公开(公告)号：KR101555306B1

公开(公告)日：2015-09-25

申请号：KR1020140125053

申请日：2014-09-19

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정연식 ,  백광민 ,  심동민 ,  김종민

IPC: G01J3/44

CPC classification number: G01J3/44 ,  G01N21/65

Abstract: 본 발명에 따른 표면강화 라만 분광기판의 제조 방법은 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 규칙적으로 배열되는 원형 구조체를 형성하는 단계; 상기 기판 및 상기 원형 구조체 상에 제1 증착 금속을 1차적으로 코팅하는 단계; 상기 원형 구조체를 제거하여 나노 크기의 구멍을 형성하는 단계; 상기 나노 크기의 구멍 상에 서로 다른 2 이상의 블록 공중합체의 코팅, 유도 자기 조립 과정 및 산화를 통해 동심원 나노 구조체를 형성하는 단계; 상기 동심원 나노 구조체 상에 제2 증착 금속을 2차적으로 코팅하는 단계; 및 상기 제2 증착 금속의 식각을 통해 복수의 동심원 금속 나노갭을 형성하는 단계;를 포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的表面增强拉曼散射基板的制造方法包括以下步骤：制备基板; 形成规则地布置在基板上的圆形结构; 首先用第一沉积金属涂覆基底和圆形结构; 通过去除圆形结构形成纳米孔; 通过涂层在纳米孔上形成同心纳米结构，诱导磁体自组装，两种或更多种不同的嵌段共聚物的氧化; 其次用第二沉积金属涂覆同心纳米结构; 以及通过蚀刻所述第二沉积金属形成多个同心金属纳米膜。

公开(公告)号：KR1020150015708A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：KR1020130091401

申请日：2013-08-01

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정연식 ,  박운익 ,  김종민

IPC: C08J3/00 ,  C08F293/00 ,  C08F299/08 ,  C08J7/00

CPC classification number: G03F7/0002

Abstract: 블록공중합체 자기조립을 위한 어닐링 방법으로, 팽창용매 및 비팽창용매가 혼합된 혼합용매에 블록공중합체를 침지시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록공중합체 자기조립을 위한 어닐링 방법이 제공된다.

Abstract translation: 提供了一种新的退火方法，其可以在短时间内制造晶片级的各种图案的嵌段共聚物纳米结构，以及使用该退火方法制造纳米结构体的方法。 提供一种嵌段共聚物自组装的退火方法，其特征在于包括将嵌段共聚物浸渍在其中混合溶胀溶剂和非溶胀溶剂的混合溶剂中的步骤。

公开(公告)号：KR101202506B1

公开(公告)日：2012-11-16

申请号：KR1020110015021

申请日：2011-02-21

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정연식 ,  이건재 ,  정재원 ,  최재석 ,  황건태 ,  문범호 ,  유병국

IPC: H01L27/115 ,  H01L21/8247

Abstract: 절연 나노입자를 이용한 상변화 메모리 소자, 플렉서블 상변화 메모리 소자 및 그 제조방법이 제공된다.
본 발명에 따른 절연 나노입자를 이용한 상변화 메모리 소자는 전극 및 상기 전극과 접촉하며, 상기 전극으로부터 발생한 열에 따라 상변화가 발생하는 상변화층을 포함하는 상변화 메모리 소자에 있어서, 상기 전극과 결정화 및 비정질화가 일어나는 상변화층 사이에는 자기조립 블록공중합체로부터 형성된 절연 나노입자가 구비되는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020120112924A

公开(公告)日：2012-10-12

申请号：KR1020110030521

申请日：2011-04-04

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 전석우 ,  정연식 ,  박운익 ,  이진섭 ,  김경호

IPC: C09K11/00 ,  C09K11/06

CPC classification number: G03F7/0002 ,  C09K11/00 ,  B82Y10/00 ,  C01B32/182

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of graphene quantum dots is provided to manufacture graphene quantum dots of a constant size by applying a block copolymer self-assembling process, thereby capable of improving an existing broad PL spectrum performance. CONSTITUTION: A manufacturing method of graphene quantum dots comprises: a step(S1) of spreading a block copolymer on a material layer consisting of a mono-layered graphene; a step(S2) of forming a self-assembled structure of a several to dozens nano meters on the material layer by heat-treating the block copolymer and phase separation; and a step(S3) of etching the material layer by using the self-assembled structure as a mask. [Reference numerals] (S1) Spreading a block copolymer on a monolayered graphene; (S2) Forming a self-assembled structure by heat-treating the block copolymer; (S3) Etching the monolayer by using the self-assembled structure as a mask

Abstract translation: 目的：提供石墨烯量子点的制造方法，通过应用嵌段共聚物自组装工艺制造具有恒定尺寸的石墨烯量子点，从而能够改善现有的广泛的PL光谱性能。 构成：石墨烯量子点的制造方法包括：将嵌段共聚物扩散到由单层石墨烯构成的材料层上的工序（S1） 通过热处理嵌段共聚物和相分离，在材料层上形成数十纳米的自组装结构的步骤（S2）; 以及通过使用自组装结构作为掩模来蚀刻材料层的步骤（S3）。 （S1）在单层石墨烯上扩散嵌段共聚物; （S2）通过热处理嵌段共聚物形成自组装结构; （S3）使用自组装结构作为掩模蚀刻单层

公开(公告)号：KR102257093B1

公开(公告)日：2021-05-31

申请号：KR1020190114640

申请日：2019-09-18

Applicant: 한국과학기술원 ,  재단법인 하이브리드 인터페이스기반 미래소재 연구단

Inventor： 정연식 ,  송경민 ,  남태원 ,  임훈희 ,  김건영 ,  장한휘 ,  김광호

IPC: G01N31/22

Abstract: 본발명은중공형무기입자를포함하는다공성고분자를이용하여다양한유기액체와접촉하는경우시각적인변화를나타낼수 있는빠른유기액체감지를위한투명도변화형반응매체에관한것이다. 본발명은 (a) 내부에계간기공을포함하는고분자매트릭스; 및 (b) 상기계간기공내부에위치하는중공형무기입자를포함하는투명도변화형반응매체를제공한다.

