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公开(公告)号:KR1020120117872A
公开(公告)日:2012-10-24
申请号:KR1020127021404
申请日:2011-01-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H3/00 , H01L21/205 , H01J37/32
CPC classification number: H01L21/32139 , H01J37/321 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01L21/0273 , H01L21/0337 , H01L21/28123 , G03F7/2065 , H05H1/46
Abstract: 본 발명은, 포토레지스트층의 에칭 내성을 향상시키기 위해 스위쳐블 준중성빔 시스템을 이용하여 실시간으로 기판을 처리하는 장치 및 방법을 제공할 수 있다. 또한, 게이트 및/또는 스페이서 임계 치수(CDs)를 더 정밀하게 제어하고, 게이트 및/또는 스페이서 CD 균일성을 제어하며, 선 에지 조도(LER) 및 선폭 조도(LWR)를 제거하기 위해, 개선된 포토레지스트층이 에칭 절차에서 이용될 수 있다.
Abstract translation: 本发明可以提供使用可切换的准中性束系统实时地处理衬底以提高光致抗蚀剂层的耐蚀刻性的装置和方法。 此外,改进的光致抗蚀剂层可以用于蚀刻过程中以更准确地控制栅极和/或间隔物临界尺寸(CD),以控制栅极和/或间隔区CD均匀性,并且消除线边缘粗糙度(LER)和线 宽度粗糙度(LWR)。
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公开(公告)号:KR100970684B1
公开(公告)日:2010-07-15
申请号:KR1020047021678
申请日:2003-06-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 펑크메리트
IPC: H01L21/66 , H01L21/02 , G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)는 반도체 처리 시스템에서 툴 및 프로세스 성능을 모니터링하는 동적 센서들을 구성하고 셋업하는데 제공된다. 반도체 처리 시스템은 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈(챔버), 및 다수의 센서를 포함한다. 그래픽 디스플레이는 모든 중요한 파라미터들이 명확하고 논리적으로 디스플레이되도록 조직화되므로, 사용자는 가능한 한 입력하지 않고도 원하는 구성 및 셋업 태스크들을 수행할 수 있다. GUI는 웹-기반이며 웹 브라우저를 이용하여 사용자에게 뷰잉될 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020080111105A
公开(公告)日:2008-12-22
申请号:KR1020087026270
申请日:2007-01-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L22/12
Abstract: A method of processing a wafer is presented that includes creating a pre-processing measurement map using measured metrology data for the wafer including metrology data for at least one isolated structure on the wafer, metrology data for at least one nested structure on the wafer, bi-layer mask data, and BARC layer data. At least one pre-processing prediction map is calculated for the wafer. A pre-processing confidence map is calculated for the wafer. The pre-processing confidence map includes a set of confidence data for the plurality of dies on the wafer. A prioritized measurement site is determined when the confidence data for one or more dies is not within the confidence limits. A new measurement recipe that includes the prioritized measurement site is then created. ® KIPO & WIPO 2009
Abstract translation: 提出了一种处理晶片的方法,其包括使用测量的晶片的测量数据创建预处理测量图,包括晶片上的至少一个隔离结构的测量数据,晶片上的至少一个嵌套结构的度量数据,bi 层掩模数据和BARC层数据。 为晶片计算至少一个预处理预测图。 计算晶片的预处理置信图。 预处理置信图包括晶片上的多个管芯的一组置信数据。 当一个或多个管芯的置信度数据不在置信限度内时,确定优先测量点。 然后创建包含优先测量站点的新测量配方。 ®KIPO&WIPO 2009
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公开(公告)号:KR100873114B1
公开(公告)日:2008-12-09
申请号:KR1020057000083
申请日:2003-06-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G06F17/50 , G05B19/418 , H01L21/00
CPC classification number: G05B19/418 , G05B2219/31334 , G05B2219/32128 , G05B2219/45031 , Y02P90/02 , Y02P90/16 , Y02P90/18 , Y02P90/185 , Y02P90/86
Abstract: 본 발명에 따르면, 반도체 처리 시스템내의 툴 및 프로세스 성능을 모니터링하는 센서들을 구성 및 셋업하기 위한 그래픽 사용자 인터페이스(GUIs)가 제시된다. 상기 반도체 처리 시스템은 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈(챔버) 및 다수의 센서를 포함한다. 모든 중요한 파라미터들이 명확하고 논리적으로 디스플레이됨으로써, 사용자가 가능한 한 적은 입력으로 원하는 구성 및 셋업의 임무를 수행할 수 있도록 그래픽 디스플레이가 조직된다. GUI는 웹을 기반으로하며 웹 브라우저를 사용하는 사용자에 의하여 뷰잉될 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020050061498A
公开(公告)日:2005-06-22
申请号:KR1020057005460
申请日:2003-09-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , G05B19/418
CPC classification number: G05B19/4184 , G05B19/41865 , G05B23/0259 , G05B23/0264 , G05B23/0267 , G05B2219/31186 , G05B2219/32126 , G05B2219/32128 , G05B2219/33148 , G05B2219/33225 , G05B2219/45031 , H01L21/67276 , H01L22/20 , Y02P90/14 , Y02P90/18 , Y02P90/20 , Y02P90/86
Abstract: An Advanced Process Control (APC) system including Graphical User Interfaces (GUIs) is presented for monitoring and controlling a semiconductor manufacturing process that is performed by a semiconductor processing system. The semiconductor processing system includes a number of processing tools, a number of processing modules (chambers), and a number of sensors, and the APC system comprises an APC server, database, interface server, client workstation, and GUI component. The GUI is webbased and is viewable by a user using a web browser.
