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公开(公告)号：KR1020120005983A
公开(公告)日：2012-01-17
申请号：KR1020110067927
申请日：2011-07-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: A liquid treating apparatus and a maintenance method for a nozzle are provided to accelerate the discharge of foreign materials or bubbles from the nozzle by sufficiently pressurizing chemical in a cavity. CONSTITUTION: A liquid treating apparatus includes a long shaped nozzle(10) and a relative moving unit. The nozzle discharges chemical with respect to a substrate(G) though a discharging hole. The relative moving unit relatively moves the substrate with respect to the nozzle. The nozzle includes a chemical introducing part and a chemical discharging part. A maintenance stage(25) with a sealing material(25c) is arranged at a part of the liquid treating apparatus. The sealing material seals the discharging hole by being contact with the discharging hole.
Abstract translation: 目的：提供一种用于喷嘴的液体处理装置和维护方法，以通过在空腔中充分加压化学品来加速从喷嘴排出异物或气泡。 构成：液体处理装置包括长形喷嘴（10）和相对移动单元。 喷嘴通过排出孔相对于基板（G）排出化学物质。 相对移动单元相对于喷嘴相对地移动基板。 喷嘴包括化学品引入部分和化学品排出部分。 具有密封材料（25c）的维护台（25）布置在液体处理设备的一部分。 密封材料通过与排放孔接触而密封排出孔。
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公开(公告)号：KR1020110066864A
公开(公告)日：2011-06-17
申请号：KR1020100125402
申请日：2010-12-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303 , H01L21/67109 , H01L21/67703
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a recording medium for storing the program are provided to prevent the deviation of a film thickness of a coating film without increasing manufacturing costs. CONSTITUTION: A substrate processing apparatus comprises a substrate transferring path(34) which moves the substrate to a direction, an air current forming unit(110) which dries the substrate using an air current, a plurality of air jetting units(120) which jets air at the upper part of the substrate, a plurality of vacuum units(140) which absorb the jetted air, and a supply path(124) which connects an air outlet(122) with the air jetting units.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，基板处理方法和用于存储程序的记录介质，以防止涂膜的膜厚度的偏差而不增加制造成本。 构成：基板处理装置包括使基板向一个方向移动的基板传送路径（34），利用气流使基板干燥的气流形成单元（110），喷射多个喷射单元 在基板的上部的空气，吸收喷射空气的多个真空单元（140），以及将空气出口（122）与空气喷射单元连接的供给路径（124）。
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公开(公告)号：KR1020100042586A
公开(公告)日：2010-04-26
申请号：KR1020090093203
申请日：2009-09-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/06 , B65G47/91 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67784 , B65G47/911 , B65G49/061 , B65G49/065 , G02F1/1303
Abstract: PURPOSE: A substrate transferring device and a substrate transferring method are provided to secure a substrate valid area by maintain the substrate without shaking. CONSTITUTION: A lifting stage lifts a substrate with different height. A pair of substrate carriers(26) are installed to move along a guide rail. A substrate maintaining unit(24) is formed more than the length of a substrate valid area in the edge of the substrate, and absorbs and maintains the edge of the substrate to be freely detached. An alignment unit(65) moves the substrate into a preset position by contacting a centering unit with a side end of the substrate on the substrate maintaining unit.
Abstract translation: 目的：提供基板转印装置和基板转印方法，以通过保持基板而不晃动来固定基板有效区域。 构成：升降台提升不同高度的基材。 一对基板载体（26）被安装成沿导轨移动。 基板保持单元（24）的形成比基板的边缘的基板有效区域的长度大，吸收并保持基板的边缘自由分离。 对准单元（65）通过使定心单元与基板保持单元上的基板的侧端接触来将基板移动到预定位置。
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公开(公告)号：KR100821411B1
公开(公告)日：2008-04-10
申请号：KR1020020021907
申请日：2002-04-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 장치구성상의 문제를 발생하지 않고, 높은 생산성과 소형의 풋프린트를 겸비할 수 있으며, 더구나 장치의 길이를 비교적 짧게 할 수 있는 복수의 처리유니트를 구비한 처리장치를 제공하는 것이다.
처리장치(100)는, 기판(G)이 대략 수평으로 반송되면서 소정의 액처리가 이루어지는 액처리유니트(21,23,24)와, 액처리유니트(21,23,24)의 각각에 대응하여 설치되어, 각 액처리후에 소정의 열적처리를 하는 복수의 열적처리유니트가 집약되어 설치된 열적처리유니트 섹션(26,27,28)과, 액처리유니트(21,23,24)로부터 반출된 기판(G)을 각 열적처리유니트 섹션으로 반송하는 복수의 반송장치(33,37,40)를 구비하며, 액처리유니트(21,23,24) 및 열적처리유니트 섹션(26,27,28)은, 실질적으로 처리의 순서대로 또한 소정간격을 두고 실질적으로 2열(2a,2b)로 배치되며, 열적처리유니트의 적어도 일부가 이들 2열의 사이에 배치되어 있다.-
公开(公告)号：KR100687393B1
公开(公告)日：2007-02-26
申请号：KR1020010014353
申请日：2001-03-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 모토다기미오
IPC: H01L21/304
Abstract: 레지스트가 도포된 기판을 처리하는 장치는 레지스트막이 형성된 기판을 소정의 위치에서 유지한 상태에서 기판을 감압, 건조하고 또한 기판의 가장자리의 레지스트를 제거할 수 있는 구조를 구비한다. 이에 의해 기판에 대한 전사발생의 방지 및 택트타임의 단축을 가능하게 하는 것이다.
