스위쳐블 중성빔 소스
    21.
    发明公开
    스위쳐블 중성빔 소스 审中-实审
    可切换的中性光束源

    公开(公告)号:KR1020120117872A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:KR1020127021404

    申请日:2011-01-10

    Abstract: 본 발명은, 포토레지스트층의 에칭 내성을 향상시키기 위해 스위쳐블 준중성빔 시스템을 이용하여 실시간으로 기판을 처리하는 장치 및 방법을 제공할 수 있다. 또한, 게이트 및/또는 스페이서 임계 치수(CDs)를 더 정밀하게 제어하고, 게이트 및/또는 스페이서 CD 균일성을 제어하며, 선 에지 조도(LER) 및 선폭 조도(LWR)를 제거하기 위해, 개선된 포토레지스트층이 에칭 절차에서 이용될 수 있다.

    Abstract translation: 本发明可以提供使用可切换的准中性束系统实时地处理衬底以提高光致抗蚀剂层的耐蚀刻性的装置和方法。 此外,改进的光致抗蚀剂层可以用于蚀刻过程中以更准确地控制栅极和/或间隔物临界尺寸(CD),以控制栅极和/或间隔区CD均匀性,并且消除线边缘粗糙度(LER)和线 宽度粗糙度(LWR)。

    동적 센서 구성 및 런타임 실행 방법
    22.
    发明授权
    동적 센서 구성 및 런타임 실행 방법 有权
    动态传感器配置和运行执行方法

    公开(公告)号:KR100970684B1

    公开(公告)日:2010-07-15

    申请号:KR1020047021678

    申请日:2003-06-18

    Inventor: 펑크메리트

    CPC classification number: Y02P90/02

    Abstract: 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)는 반도체 처리 시스템에서 툴 및 프로세스 성능을 모니터링하는 동적 센서들을 구성하고 셋업하는데 제공된다. 반도체 처리 시스템은 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈(챔버), 및 다수의 센서를 포함한다. 그래픽 디스플레이는 모든 중요한 파라미터들이 명확하고 논리적으로 디스플레이되도록 조직화되므로, 사용자는 가능한 한 입력하지 않고도 원하는 구성 및 셋업 태스크들을 수행할 수 있다. GUI는 웹-기반이며 웹 브라우저를 이용하여 사용자에게 뷰잉될 수 있다.

    웨이퍼 균일성 제어에서의 동적 계측 샘플링을 이용한 웨이퍼 처리 방법
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1020080111105A

    公开(公告)日:2008-12-22

    申请号:KR1020087026270

    申请日:2007-01-24

    CPC classification number: H01L22/12

    Abstract: A method of processing a wafer is presented that includes creating a pre-processing measurement map using measured metrology data for the wafer including metrology data for at least one isolated structure on the wafer, metrology data for at least one nested structure on the wafer, bi-layer mask data, and BARC layer data. At least one pre-processing prediction map is calculated for the wafer. A pre-processing confidence map is calculated for the wafer. The pre-processing confidence map includes a set of confidence data for the plurality of dies on the wafer. A prioritized measurement site is determined when the confidence data for one or more dies is not within the confidence limits. A new measurement recipe that includes the prioritized measurement site is then created. ® KIPO & WIPO 2009

    Abstract translation: 提出了一种处理晶片的方法,其包括使用测量的晶片的测量数据创建预处理测量图,包括晶片上的至少一个隔离结构的测量数据,晶片上的至少一个嵌套结构的度量数据,bi 层掩模数据和BARC层数据。 为晶片计算至少一个预处理预测图。 计算晶片的预处理置信图。 预处理置信图包括晶片上的多个管芯的一组置信数据。 当一个或多个管芯的置信度数据不在置信限度内时,确定优先测量点。 然后创建包含优先测量站点的新测量配方。 ®KIPO&WIPO 2009

    동적 센서 구성 및 런타임 실행 방법
    27.
    发明公开
    동적 센서 구성 및 런타임 실행 방법 有权
    动态传感器配置和运行执行方法

    公开(公告)号:KR1020050019824A

    公开(公告)日:2005-03-03

    申请号:KR1020047021678

    申请日:2003-06-18

    Inventor: 펑크메리트

    CPC classification number: Y02P90/02

    Abstract: 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)는 반도체 처리 시스템에서 툴 및 프로세스 성능을 모니터링하는 동적 센서들을 구성하고 셋업하는데 제공된다. 반도체 처리 시스템은 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈(챔버), 및 다수의 센서를 포함한다. 그래픽 디스플레이는 모든 중요한 파라미터들이 명확하고 논리적으로 디스플레이되도록 조직화되므로, 사용자는 가능한 한 입력하지 않고도 원하는 구성 및 셋업 태스크들을 수행할 수 있다. GUI는 웹-기반이며 웹 브라우저를 이용하여 사용자에게 뷰잉될 수 있다.

    툴 성능을 모니터링하는 장치 및 방법
    28.
    发明公开
    툴 성능을 모니터링하는 장치 및 방법 有权
    用于监测工具性能的设备和方法

    公开(公告)号:KR1020050010842A

    公开(公告)日:2005-01-28

    申请号:KR1020047019205

    申请日:2003-05-28

    Abstract: 본 발명에 따르면, 반도체 처리 시스템의 처리 툴에 대한 툴 성능을 모니터링하는 방법 및 장치가 제공된다. 반도체 처리 시스템은, 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈, 다수의 센서, 및 알람 관리 시스템을 포함한다. 처리 툴에 대한 툴 헬스 데이터가 수집되는 툴 헬스 제어 전략이 실행된다. 툴 헬스 데이터가 분석되는 툴 헬스 분석 전략이 실행된다. 개입 관리자는 알람이 발생한 경우에 처리 툴을 중지시킬 수 있다. 개입 관리자는 알람이 발생하지 않은 경우에 처리 툴을 중지시키는 것을 억제한다.

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