Abstract translation: 提出了包括图形用户界面(GUI)的高级过程控制(APC)系统,用于监控和控制由半导体处理系统执行的半导体制造过程。 半导体处理系统包括多个处理工具,多个处理模块(室)和多个传感器,APC系统包括APC服务器,数据库,接口服务器,客户端工作站和GUI组件。 GUI是基于web的,并且可以由使用web浏览器的用户查看。
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公开(公告)号:KR1020050058374A
公开(公告)日:2005-06-16
申请号:KR1020057002833
申请日:2003-08-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 펑크메리트
IPC: G05B19/418
CPC classification number: G05B15/02 , G05B19/41865 , G05B19/41875 , G05B23/0224 , G05B2219/32128 , G05B2219/33054 , G05B2219/33055 , G05B2219/35504 , G05B2219/36284 , G05B2219/42001 , Y02P90/14 , Y02P90/20 , Y02P90/22 , Y02P90/86
Abstract: This invention is a method for managing data in a semiconductor processing environment. Raw data is collected during a process. Also, trace file data and process log file data are received. The raw data is synchronized with the trace file data and process log file data to create wafer data Summary data is calculated from the raw data and a file is created containing the wafer data and the summary data.
Abstract translation: 本发明是一种在半导体处理环境中管理数据的方法。 在一个过程中收集原始数据。 此外,接收跟踪文件数据和进程日志文件数据。 原始数据与跟踪文件数据和进程日志文件数据同步以创建晶圆数据从原始数据计算摘要数据,并创建包含晶圆数据和汇总数据的文件。
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公开(公告)号:KR1020050019824A
公开(公告)日:2005-03-03
申请号:KR1020047021678
申请日:2003-06-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 펑크메리트
IPC: H01L21/66 , H01L21/02 , G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)는 반도체 처리 시스템에서 툴 및 프로세스 성능을 모니터링하는 동적 센서들을 구성하고 셋업하는데 제공된다. 반도체 처리 시스템은 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈(챔버), 및 다수의 센서를 포함한다. 그래픽 디스플레이는 모든 중요한 파라미터들이 명확하고 논리적으로 디스플레이되도록 조직화되므로, 사용자는 가능한 한 입력하지 않고도 원하는 구성 및 셋업 태스크들을 수행할 수 있다. GUI는 웹-기반이며 웹 브라우저를 이용하여 사용자에게 뷰잉될 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020050010842A
公开(公告)日:2005-01-28
申请号:KR1020047019205
申请日:2003-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67276 , G05B19/4065 , G05B2219/37234 , G05B2219/45031 , H01L21/67253
Abstract: 본 발명에 따르면, 반도체 처리 시스템의 처리 툴에 대한 툴 성능을 모니터링하는 방법 및 장치가 제공된다. 반도체 처리 시스템은, 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈, 다수의 센서, 및 알람 관리 시스템을 포함한다. 처리 툴에 대한 툴 헬스 데이터가 수집되는 툴 헬스 제어 전략이 실행된다. 툴 헬스 데이터가 분석되는 툴 헬스 분석 전략이 실행된다. 개입 관리자는 알람이 발생한 경우에 처리 툴을 중지시킬 수 있다. 개입 관리자는 알람이 발생하지 않은 경우에 처리 툴을 중지시키는 것을 억제한다.
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