: In a substrate processing apparatus, a rotary table(721) is installed on the support surface formed on the vacuum transfer chamber. A circular arm(7) is installed in the rotary table. A cover holding mechanism(741) is installed in the end part of the circular arm. The cover holding mechanism is passed through the upper part of a process chamber while maintaining covers. A rack gear is rotated around the peripheral direction of the rotary table.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，以通过共用盖保持机构来抑制由于处理室盖的分离而引起的装置的增加。 构成：在基板处理装置中，旋转台（721）安装在形成在真空传送室上的支撑面上。 圆形臂（7）安装在旋转台中。 在圆臂的端部安装有盖保持机构（741）。 盖保持机构在保持盖的同时通过处理室的上部。 齿条围绕旋转台的圆周方向旋转。

公开(公告)号：KR101870483B1

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：KR1020140087385

申请日：2014-07-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로 ,  야마다요우헤이 ,  사사키가즈오

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  C23C16/505

Abstract: 본발명의과제는분할타입의금속창을갖고있어도, 처리실의내부에균일한플라스마를생성하는것이가능한유도결합플라스마처리장치를제공하는것이다. 해결수단으로서, 본체용기(1)와, 본체용기(1)를, 피처리체(G)를수용하고, 수용한피처리체(G)에유도결합플라스마처리를실시하는처리실(4)과, 처리실(4) 내에유도결합플라스마를생성하기위한고주파안테나(11)를수용하는안테나실(3)에구획하는도전성을가진직사각형상의금속창(2)을구비하고, 고주파안테나(11)는, 안테나실(3)의내부에, 직사각형상의금속창(2)에대응하는면 내를주회하도록마련되며, 직사각형상의금속창(2)은, 서로전기적으로절연된복수의분할편(2a 내지 2d)으로분할되며, 분할편(2a 내지 2d)은각각, 다른부재에놓이는일 없이, 매달림부재(8)에의해서안테나실(3)의천판부(3b)로부터매달려있다.

公开(公告)号：KR101812920B1

公开(公告)日：2017-12-27

申请号：KR1020170010500

申请日：2017-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

Abstract: 본발명의과제는, 유전체커버에덮인다른구성부재가손상되는것을방지하는동시에, 퇴적물이기판에부착되는것을방지할수 있는플라즈마처리장치를제공하는것이다. 플라즈마처리장치(10)는, 플라즈마가발생하는처리실(3)과, 상기처리실(3) 내에있어서플라즈마에노출되는기판(S)과대향하여배치되는유전체커버(12)를구비하고, 유전체커버(12)는복수의분할소편(13)이조합되어구성되고, 인접하는 2개의분할소편(13)의경계선에형성된간극(27)은커버플레이트(17)에의해덮이고, 각분할소편(13)은커버플레이트(17)에의해지지된다.

Abstract translation: 本发明的目的，在相同的时间，以防止覆盖有电介质盖损害其它的构成元件，提供一种能够防止粘附到基材上的沉积的等离子体处理装置。 的等离子体处理装置10中设置和电介质覆盖处理室（3）和其相对设置的处理室中的基板（S）被暴露于等离子体的电介质盖12中，在3个过度时产生等离子体（12 形成在两个相邻分割片13的线上的间隙27被盖板17覆盖，并且每个分割片13被盖17覆盖， 并且由板17发布。

公开(公告)号：KR101302788B1

公开(公告)日：2013-09-02

申请号：KR1020110015879

申请日：2011-02-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: C21D1/38 ,  F27D7/06 ,  H01L21/3065

Abstract: 본 발명의 과제는 취급이 용이하고 파티클 원인으로 되지 않고, 대형의 처리 용기에도 적용 가능한 방열 방지 구조를 구비한 처리 용기를 제공하는 것이다.
방열 억제 유닛(105)은 처리 용기(101)의 각 측벽(101b)의 외벽면의 일부분 혹은 대략 전체면을 덮도록 측벽(101b)을 따라서 배치되어 있다. 방열 억제 유닛(105)은 복수의 플레이트재(106)에 의해 구성되고, 각 플레이트재(106)는 처리 용기(101)의 측벽(101b)의 외벽면에 배치된 스페이서(107)에 장착된다. 각 플레이트재(106)는 스페이서(107)를 개재시킴으로써, 처리 용기(101)와 이격하여 장착되고, 사이에 공기 단열부(180)가 형성되어 있다.

公开(公告)号：KR101194944B1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：KR1020110014373

申请日：2011-02-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/205 ,  C23C16/507

Abstract: 본 발명의 과제는 유도 결합 플라즈마 처리 장치에 있어서, 창 부재의 하면을 덮는 커버의 파손과 파티클의 발생을 억제할 수 있고, 또한 커버를 용이하게 착탈할 수 있도록 하는 동시에, 가스 도입의 설계 자유도를 높일 수 있는 커버 고정구를 제공하는 것이다.
유전체 커버 고정구(18)는 제1 부분 커버(12A)의 일부 및 제2 부분 커버(12B)의 일부를 각각 지지하는 지지부(18a)와, 기부(18b)를 구비하고 있다. 기부(18b)의 상부는 원통 형상으로 돌출된 볼록부(18b1)를 갖고 있고, 이 볼록부(18b1)의 주위에는 나사산(18b2)이 형성되어 있다. 기부(18b)에 있어서의 볼록부(18b1)의 내부에는 가스 도입로(21b)에 접속하는 가스 도입로(101)가 형성되어 있다. 가스 도입로(101)는 가스 유로의 일부분을 구성하여, 가스 도입로(21b)와 처리실(5)의 내부를 연통시킨다. 가스 구멍(101a)은 기부(18b)의 저벽을 관통하여 형성되어 있고, 가스 도입로(101)의 일부분을 구성한다.

