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公开(公告)号：KR1020110085883A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：KR1020110001813
申请日：2011-01-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/68 , B65G49/06 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67784 , B65G49/061 , B65G49/067 , G02F1/1303 , H01L21/68742
Abstract: PURPOSE: A substrate transfer apparatus and a substrate transfer method are provided to shorten tack time from entry of a substrate to return start, thereby increasing throughput. CONSTITUTION: A floating stage(3) floats a substrate(G) by spraying a gas. A pair of guide rails(5) are arranged on the side of the floating stage. A substrate carrier(6) suctions an edge of the substrate. An alignment device(7) arranges the substrate on a fixed location. A controller(50) controls the substrate carrier and the alignment device.
Abstract translation: 目的：提供基板转印装置和基板转印方法，以缩短从基材进入返回开始的粘着时间，从而提高生产量。 构成：浮动阶段（3）通过喷射气体漂浮基板（G）。 一对导轨（5）布置在浮动台的一侧。 衬底载体（6）吸附衬底的边缘。 对准装置（7）将基板布置在固定位置。 控制器（50）控制衬底载体和对准装置。
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公开(公告)号：KR1020140037770A
公开(公告)日：2014-03-27
申请号：KR1020130110463
申请日：2013-09-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/208
Abstract: The purpose of the present invention is to improve the layer thickness uniformity of a coating layer by efficiently and easily preventing a frame phenomenon (coffee strain) of the coating layer formed on a substrate. The coating apparatus includes a long-chuck-type slit nozzle (10), a chemical solution supply part (12), a scanning unit (14), a stage (16), a solvent atmosphere generation part (18), and a control part (20), is installed in a clean room, and is operated under the down flow of clean air. The solvent atmosphere generation part (18) generates the atmosphere of solvent vapor around the substrate (G) of the stage (16), and has a solvent absorption and desorption of moisture part which is installed around a region where the substrate (G) of the stage (16) is arranged, and a solvent supply part (28) for supplying a solvent to the solvent absorption and desorption of moisture part through a solvent supply line (26). [Reference numerals] (12) Chemical solution supply part; (14) Scanning unit; (16) Stage; (20) Control part; (28) Solvent supply part
Abstract translation: 本发明的目的是通过有效且容易地防止在基板上形成的涂层的框架现象（咖啡变形）来改善涂层的层厚均匀性。 涂布装置包括长卡盘式狭缝喷嘴（10），化学溶液供给部（12），扫描单元（14），载物台（16），溶剂气体生成部（18） 部件（20）安装在洁净室内，并在清洁空气的下流下运行。 溶剂气体产生部件（18）在工作台（16）的基板（G）的周围产生溶剂蒸气的气氛，并且具有吸收和解吸部分的水分，该部分被安装在基板 布置了工作台（16），以及溶剂供应部件（28），用于通过溶剂供应管线（26）将溶剂供给溶剂吸收和解吸湿部件。 （附图标记）（12）化学溶液供给部; （14）扫描单元; （16）阶段; （20）控制部分; （28）溶剂供给部
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公开(公告)号：KR102122613B1
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：KR1020130110463
申请日：2013-09-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/687
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公开(公告)号：KR1020070092149A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：KR1020070022338
申请日：2007-03-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , B05C5/02
CPC classification number: G02F1/1303 , B05C5/0204 , G03F7/16
Abstract: A priming processing method and a priming processing apparatus are provided to reduce the amount of cleaning solution and to prevent the generation of particles by cleaning an entire surface of a priming roller without using a scraper. A priming processing method includes a process for forming a liquid layer of a processing solution as an advance preparation of a coating process around an outlet of a long-sized nozzle used in a coating process using a spinless method. The processing solution is injected from the nozzle by opposing the outlet and a circumference of the nozzle or an upper end of a cylindrical priming roller(188) in parallel to each other in a predetermined gap. Simultaneously, a partial surface region is used in the priming process by rotating the priming roller as much as a predetermined rotatory angle. A surface of the priming roller is cleaned after the priming process is finished.
