광 위상 동기 루프 회로
    21.
    发明授权
    광 위상 동기 루프 회로 失效
    光锁相环电路

    公开(公告)号:KR100307885B1

    公开(公告)日:2001-10-29

    申请号:KR1019990020357

    申请日:1999-06-03

    Abstract: 본발명은광시분할방식의광통신에활용될수 있는광 위상동기루프회로에관한것으로, 입사하는광펄스신호와위상과주파수가동일한펄스열을재생시키는것을목적으로한다. 이러한광 위상동기루프회로는미리설정된제1 고주파신호를생성하는고주파발생기, 이고주파발생기에의해구동되어클럭광펄스를출사하는광원, 제2 고주파신호를생성하는전압제어발진기(voltage-controlled oscillator), 입사하는광펄스신호와클럭광펄스를혼합함으로써생성된광파만을필터링및 증폭하여제1 신호로변환하는제1 제어부, 고주파발생기와전압제어발진기로부터각기생성된제1 및제2 고주파신호를혼합하여저주파신호로하향변환하는다운-컨버터믹서(down-converter mixer), 제1 신호와저주파신호를각기전기적펄스신호로변환하는펄스변환기, 및펄스변환기로부터출력되는각각의전기적펄스신호의위상차를측정하여이 위상차에비례하는제어전압을출력하는제2 제어부를포함하여, 제어전압으로전압제어발진기를제어하여입사하는광펄스신호와제2 고주파신호를동기시키는것과광 클럭을안정되게구동시키는것을특징으로한다.

    탄소나노튜브 센서의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 탄소나노튜브 센서
    22.
    发明公开
    탄소나노튜브 센서의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 탄소나노튜브 센서 无效
    制备碳纳米管传感器和碳纳米管传感器的方法

    公开(公告)号:KR1020160080674A

    公开(公告)日:2016-07-08

    申请号:KR1020140193372

    申请日:2014-12-30

    CPC classification number: H01L29/0669 H01L21/0273 H01L2924/13061

    Abstract: 본발명은, a) 기판상에절연막을형성하는단계; (b) 상기절연막상의탄소나노튜브흡착영역에격자또는스트라이프형태의포토레지스트패턴을형성하는단계; (c) 상기포토레지스트패턴을따라상기절연막을식각(etching)하는단계; (d) 상기절연막이식각된기판에탄소나노튜브입자를흡착하는단계; (e) 상기탄소나노튜브가흡착된기판표면의포토레지스트패턴을제거하는단계; 및 (f) 상기포토레지스트패턴이제거된상기절연막상에전극을형성하는단계를포함하는탄소나노튜브센서의제조방법및 이에의하여제조된탄소나노튜브센서에관한것이다.

    Abstract translation: 碳纳米管传感器的制造方法技术领域本发明涉及一种碳纳米管传感器的制造方法以及由此制造的碳纳米管传感器。碳纳米管传感器的制造方法包括以下步骤:(a)在基板上形成绝缘膜; (b)在绝缘膜的碳纳米管吸附区域中形成格子状或条状的光致抗蚀剂图案; (c)根据光致抗蚀剂图案蚀刻绝缘膜; (d)在蚀刻绝缘膜的基板上吸附碳纳米管粒子; (e)除去吸附有碳纳米管的基板表面的光致抗蚀剂图案; 和(f)在除去光致抗蚀剂图案的绝缘膜上形成电极。 本发明的目的是提供一种制造碳纳米管传感器和碳纳米管传感器的方法,该碳纳米管传感器能够沿固定方向排列碳纳米管。

    다중 센서용 프로브 스테이션
    23.
    发明授权
    다중 센서용 프로브 스테이션 有权
    多传感器探测站

    公开(公告)号:KR101220991B1

    公开(公告)日:2013-01-10

    申请号:KR1020110040199

    申请日:2011-04-28

    Abstract: 본 발명은 상부 몸체 및 상기 상부 몸체에 힌지 연결된 하부 몸체; 프로브가 하단으로 연장되게 고정되어 있으며 상기 상부 몸체의 하단으로 상기 프로브가 노출되도록 상기 상부 몸체에 결합되는 프로브 척; 상기 프로브 척을 승강 동작시키며 상기 상부 몸체에 설치되는 프로브 승강부; 및 상기 상부 몸체가 상기 하부 몸체에 대하여 닫혔을 때 상기 하부 몸체에는 상기 프로브 척의 하부 위치에 센서 안착홈이 형성되고, 상기 센서 안착홈의 바닥면을 이루며 상기 프로브가 접촉 가능하게 설치되는 센서 지지판;을 포함하며, 외부에서 인가되는 검사 전류가 상기 프로브를 통하여 상기 센서 지지판에 안착되는 다중 센서에 인가되는 다중 센서용 프로브 스테이션을 제공한다.

    발광 다이오드 및 그 제조방법
    24.
    发明授权
    발광 다이오드 및 그 제조방법 有权
    발광다이오이드및그제조방법

    公开(公告)号:KR101136521B1

    公开(公告)日:2012-04-17

    申请号:KR1020090115158

    申请日:2009-11-26

    Abstract: PURPOSE: A light emitting diode and manufacturing method thereof are provided to form an uneven structure on an upper semiconductor layer to reduce the total reflection in a light emitting diode, thereby increasing the light emitting efficiency of the light emitting diode. CONSTITUTION: A first conductive lower semiconductor layer(120), an active layer(130), and a second conductive upper semiconductor layer(140) are formed on a substrate(110). A porous alumina layer(210) including a hole is formed on the upper semiconductor layer. Parts of the upper semiconductor layer, the active layer, and the lower semiconductor layer are etched to form an etching unit(260). The etching process is performed using an alumina layer as a mask.