Abstract translation: 一种用于处理涂覆有抗蚀剂基材是压敏基底，同时保持在预定的位置形成抗蚀剂膜的基板，干燥，并且还具有能够除去在基板的边缘上的抗蚀剂的结构。 从而防止在衬底上产生传输并缩短生产节拍时间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019990045032A
公开(公告)日：1999-06-25
申请号：KR1019980047283
申请日：1998-11-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.-
公开(公告)号：KR101782192B1
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：KR1020130068528
申请日：2013-06-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: B05C5/0258 , B05C5/0254 , H01L21/6715 , Y10T137/0318
Abstract: 노즐에의도포액의충전작업을효율화시키는것을과제로한다. 실시형태에따른도포장치는, 노즐과, 이동기구와, 압력조정부와, 압력제어부를구비한다. 노즐은, 도포액이저류되는저류실과, 저류실에연통하는슬릿형의유로를구비하고, 유로의선단에형성되는토출구로부터도포액을토출한다. 이동기구는, 노즐과기판을기판의표면을따라상대적으로이동시킨다. 압력조정부는, 저류실의내부의압력을조정한다. 압력제어부는, 압력조정부를제어하여저류실의내부의압력을조정한다. 압력제어부는, 압력조정부를제어하여, 저류실의내부를부압으로하고, 또한, 부압으로한 저류실의내부의압력을서서히저하시키면서, 저류실의내부에도포액을충전한다.
Abstract translation: 有必要使喷嘴上的涂布液的填充操作更有效。 根据该实施例的包装装置包括喷嘴，移动机构，压力调节部和压力控制部。 喷嘴具有储存涂布液的储藏室和与储藏室连通的狭缝状的流路，并且从形成在流路的前端的喷出口喷出涂布液。 移动机构沿着基板的表面相对地移动喷嘴和基板。 压力调节部分调节储存室内的压力。 压力控制单元控制压力调节单元以调节保持室内的压力。 压力控制部分控制压力调节部分，以逐渐降低贮存室内的设定为负压的贮存室的内部压力，同时将贮存室中的涂布液充入。
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公开(公告)号：KR101052977B1
公开(公告)日：2011-07-29
申请号：KR1020050017189
申请日：2005-03-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 피처리기판의 두께의 불균일에 대하여 스테이지 상의 피처리기판과 도포노즐의 토출구와의 사이의 갭을 일정하게 유지하는 갭 관리를 효율적으로 하는 것을 과제로 한다.
해결수단으로 투광부(152)는, 연직방향에 분포하는 평행광의 광 빔(LB)을 수광부(154)를 향하여 수평으로 투광한다. 수광부(154)는, 투광부(152)로부터의 광 빔(LB)을 1차원 CCD(154a)에서 수광한다. 이 일차원 CCD(154a)에서의 최하단의 광 빔 수광위치는, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있을 때는 기판(G)의 윗면의 높이 위치 H
A 에 해당하고, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있지 않을 때는 흡착유지부(150)의 윗면의 높이 위치 H
B 에 해당한다. 계측제어연산부(156)는, 수광부(154)에서의 최하단 광 빔 수광위치(H
A , H
B )를 산출하여, 양 수광위치 사이의 고저차(H
A -H
B )을 구하여 이것을 상기 기판(G)의 두께의 측정값(TK)으로 하는 것이다.Abstract translation: 存在这样的问题：使待处理基板的待处理基板与涂布喷嘴的排出口之间的间隙相对于待处理基板的厚度不均匀性保持恒定水平的间隙管理是有效的。
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公开(公告)号：KR101018909B1
公开(公告)日：2011-03-02
申请号：KR1020030074140
申请日：2003-10-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 스테이지(100)상에 기판(G)이 얹어 놓여져 있는 상태에서, 고압가스공급원으로부터의 고압의 공기를, 가스공급관(118) 및 통형상지지체(114)내의 통풍로(114a)를 통해 가스토출부(116)로부터 소정의 압력으로 토출시킴으로써, 기판(G)을 지지핀(108)으로부터 실질적으로 뜨게 한다. 가스토출부(116)가 호른형으로 형성되어 있기 때문에, 기판(G)의 하면에 닿은 공기는 소용돌이류를 생기는 일없이 순조롭게 빈틈(g)을 통해 밖으로 빠져나간다. 이 구성에 의해, 피처리기판에 흠집이나 문지른 흔적을 남기는 일없이, 또한 파티클을 생기는 일없이, 기판의 위치맞춤을 안전하고 정확하게, 나아가서는 효율적으로 할 수 있다.
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公开(公告)号：KR100586119B1
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：KR1019980047283
申请日：1998-11-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/00
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.
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