Abstract translation: 提供了一种起动处理方法和起动处理装置，以减少清洗液的量，并且通过在不使用刮刀的情况下清洁起动辊的整个表面来防止产生颗粒。 起动处理方法包括用于形成处理液的液体层的方法，作为在使用无旋涂法的涂布工艺中使用的长尺寸喷嘴的出口周围的涂布工序的预先准备。 通过使喷嘴相对于喷嘴的圆周或圆柱形起动辊（188）的上端以预定的间隙彼此平行地从喷嘴喷射处理溶液。 同时，通过以预定的旋转角旋转起动辊，在起动过程中使用部分表面区域。 起动过程完成后，清洁起动辊的表面。
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公开(公告)号：KR101760951B1
公开(公告)日：2017-07-24
申请号：KR1020110067927
申请日：2011-07-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: [과제] 기판폭 방향으로긴 슬릿형상의토출구를갖는노즐을구비한도포장치에있어서, 노즐내에침입한이물이나기포등을효과적으로배출시키는것. [해결수단] 도포장치(1)의일부에는, 메인터넌스스테이지(25)가구비되어있다. 이메인터넌스스테이지(25)에는, 노즐(10)의슬릿형상토출구에맞닿아상기토출구를밀봉할수 있는긴 형상의유연성을갖는소재에의해형성된밀봉부재(25c)가배치되어있다. 상기노즐(10)을메인터넌스스테이지(25)로이동시키고, 상기노즐(10)의토출구를상기밀봉부재(25c)에맞닿게한 상태로하는동시에, 상기노즐에구비된약액도입부및 약액도출부를각각이용하여, 노즐내로약액을흐르게하는동작이실행된다.
Abstract translation: 发明内容本发明的目的在于提供一种涂布装置，该涂布装置具有在基材宽度方向上具有长狭缝状的排出口的喷嘴，从而能够有效地将渗入到喷嘴内的水或气泡排出。 [解决问题的手段]涂布装置（1）的一部分配备有维护台（25）。 维护单元25设置有密封构件25c，密封构件25c由具有长形形状的柔性材料形成，该密封构件25c抵靠喷嘴10的狭缝状排出口并且可以密封排出口。 喷嘴10移动到维护台25，使得喷嘴10的排出口与密封构件25c接触，并且分别使用设置在喷嘴中的药液导入部和药液排出部 并且执行使药液流入喷嘴的操作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101351684B1
公开(公告)日：2014-01-14
申请号：KR1020070022338
申请日：2007-03-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , B05C5/02
Abstract: 본 발명은 프라이밍 처리에 있어서, 파티클의 발생을 방지하고, 세정액의 사용량을 대폭으로 저감하는 것에 관한 것이다.
하우징(190) 내에는, 프라이밍 롤러(188)의 상단에서 하단까지 정의 회전 방향(시계 회전)을 따라 향하는 도중에 미스트 차폐판(202) 및 세정부(204)가 설치되어 있다. 더욱이, 프라이밍 롤러(188)에서 봤을 때 미스트 차폐판(202) 및 세정부(204)와는 반대측에, 미스트 인입부(222) 및 건조부(224)가 설치되어 있다. 미스트 인입부(222) 및 건조부(224)는 흡입구(226), 진공 통로(236) 및 진공관(238)을 통해 진공 기구(240)로 통한다.-
公开(公告)号：KR1020120005983A
公开(公告)日：2012-01-17
申请号：KR1020110067927
申请日：2011-07-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: A liquid treating apparatus and a maintenance method for a nozzle are provided to accelerate the discharge of foreign materials or bubbles from the nozzle by sufficiently pressurizing chemical in a cavity. CONSTITUTION: A liquid treating apparatus includes a long shaped nozzle(10) and a relative moving unit. The nozzle discharges chemical with respect to a substrate(G) though a discharging hole. The relative moving unit relatively moves the substrate with respect to the nozzle. The nozzle includes a chemical introducing part and a chemical discharging part. A maintenance stage(25) with a sealing material(25c) is arranged at a part of the liquid treating apparatus. The sealing material seals the discharging hole by being contact with the discharging hole.
Abstract translation: 目的：提供一种用于喷嘴的液体处理装置和维护方法，以通过在空腔中充分加压化学品来加速从喷嘴排出异物或气泡。 构成：液体处理装置包括长形喷嘴（10）和相对移动单元。 喷嘴通过排出孔相对于基板（G）排出化学物质。 相对移动单元相对于喷嘴相对地移动基板。 喷嘴包括化学品引入部分和化学品排出部分。 具有密封材料（25c）的维护台（25）布置在液体处理设备的一部分。 密封材料通过与排放孔接触而密封排出孔。
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公开(公告)号：KR1020160045012A
公开(公告)日：2016-04-26
申请号：KR1020150139667
申请日：2015-10-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은액적토출장치에있어서의처리효율을향상시키면서상기액적토출장치의점유면적을작게하는것을과제로한다. 액적토출장치(1)는, 액적토출헤드(24)와, 워크스테이지(40)와, 플러싱유닛(50)과, 토출검사유닛(60)과, 토출검사카메라(31)와, 묘화검사카메라(32)를갖는다. 워크스테이지(40), 플러싱유닛(50) 및상기토출검사유닛(60)은주주사방향으로이 순서로배치된다. 토출검사카메라(31)와묘화검사카메라(32)는, 액적토출헤드(24)를사이에두고서주주사방향으로배치되고, 또한토출검사카메라(31)는플러싱유닛(50) 측에배치되며, 묘화검사카메라(32)는워크스테이지(40) 측에배치된다.
