公开(公告)号：KR1019980036049A

公开(公告)日：1998-08-05

申请号：KR1019960054523

申请日：1996-11-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  장규환

IPC: H01L21/304

Abstract: 매엽식 챔버의 프로파일을 개선하여 장비의 크기를 크게 축소시킬 수 있는 반도체 세정 장치의 매엽식 챔버를 개시한다.
반도체 세정을 위하여 스핀 스크루버(scrubber) 공정과 습식 딥핑(DIPPING) 공정 그리고 드라이까지 하나의 챔버에서 진행 할 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체 세정 장치의 매엽식 챔버(Chamber)를 제공한다.
상기 스쿠루버와 스핀 프로세싱 부에는 화학물질을 분사할 수 있는 분사 노즐과 이를 린싱하여 줄 수 있는 샤워 노즐을 장착한다.
따라서 본 발명에 따르면, 매엽식 챔버를 이용하는 반도체 소자 제조 공정에 있어서, 매엽식 챔버의 프로파일을 개선하여 장비의 크기를 크게 축소시킬 수 있는 반도체 세정 장치의 매엽식 챔버를 실현할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980026075A

公开(公告)日：1998-07-15

申请号：KR1019960044400

申请日：1996-10-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  정승필

IPC: H01L21/304

Abstract: 순수한물(DI Water)을 포함하여 각종 화학물을 정확한 양으로 세정조로 빠르게 투입할 수 있는, 반도체 제조 공정에 사용되는 습식 세정장치의 세정액 공급 방법에 관하여 개시되어 있다. 이를 위하여 본 발명은, 일정양의 복수의 화학물 및 순수한물을 세정조(bath)로 공급하여 혼합하는 과정을 포함하는 습식 세정장치의 세정액 공급 방법에 있어서, 상기 복수의 화합물 및 순수한물이 저장된 정량조에 내용물의 양을 외부에서 확인할 수 있도록 레벨 센서를 설치하여, 세정조로 일정량의 화학물과 순수한물을 수동 개폐 스위치에 의하여 자연 낙하 방식으로 공급할 수 있도록하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정에 사용되는 습식 세정장치의 세정액 공급 방법을 제공한다. 또한 점도가 높은 화학물을 공급시에는, 상기 정량조의 상부에 고압의 피스톤을 추가로 설치하여 점성이 높은 화학물에 대하여 사용할 수 있다. 따라서, 세정조에 유입되는 세정액의 혼합비의 오차를 최소화하고, 공급 시간을 단축시키고, 공정의 재현성을 향상시킨 반도체 제조 공정에 사용되는 습식 세정장치의 세정액 공급 방법을 구현할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980005758A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019960025164

申请日：1996-06-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재인 ,  조용준 ,  박흥수 ,  고영범

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR1019980005314A

公开(公告)日：1998-03-30

申请号：KR1019960023912

申请日：1996-06-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  장규환 ,  정승필

IPC: H01L21/027

公开(公告)号：KR1019970064824A

公开(公告)日：1997-10-13

申请号：KR1019960005547

申请日：1996-03-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  송재인 ,  박흥수 ,  고영범

IPC: B24B55/00

Abstract: 본 발명은 CMP공정후 습식 세정 공정에서 사용될 수 있는 것으로서, 인산과 플루오로화붕소산을 포함하는 세정 용액 및 그를 이용하는 세정 방법에 관한 것이다. 본 발명의 세정 용액은 중금속 오염입자를 포함하는 오염물질층에 대한 세정효과가 우수할 뿐 아니라, 장벽 금속층을 부식시키지 않으면서 산화물층 또는 절연층의 표면부에 형성되어 있는 손상 막질을 효과적으로 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명의 세정 용액을 이용하는 세정 방법은 후속의 공정을 안정화시키는데 기여한다.

公开(公告)号：KR1019970051824A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950059251

申请日：1995-12-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정승필 ,  조용준 ,  남창현 ,  장규환

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 반도체계측장비에서 사용되는 수직단면을 갖는 시료용 웨이퍼를 제작하기 위한 시료용 웨이퍼 제작장치에 관한 것으로서, 그 구성은 테프론 기판(20)과; 상기 테프론기판(20)상에 놓여져 있는 웨이퍼(10)를 고정하기 위한 웨이퍼고정부(30)와; 상기 웨이퍼(10)의 에지부분에서 스크래치를 발생시키는 커터부(40)를 구비한다. 상기 시료용 웨이퍼제작장치에 의하면, 수직적인 단면을 갖는 시료용 웨이퍼를 안정 및 정확하면서도 용이하게 제작할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970030416A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950041688

申请日：1995-11-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  정승필 ,  방주식 ,  박명준

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 장치의 제조공정중에 웨이퍼상에 있는 미세한 파티클을 제거하는 웨이퍼세정장치에 관한 것으로서, 그 구성은 웨이퍼상에 회전되는 브러쉬(34)내에, 초순수가 일정한 파장을 갖고 분사되도록 하는 DI-소닉부와 초순수를 웨이퍼상에 분사시키는 DI-분사노즐부가 선택적으로 일체화되어 있거나 모두 함께 설치되어 있다. 상술한 본 발명의 웨이퍼세정장치에 의하면, 웨이퍼의 세정을 위해 각각의 장비를 구비할 필요가 없기 때문에 경비부담이 적고, 또한 상술한 세가지의 세정동적을 동시에 하므로서 세정에 필요한 시간이 상대적으로 적게 소요된다. 게다가, 본 발명의 웨이퍼세정장치는, 브러쉬내의 통공(36)을 통하여 초순수가 분사되기 때문에 브러쉬 자체를 세정할 수 있어서 브러쉬의 교체주기를 느릴 수 있다.