公开(公告)号：KR101989600B1

公开(公告)日：2019-09-30

申请号：KR1020170175758

申请日：2017-12-20

Applicant: 한국세라믹기술원 ,  한국과학기술원

Inventor： 박운익 ,  조정호 ,  홍연우 ,  정영훈 ,  최영중 ,  박태완 ,  정연식 ,  한혁진 ,  한유진 ,  조승희

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

公开(公告)号：KR101932334B1

公开(公告)日：2019-03-20

申请号：KR1020170035880

申请日：2017-03-22

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정연식 ,  이건호 ,  백광민 ,  임순민

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/3065 ,  G03F7/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324

公开(公告)号：KR101865647B1

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：KR1020160133624

申请日：2016-10-14

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 전덕영 ,  정연식 ,  김경목 ,  심동민

IPC: C09K11/04 ,  C09K11/08 ,  B82B1/00 ,  H01L33/04 ,  H01L33/50

Abstract: 본발명은레이저유도어닐링을이용한양자점나노구조체제조방법및 양자점패턴제조방법및 블록공중합체-결합(conjugated) 발광양자점에관한것으로, 양자점을준비하고, 블록공중합체를준비하고, 상기양자점과상기블록공중합체가화학적으로결합하여블록공중합체-결합(conjugated) 양자점을형성하고, 상기블록공중합체-결합(conjugated) 양자점을기재에도포하여블록공중합체-결합(conjugated) 양자점필름을형성하고, 상기필름을어닐링하여상기블록공중합체-결합(conjugated) 양자점이자기조립현상(self-as주사전자현미경bly)을통해양자점나노구조체를형성하는단계를포함하여이루어지고, 상기어닐링은상기필름에레이저조사를통해수행하는것을특징으로하는양자점나노구조체제조방법을제공한다.

公开(公告)号：KR101761010B1

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：KR1020150129896

申请日：2015-09-14

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정연식 ,  정재원 ,  백광민 ,  김종민 ,  남태원

IPC: H01L21/02 ,  H01L29/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/70

Abstract: 일실시예에따른나노전사프린팅방법은표면패턴이형성된템플릿기판상에고분자박막을코팅하는단계; 상기고분자박막및 접착필름을이용하여상기고분자박막을복제박막몰드로제작하는단계; 상기복제박막몰드상에나노구조체를형성하는단계; 상기접착필름과상기복제박막몰드간접착력을선택적으로약화시키는단계; 및상기나노구조체를대상물체에전사하는단계를포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，提供了一种纳米转印印刷方法，包括：在其上形成有表面图案的模板基板上涂覆聚合物薄膜; 使用聚合物薄膜和粘合膜制造聚合物薄膜作为复制薄膜模具; 在复制薄膜模具上形成纳米结构; 选择性地弱化粘合剂膜和复制薄膜模具之间的粘合力; 并将纳米结构转移到目标物体上。

公开(公告)号：KR1020170043923A

公开(公告)日：2017-04-24

申请号：KR1020150143606

申请日：2015-10-14

Applicant: 한국과학기술원

Inventor： 정연식 ,  심동민 ,  임순민 ,  최민재 ,  이정혜

IPC: H01L51/05 ,  H01L51/00 ,  C07D471/04 ,  C07D403/14 ,  C07D403/10

Abstract: 본발명은, 고이동도유기반도체재료및 레이저유도분자정렬을이용한전자수송층제조방법에관한것으로, 전자끌개작용기를포함하는전하수송물질; 상기전하수송물질에결합되는하나이상의억셉터물질또는도너물질; 을포함하여이루어지고, 상기전하수송물질과상기억셉터물질또는상기도너물질의결합체는소정의쌍극자모멘트를나타내는것을특징으로하는유기반도체재료및 유기반도체재료를제조하는단계; 기판에상기유기반도체재료를포함하는박막을형성하는단계; 상기박막에편광레이저를조사하여상기유기반도체재료가분자정렬되는단계; 를포함하여이루어지고, 상기유기반도체재료는본 발명에따른유기반도체재료로되며, 상기편광레이저와상기유기반도체재료의쌍극자모멘트방향의매칭으로상기유기반도체재료가분자정렬되어전자이동도가향상되는것을특징으로하는전자수송층제조방법을제공한다.

Abstract translation: 本发明中，高迁移率是包括在使用有机半导体材料和激光诱导分子取向的电子传输层的方法，该电子吸引性官能团的电荷输送材料; 至少一种受体材料，或者耦合到所述电荷输送材料的供体材料; 该方法包括：制成，电荷输送材料的组合和所述受主材料储存或施主材料，得到有机半导体材料和有机半导体材料，其特征在于，将表示预定偶极矩包括; 到基板上形成薄膜，其含有所述有机半导体材料; 一个步骤，其中该有机半导体材料通过照射偏振激光到薄膜对准分子; 通过制成，所述有机半导体材料包括是是根据本发明的有机半导体材料是，在偏振激光和有机半导体材料的偶极矩方向的匹配的有机半导体材料的分子排列改善电迁移度 它提供了一种用于根据权利要求制造的电子传输层的方法的过程。