인터페이스 생성 방법 및 장치
    21.
    发明授权
    인터페이스 생성 방법 및 장치 失效
    创建界面的方法和系统

    公开(公告)号:KR100951837B1

    公开(公告)日:2010-04-12

    申请号:KR1020070088618

    申请日:2007-08-31

    Abstract: 인터페이스 생성 방법 및 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 미리 설정된 형식에 따른 사용자 프로파일 및 장치 프로파일을 입력받는 입력부; 상기 입력된 사용자 프로파일 및 장치 프로파일을 이용하여 인터페이스 정보를 생성하는 인터페이스 구성부; 및 n(임의의 자연수)개의 트랜스코더를 포함하며, 상기 인터페이스 정보를 출력 장치의 유형에 따른 트랜스코더를 이용하여 미리 정해진 형식에 따라 트랜스코딩하여 사용자 인터페이스를 생성하여 출력하는 인터페이스 변환부를 포함하는 인터페이스 생성 장치가 제공될 수 있다. 따라서, 본 발명에 의해, 사용자의 관심 정보, 장치의 특성을 반영한 사용자 인터페이스를 생성할 수 있다.
    인터페이스, UI, 프로파일

    인터페이스 생성 방법 및 장치
    23.
    发明公开
    인터페이스 생성 방법 및 장치 失效
    用于创建界面的方法和系统

    公开(公告)号:KR1020090022922A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:KR1020070088618

    申请日:2007-08-31

    CPC classification number: G06F3/048

    Abstract: An interface generating method and an apparatus therefor are provided to generate an adaptive user interface for a home network by using the user profile and device profile of a preset form. An input unit(110) receives the user profile and device profile from the outside so as to correspond to a predetermined type, and then outputs them to an interface constructing unit(120). The interface constructing unit generates interface information by using the inputted user profile and device profile, and then outputs the generated result to an interface conversion unit(130). The interface conversion unit performs the transcoding for the received interface information by using a transcoder corresponding to the property of an output device.

    Abstract translation: 提供了一种接口生成方法及其装置,用于通过使用预设形式的用户简档和设备简档来为家庭网络生成自适应用户界面。 输入单元(110)从外部接收用户简档和设备配置文件,以对应于预定类型,然后将它们输出到接口构造单元(120)。 接口构成单元通过使用输入的用户简档和设备简档来生成接口信息,然后将生成的结果输出到接口转换单元(130)。 接口转换单元通过使用对应于输出设备的属性的代码转换器来执行所接收的接口信息的代码转换。

    스퍼터링 증착 장치
    27.
    发明公开
    스퍼터링 증착 장치 无效
    溅射沉积设备

    公开(公告)号:KR1020170104063A

    公开(公告)日:2017-09-14

    申请号:KR1020160026131

    申请日:2016-03-04

    Abstract: 본발명은스퍼터링증착장치에관한것으로서, 본발명에따른스퍼터링증착장치는피증착기판과타겟이서로대향하도록내부에배치되며스퍼터링반응공간을제공하는챔버, 피증착기판과타겟사이의일영역에제 1 가스를이용하여플라즈마를발생시키는제 1 플라즈마발생부및 피증착기판과타겟사이의다른일 영역에제 2 가스를이용하여플라즈마를발생시키는제 2 플라즈마발생부를포함하는것을.특징으로한다.

    Abstract translation: 溅射成膜装置及溅射成膜装置技术领域本发明涉及一种溅射成膜装置及溅射成膜装置,其包括:配置在被成膜基板的内部的相对的室,并且设置溅射反应空间; 以及第二等离子体发生器,用于通过在要被气相沉积的衬底和目标之间的另一区域中使用第二气体来产生等离子体。

    스퍼터율 향상을 위한 유도 결합형 플라즈마 소스 및 이를 사용하는 스퍼터링 장치
    28.
    发明授权
    스퍼터율 향상을 위한 유도 결합형 플라즈마 소스 및 이를 사용하는 스퍼터링 장치 有权
    用于改善溅射器感应的电感耦合等离子体源和使用其进行溅射的装置