    Abstract translation: 目的:提供发光二极管及其制造方法,以在上半导体层上形成不平坦结构,以减少发光二极管中的全反射,从而提高发光二极管的发光效率。 构成:在衬底(110)上形成第一导电下半导体层(120),有源层(130)和第二导电上半导体层(140)。 包括孔的多孔氧化铝层(210)形成在上半导体层上。 蚀刻上部半导体层,有源层和下部半导体层的一部分以形成蚀刻单元(260)。 使用氧化铝层作为掩模进行蚀刻处理。

    발광 다이오드 및 그 제조방법
    27.
    发明公开
    발광 다이오드 및 그 제조방법 有权
    发光二极管及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020110058388A

    公开(公告)日:2011-06-01

    申请号:KR1020090115158

    申请日:2009-11-26

    Abstract: PURPOSE: A light emitting diode and manufacturing method thereof are provided to form an uneven structure on an upper semiconductor layer to reduce the total reflection in a light emitting diode, thereby increasing the light emitting efficiency of the light emitting diode. CONSTITUTION: A first conductive lower semiconductor layer(120), an active layer(130), and a second conductive upper semiconductor layer(140) are formed on a substrate(110). A porous alumina layer(210) including a hole is formed on the upper semiconductor layer. Parts of the upper semiconductor layer, the active layer, and the lower semiconductor layer are etched to form an etching unit(260). The etching process is performed using an alumina layer as a mask.

    Abstract translation: 目的:提供发光二极管及其制造方法以在上半导体层上形成不均匀结构,以减少发光二极管中的全反射,从而提高发光二极管的发光效率。 构成:在衬底(110)上形成第一导电下半导体层(120),有源层(130)和第二导电上半导体层(140)。 在上半导体层上形成包括孔的多孔氧化铝层(210)。 对上半导体层,有源层和下半导体层的部分进行蚀刻以形成蚀刻单元(260)。 使用氧化铝层作为掩模进行蚀刻处理。

    테라헤르츠파와 광대역 초연속 스펙트럼의 동시 생성 장치, 그 방법 및 이를 이용한 스펙트로스코피 방법
    28.
    发明公开
    테라헤르츠파와 광대역 초연속 스펙트럼의 동시 생성 장치, 그 방법 및 이를 이용한 스펙트로스코피 방법 失效
    TERAHERTZ波和超连续同步发电装置及其使用方法及其分析方法

    公开(公告)号:KR1020110014849A

    公开(公告)日:2011-02-14

    申请号:KR1020090072420

    申请日:2009-08-06

    Abstract: PURPOSE: Terahertz wave and wideband super-continuous spectrum simultaneous generating device, a method for the same, and a spectroscopy method using the same are provided to plenty of the number of spectrum peaks by simultaneously detecting two bands. CONSTITUTION: A focusing lens(110) focuses light incident signal(100). A first light media(120) generates terahertz wave(130) based on the light incident signal. A second light media(140) generates wideband super-continuous spectrum(150) based on the light incident signal. A collimating lens(160) outputs both the terahertz wave and the wideband super-continuous spectrum.

    Abstract translation: 目的:通过同时检测两个频带,提供太赫波和宽带超连续频谱同步发生装置,其方法和使用该方法的光谱方法来获得大量的频谱峰。 构成:聚焦透镜(110)聚焦光入射信号(100)。 第一光介质(120)基于光入射信号产生太赫兹波(130)。 第二光介质(140)基于光入射信号产生宽带超连续光谱(150)。 准直透镜(160)输出太赫兹波和宽带超连续光谱。

    호기가스 진단장치
    29.
    发明授权
    호기가스 진단장치 有权
    放热气体诊断设备

    公开(公告)号:KR101816804B1

    公开(公告)日:2018-01-10

    申请号:KR1020160084907

    申请日:2016-07-05

    CPC classification number: A61B5/083 A61B5/097

    Abstract: 본발명은, 특정호기가스를필터링하며유입시키는흡습마우스필터및 상기호기가스를배출시키는배출관을구비하고, 상기호기가스를필터링가능하게수용하여배출시키는호기관; 상기배출관에연결되어상기호기관으로부터필터링된호기가스를제공받고, 상기제공된호기가스를측정하도록이루어지는센서부를구비하는가스챔버; 및상기센서부에연결되어측정된신호를제공받아서상기신호를처리하여가스농도를사용자에게표시하도록이루어지는신호처리부를포함하는호기가스진단장치를제공한다.

    Abstract translation: 本发明中,具有呼气排出管的特定数目来过滤气体,并排出水分鼠标滤波器和呼出气体到入口和出口到被容纳过滤呼出气体发动机; 气体室,连接到排放管以接收从激励器过滤的呼出气体气体并测量呼出气体; 信号处理单元连接到传感器单元以接收测量信号并处理信号以向用户显示气体浓度。

Patent Agency Ranking