公开(公告)号：KR1020060132355A

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：KR1020050052652

申请日：2005-06-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준

IPC: G06F3/12

CPC classification number: G06F3/1284 ,  G06F3/1205 ,  G06F3/1253

Abstract: A method and a device for setting printing options are provided to enable a user to perform printing with the previous printing options without any operation when the user prints again the same document with the specific printing options. A setting information storing part(752) stores the first setting information which is the printing options set to the printed document by matching with each document. A setting information determiner(754) determines whether the first setting information matched with the document is present in the setting information storing part if the printing for the document is requested. A controller(770) receives the first setting information from the setting information storing part, and generates and displays a printing setting confirmation window for asking the printing using the first setting information to a display part(714) if the first setting information is present. The printing setting confirmation window includes an input button for changing the first setting information.

Abstract translation: 提供了一种用于设置打印选项的方法和设备，以便当用户再次使用特定打印选项再次打印相同的文档时，用户可以使用先前的打印选项进行打印，而无需任何操作。 设置信息存储部分（752）通过与每个文档匹配来存储作为打印文档的打印选项的第一设置信息。 如果要求文件的打印，设置信息确定器（754）确定与文档匹配的第一设置信息是否存在于设置信息存储部分中。 控制器（770）从设置信息存储部分接收第一设置信息，并且如果存在第一设置信息，则生成并显示用于向显示部分（714）使用第一设置信息询问打印的打印设置确认窗口。 打印设置确认窗口包括用于改变第一设置信息的输入按钮。

公开(公告)号：KR1020060090006A

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1020050010829

申请日：2005-02-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  이승건

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 세정건조장치에 관한 것으로서, 기판을 파지하고, 상기 기판을 회전시키는 스핀척; 상기 기판의 세정, 린싱, 건조를 위한 세정용 약액, 린싱용 린싱액, 건조용 건조가스 등의 처리유체를 공급하는 둘 이상의 처리유체 공급관을 구비한 상부 실린더; 내부에 관통홀이 형성되고, 일단이 상기 상부 실린더와 결합하는 하부 실린더; 일부가 상기 하부 실린더의 관통홀에 삽입되어 상기 하부 실린더 내에서 회전 가능하게 구성되고, 상기 처리유체 공급관으로부터 공급되는 처리유체를 수용하기 위한 하나 이상의 환형홈 및 중앙홀을 구비하며, 또한 상기 환형홈과 연통된 하나 이상의 연통홀을 구비한 회전축; 상기 회전축의 일단에 연결되고, 내부에 상기 연통홀 및 상기 중앙홀과 각각 연통되는 둘 이상의 전달홀을 구비하며, 또한 상기 전달홀과 각각 연결되어 상기 기판에 처리유체를 분사하는 다수의 분사노즐을 구비한 분사부; 및 상기 회전축을 회전시키기 위한 회전 수단을 포함하는 세정건조장치를 제공한다.
본 발명에 의하면, 다수의 분사노즐을 갖는 분사부를 회전시키면서 기판에 약액, 린싱액, 건조가스를 각각 분사함으로써 분사 균일도를 향상시켜 각각의 세정, 린싱, 건조공정의 효율을 극대화할 수 있고, 특히 기판 표면에서 발생할 수 있는 미건조 현상을 방지함으로써 기판의 오염 물질로 작용하는 워터 마크의 발생을 방지할 수 있는 이점이 있다.
기판, 세정, 건조, 노즐, 워터 마크

公开(公告)号：KR100480636B1

公开(公告)日：2005-03-31

申请号：KR1020020073049

申请日：2002-11-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조용준 ,  김영희 ,  윤영환 ,  백두현

IPC: H01L21/28

CPC classification number: H01L27/10888 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/76897

Abstract: 본 발명은 반도체 장치의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 반도체 장치의 제조방법은, 먼저, 소자형성 영역이 정의된 반도체 기판을 제공한다. 소자형성 영역 상에 측벽에 자기 정렬 콘택 형성용 측벽 스페이서를 구비하는 게이트 및 게이트 양측의 반도체 기판에 소스 및 드레인을 형성한다. 소스 및 드레인 상에 식각 정지막을 형성한다. 반도체 기판 전면에 평탄화된 제1층간 절연막을 형성한다. 건식식각법으로 측벽 스페이서와 식각 정지막의 상층을 식각 종료점으로 하여 제1층간 절연막을 식각하여 소스 및 드레인을 노출시키기 위한 자기 정렬 콘택홀을 형성한다. 습식식각법으로 소스 및 드레인 상의 식각 정지막을 제거하여 소스와 드레인을 노출시킨다. 그리고, 자기정렬 콘택홀에 도전성 폴리 실리콘을 충진하여 콘택패드를 형성한다.
이렇게 콘택패드를 형성하기 위해서 습식식각법을 이용하여 자가정렬 콘택을 형성하면, 소스와 드레인의 기지 실리콘에 손상을 주지 않아 반도체 장치의 전기적 특성이 우수하고, 제품의 전기적 신뢰성을 크게 향상시킬 수 있다.