    公开(公告)号:KR101556830B1

    公开(公告)日:2015-10-01

    申请号:KR1020130143834

    申请日:2013-11-25

    Abstract: 유도결합형플라즈마소스및 이를포함하는스퍼터링장치가개시된다. 본발명에따른유도결합형플라즈마소스는외주면에다수개의홀을가지는원통형의제1 튜브, 외주면에다수개의홀을가지며상기제1 튜브의외주면을둘러싸는원통형의제2 튜브및 상기제1 튜브에권취되는안테나를포함하며, 상기제1 튜브내부에서플라즈마를발생시키고상기제1 튜브및 제2 튜브의다수개의홀을통하여외부로방출시키는것을특징으로한다. 또한, 본발명에따른스퍼터링장치는상기유도결합형플라즈마소스, 스퍼터링타겟이놓여지는캐소드및 처리기판을포함하며, 상기유도결합형플라즈마소스에의하여플라즈마가발생하는영역과상기캐소드와처리기판사이의플라즈마가발생하는영역으로구분되는것을특징으로한다.

    저손상 플라즈마 처리 장치
    29.
    发明授权
    저손상 플라즈마 처리 장치 有权
    低损耗等离子体加工设备

    公开(公告)号:KR101547066B1

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:KR1020140134751

    申请日:2014-10-07

    Abstract: 본 발명은 플라즈마 처리시 대상물체에 발생할 수 있는 손상을 방지하는 저손상 플라즈마 처리 장치를 개시한다. 본 발명에 따른 플라즈마 처리 장치는 소스 전극과 스테이지 사이에 배치되며, 도전체로 형성되고, 플라즈마 처리 장치에 구비된 진공 챔버와 전기적으로 절연 상태인 제1 그리드를 포함하여 이루어짐으로써, 불순물 입자 또는 너무 높은 에너지를 가진 플라즈마 입자에 의해 대상물체에 발생할 수 있는 손상을 방지한다.

    Abstract translation: 公开了一种低损伤等离子体处理装置,其防止在等离子体工艺中对目标的损坏。 根据本发明的等离子体处理装置包括:第一栅极,其布置在源电极和台之间并且由导体制成并且与等离子体处理装置中的真空室电绝缘。 因此,防止了由于杂质颗粒或具有非常高能量的等离子体颗粒而导致的目标物的损伤。

    스퍼터율 향상을 위한 유도 결합형 플라즈마 소스 및 이를 사용하는 스퍼터링 장치
    30.
    发明公开
    스퍼터율 향상을 위한 유도 결합형 플라즈마 소스 및 이를 사용하는 스퍼터링 장치 有权
    用于改善溅射器感应的电感耦合等离子体源和使用其进行溅射的装置

    公开(公告)号:KR1020150059993A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:KR1020130143834

    申请日:2013-11-25

    CPC classification number: C23C14/3471

    Abstract: 유도결합형플라즈마소스및 이를포함하는스퍼터링장치가개시된다. 본발명에따른유도결합형플라즈마소스는외주면에다수개의홀을가지는원통형의제1 튜브, 외주면에다수개의홀을가지며상기제1 튜브의외주면을둘러싸는원통형의제2 튜브및 상기제1 튜브에권취되는안테나를포함하며, 상기제1 튜브내부에서플라즈마를발생시키고상기제1 튜브및 제2 튜브의다수개의홀을통하여외부로방출시키는것을특징으로한다. 또한, 본발명에따른스퍼터링장치는상기유도결합형플라즈마소스, 스퍼터링타겟이놓여지는캐소드및 처리기판을포함하며, 상기유도결합형플라즈마소스에의하여플라즈마가발생하는영역과상기캐소드와처리기판사이의플라즈마가발생하는영역으로구분되는것을특징으로한다.

    Abstract translation: 公开了一种用于提高溅射产率的电感耦合等离子体源,以及使用该等离子体源的溅射装置。 根据本发明,电感耦合等离子体源包括:圆筒形第一管,其在外圆周上具有多个孔; 圆筒状的第二管,其在外周具有多个孔,并且包围第一管的外周; 以及缠绕在第一管上的天线。 从第一管的内部产生等离子体,通过第一管和第二管上的多个孔排出到外部。 除此之外,溅射装置包括:电感耦合等离子体源; 放置溅射靶的阴极; 和处理基板。 溅射装置被分离成通过电感耦合等离子体源产生等离子体的区域,以及阴极和处理基板之间的区域以产生等离子体。

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