公开(公告)号：KR1020110134283A

公开(公告)日：2011-12-14

申请号：KR1020110053341

申请日：2011-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/02 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196

Abstract: PURPOSE: A substrate processing device is provided to move a cover maintaining machine to an upper area of a processing chamber by heat, thereby eliminating a horizontal space of a vacuum processing chamber when a cover is attached/detached. CONSTITUTION: A load lock chamber(12) and a vacuum returning chamber(13) are installed in a carrier arranging unit(1A,1B). A substrate returning unit(21) transfers a substrate onto a support stand(14). The substrate returning unit includes vertically installed two arms(22) and a base(23) supporting the arms. A buffer rack for supporting the substrate is arranged in the load lock chamber. A plurality of processing chambers(30) is arranged on a side of the vacuum returning chamber.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于通过加热将盖保持机移动到处理室的上部区域，从而在盖被拆卸时消除真空处理室的水平空间。 构成：载体锁定室（12）和真空返回室（13）安装在载体排列单元（1A，1B）中。 基板返回单元（21）将基板传送到支撑台（14）上。 基板返回单元包括垂直安装的两个臂（22）和支撑臂的基座（23）。 用于支撑衬底的缓冲架布置在负载锁定室中。 多个处理室（30）设置在真空返回室的一侧。

公开(公告)号：KR101089877B1

公开(公告)日：2011-12-05

申请号：KR1020090032065

申请日：2009-04-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302

Abstract: 진공 용기로서 충분한 기계적 강도를 유지하면서, 경량화를 도모하는 동시에 그 재료비 및 가공비를 대폭 경감할 수 있는 진공 용기를 제공한다.
플라즈마 처리 용기(100a)는 각통(角筒) 형상으로 성형된 하부 용기(1)와, 이 하부 용기(1)에 조합되는 상부 용기(10)를 갖고 있다. 상부 용기(10)는 프레임체(21)와, 이 프레임체(21)에 절연 부재(23)를 거쳐 연결된 샤워헤드(25)와, 이들 프레임체(21) 및 샤워헤드(25)의 상방에 배치하여 마련된 비임 구조체(27)를 구비하고, 샤워헤드(25)를 구성하는 베이스판(31)은 대기압의 외부 공간에 노출하고 있다.

公开(公告)号：KR1020110095824A

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：KR1020110014373

申请日：2011-02-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/205 ,  C23C16/507

CPC classification number: H01J37/32119 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32458 ,  H01J2237/332 ,  H01J2237/334 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4652

Abstract: PURPOSE: A cover fixture and an apparatus for processing the inductive coupling of plasma are provided to have the function of fixing a cover and the function of supplying gas using a supporting part, which supports a cover, and a base which is connected to the supporting unit. CONSTITUTION: A dielectric cover fixture(18) comprises a supporting part(18a) respectively, which supports a first part cover(12A) and a second part cover(12B), and a base(18b). The top of the base includes a convex part(18b1) projected in a cylindrical shape. A screw thread(18b2) is formed around the convex part. A gas inlet way(101) of a square shape, which is connected to a gas inlet way(21b) of a stick shape, is formed inside the convex part. The gas inlet ways are connected to the inside of a process chamber. A vent(101a) is formed passing through the low wall of the base.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理等离子体的感应耦合的封盖和装置，以具有固定盖的功能和使用支撑盖的支撑部分供应气体的功能，以及连接到支撑件的基座 单元。 构成：电介质盖固定装置（18）分别包括支撑部分（18a），其支撑第一部分盖（12A）和第二部分盖（12B）以及基部（18b）。 基部的顶部包括以圆柱形突出的凸部（18b1）。 在凸部周围形成螺纹（18b2）。 在凸部内部形成有连接到棒状气体入口（21b）的方形的气体入口（101）。 进气道连接到处理室的内部。 形成通过基座的低壁的通气口（101a）。

公开(公告)号：KR1020090109485A

公开(公告)日：2009-10-20

申请号：KR1020090032065

申请日：2009-04-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/32532

Abstract: PURPOSE: A vacuum container and plasma processing apparatus is provided to perform easily maintenance and repair on a shower head by exposing the shower head to the outer space of atmospheric pressure. CONSTITUTION: The vacuum container forms the process space for a vacuum condition. The vacuum container includes the lower container(1), and the upper container(10). The lower container forms the box type of which the upper part is opened. The lower container has a mounter for the processed article. In the closed state, the upper container is closely welded to the lower container. The upper container includes the first frame body(21), the beam structure(27), and the shower head(25). The first frame bodies are contacted with the open end of the lower container. The beam structure is fixed at the first frame bodies. The shower head introduces the process gas in the process space.

Abstract translation: 目的：提供一种真空容器和等离子体处理装置，通过将淋浴喷头暴露在大气压的外部空间内，可以很容易地在淋浴头上进行维护和修理。 构成：真空容器形成真空条件的处理空间。 真空容器包括下容器（1）和上容器（10）。 下部容器形成上部打开的盒子类型。 下容器具有用于加工制品的安装器。 在关闭状态下，上容器与下容器紧密焊接。 上容器包括第一框架体（21），梁结构（27）和淋浴喷头（25）。 第一框体与下容器的开口端接触。 梁结构固定在第一框体上。 淋浴头将工艺气体引入工艺空间。