캐리어 부착 동박 및 캐리어 부착 동박을 사용한 구리 피복 적층판
    22.
    发明公开
    캐리어 부착 동박 및 캐리어 부착 동박을 사용한 구리 피복 적층판 审中-实审
    使用载体粘合铜箔和载体粘合铜箔的覆铜箔层压板

    公开(公告)号:KR1020170077280A

    公开(公告)日:2017-07-05

    申请号:KR1020177017436

    申请日:2013-09-27

    CPC classification number: C25D7/0614 C25D5/14 H05K3/382 H05K3/389 H05K3/4652

    Abstract: 동박또는구리합금박상에, 조화 (트리트) 처리를실시함으로써형성된조화처리층, 이조화처리층상에형성된 Ni-Co 층으로이루어지는내열층, 및이 내열층상에형성된 Zn, Ni, Cr 을함유하는내후층및 방청층으로이루어지는복수의표면처리층을갖고, 상기표면처리층중의전체 Zn 량/(전체 Zn 량 + 전체 Ni 량) 이 0.02 이상 0.35 이하이고, 상기표면처리층중의전체 Ni 량이 1600 ㎍/d㎡이하인것을특징으로하는표면처리층이부착된동박. 동박의표면에조화처리를형성한후, 그위에내열층·방청층을형성후, 실란커플링처리가실시된인쇄회로용동박을사용한구리피복적층판에있어서, 파인패턴인쇄회로형성후에, 기판을산 처리나화학에칭을실시하였을때에, 동박회로와기판수지의계면으로의산의스며듦에의한밀착성저하의억제를향상시킬수 있고, 내산성밀착강도우수하고, 또한알칼리에칭성이우수한캐리어부착동박을제공한다.

    Abstract translation: 的铜箔或铜合金箔,含粗化层内,形成通过进行调节(处理),处理而形成的耐热层上进行形成处理过的层上形成的Ni-Co层,和锌,镍,铬的失谐化学耐热层 (总Zn量+总Ni量)为0.02以上且0.35以下,并且表面处理层中的Ni总量为1600当量/ 小于或等于2。 形成的粗化处理的铜箔的表面后,再根据上述形成涂有硅烷偶合处理的铜箔的耐热层,抗腐蚀层,铜之后进行印刷电路层压板,形成的印刷电路,在基板的精细图案 当进行酸处理或化学蚀刻,并且可以通过酸与铜箔电路和基材树脂边界表面上,并且耐酸粘合强度的seumyeodeulm改进粘附性劣化的抑制,也碱性蚀刻优于载体铜箔 提供。

    캐리어가 부착된 동박의 제조 방법, 구리 피복 적층판의 제조 방법, 프린트 배선판의 제조 방법, 및, 전자 기기의 제조 방법, 캐리어가 부착된 동박, 적층체, 프린트 배선판 및 전자 기기
    23.
    发明公开
    캐리어가 부착된 동박의 제조 방법, 구리 피복 적층판의 제조 방법, 프린트 배선판의 제조 방법, 및, 전자 기기의 제조 방법, 캐리어가 부착된 동박, 적층체, 프린트 배선판 및 전자 기기 无效
    使用载体制造铜箔的方法,制造铜箔层压体的方法,制造印刷线路板的方法和制造电子器件的方法,具有载体,层压板,印刷线路板和电子器件的铜箔

    公开(公告)号:KR1020160026758A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:KR1020150121073

    申请日:2015-08-27

    Abstract: 극박구리층에대한회로형성성이양호한캐리어가부착된동박의제조방법을제공한다. 또, 에칭액의젖음성이양호한캐리어가부착된동박을제공한다. 캐리어, 중간층, 극박구리층, 실란커플링처리층을포함하는표면처리층을이 순서로구비한캐리어가부착된동박에대해, 가열온도 100 ℃∼ 220 ℃에서 1 시간∼ 8 시간의가열처리또는가열온도 100 ℃∼ 220 ℃에서 1 시간∼ 6 시간의가열처리또는가열온도 160 ℃∼ 220 ℃에서 2 시간∼ 4 시간의가열처리를실시하는가열처리공정을포함하는캐리어가부착된동박의제조방법.

    Abstract translation: 提供一种铜箔的制造方法,其具有在超薄铜层上具有优异电路形成的载体。 此外,提供了具有在蚀刻剂上具有优异润湿性的载体的铜箔。 提供一种载体附着铜箔的制造方法,其包括对包括载体,中间层,超薄铜层和硅烷偶联处理层的表面处理层进行加热处理的加热处理方法 具有在100-200℃的加热温度下以相同顺序提供1-6小时的载体的铜箔或在160-220℃的加热温度下提供2-4小时。

    표면 처리 동박 및 그것을 사용한 적층판, 동판, 프린트 배선판, 전자 기기, 그리고 프린트 배선판의 제조 방법
    29.
    发明公开
    표면 처리 동박 및 그것을 사용한 적층판, 동판, 프린트 배선판, 전자 기기, 그리고 프린트 배선판의 제조 방법 有权
    表面处理的铜箔和层压板,铜箔,印刷线路板和使用其的电子器件以及制造印刷线路板的方法

    公开(公告)号:KR1020150021473A

    公开(公告)日:2015-03-02

    申请号:KR1020140107817

    申请日:2014-08-19

    CPC classification number: C25D3/12 C25D5/56

    Abstract: (과제) 수지와 양호하게 접착하고, 또한, 동박을 에칭으로 제거한 후의 수지의 투명성이 우수한 표면 처리 동박 및 그것을 사용한 적층판을 제공한다.
    (해결 수단) 일방의 동박 표면 및/또는 양방의 동박 표면에 조화 처리에 의해 조화 입자가 형성되고, 조화 처리 표면의 접촉식 조도계로 측정한 TD 의 10 점 평균 조도 Rz 가 0.20 ∼ 0.80 ㎛ 이고, 조화 처리 표면의 MD 의 60 도 광택도가 76 ∼ 350 % 이고, 조화 입자의 표면적 A 와, 조화 입자를 동박 표면측으로부터 평면에서 보았을 때에 얻어지는 면적 B 의 비 A/B 가 1.90 ∼ 2.40 이고, 조화 처리 표면은 Ni, Co 로 이루어진 군에서 선택된 어느 1 종 이상의 원소를 포함하고, 조화 처리 표면이 Ni 를 포함하는 경우에는 Ni 의 부착량은 1400 ㎍/d㎡ 이하이고, 조화 처리 표면이 Co 를 포함하는 경우에는 Co 의 부착량은 2400 ㎍/d㎡ 이하인 표면 처리 동박.

    Abstract translation: 提供了有利地粘附到树脂上的经表面处理的铜箔,并且通过蚀刻除去铜箔后具有优异的树脂透明性和使用其的层压体。 本发明涉及通过粗糙化在铜箔的一面和/或两面形成有粗糙化颗粒的表面处理铜箔,其中通过接触式粗糙度计测量的粗糙面的TD的10点平均粗糙度Rz 为0.20-0.80μm,粗糙面的MD的60°光泽度为76〜350%,A / B为粗糙粒子的表面积A与在平坦状态下观察粗糙粒子时获得的面积B的比 来自铜箔表面的表面为1.90-2.40,粗糙表面含有选自Ni和Co中的一种或多种元素,当粗糙化时,Ni的涂层重量等于或小于1400μg/ dm 2 表面包括Ni,当粗糙表面包括Co时,Co的涂层重量等于或小于2,400μg/ dm 2

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