Abstract translation: 本发明的目的是在提高液体排放装置的处理效率的同时减少液体排出装置的占用面积。 液体排放装置（1）包括液体排放头（24），工作台（40），冲洗单元（50），排放监视单元（60），排放监控摄像机（31）和曝光监视 相机（32）。 工作台（40），冲洗单元（50）和排放监视单元（60）按顺序布置在水平扫描方向上。 放电监视摄像机（31）和曝光监视摄像机（32）在水平扫描方向上设置在喷墨头（24）之间，排出监视摄像机（31）位于冲洗单元（50）的一侧 ）。 曝光监视摄像机（32）设置在工作台（40）的一侧。
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公开(公告)号：KR101577481B1
公开(公告)日：2015-12-14
申请号：KR1020110001813
申请日：2011-01-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/68 , B65G49/06 , G02F1/13
Abstract: 매양식에 1매씩피처리기판을평류반송하는기판반송장치에있어서, 기판반입으로부터반송개시까지의택트타임을단축하여, 스루풋을향상한다. 피처리기판(G)을부상시키는부상스테이지(3)와, 상기부상스테이지의좌우측방에평행하게배치된한 쌍의가이드레일(5)과, 상기한 쌍의가이드레일을따라서, 각각이동가능하게설치되어, 상기기판의가장자리부를하방으로부터흡착유지가능한복수의기판캐리어(6)와, 상기부상스테이지의기판반입위치 (H)에서, 반입된상기기판에대해대기위치로부터소정위치까지자유롭게진퇴가능하도록설치되고, 상기기판에접하여상기기판을소정위치에배치하는얼라이먼트수단(7a)과, 상기부상스테이지의기판반입위치에있어서, 상기얼라이먼트수단에의해소정위치에배치된상기기판을상기기판의하방으로부터지지하는기판지지수단(8)과, 상기기판캐리어와상기얼라이먼트수단과상기기판지지수단의동작을제어하는제어부(50)를구비한다.
Abstract translation: 在一次一批搬运一个基板的基板搬运装置中，从基板搬运到搬运开始的节拍时间缩短，吞吐量提高。 一对平行于浮动平台的左侧和右侧设置的导轨（5），以及一对导轨（5），所述导轨（5）能够沿着所述一对导轨 设置，具有多个基板的边缘可以从衬底的载流子6，从衬底搬入位置的悬浮级（H），游离的下侧部分吸入到从用于导入基板待机位置的预定位置，以便来回移动 对准装置（7a），其安装在基板的预定位置处与基板接触的位置处，以将基板放置在预定位置; 以及用于控制基板载体，对准装置和基板保持装置的操作的控制单元（50）。
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公开(公告)号：KR1020110010064A
公开(公告)日：2011-01-31
申请号：KR1020100070338
申请日：2010-07-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B65G49/06 , B65G51/03 , H01L21/677 , G02F1/13
CPC classification number: B65G49/061 , B65G49/063 , B65G51/03 , B65G2249/045 , G02F1/1303 , H01L21/67784
Abstract: PURPOSE: A substrate transfer device is provided to prevent abrupt voltage rise on a substrate which is ejected from a floating stage. CONSTITUTION: A substrate transfer device comprises a floating transfer unit(2A) and a roll transfer unit(2B). The floating transfer unit transfers a substrate kept floating. The roll transfer unit is arranged behind the floating transfer unit in a transfer direction and delivers the substrate transferred from the substrate. The floating transfer unit includes a floating stage(3) which floats a substrate with air injection and suction and a substrate carrier(6) which is installed to move along a guide rail(5) arranged on a side of the floating stage and holds a side of the substrate. The roll transfer unit comprises a plurality of roll shafts(16), a plurality of conveying rolls(17), and an electrode part(20).
Abstract translation: 目的：提供衬底转移装置，以防止从浮动阶段喷射的衬底上的突然电压上升。 构成：衬底转移装置包括浮动转移单元（2A）和辊转移单元（2B）。 浮动转印单元转移保持浮动的基板。 辊传送单元在传送方向上布置在浮动传送单元的后面，并传送从基板传送的基板。 浮动传送单元包括浮动台（3），其浮动空气注入和抽吸基板;以及基板托架（6），其安装成沿着布置在浮动台的侧面上的导轨（5）移动并保持 侧面。 辊传送单元包括多个辊轴（16），多个输送辊（17）和电极部件（20）。
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