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公开(公告)号：KR101369736B1
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：KR1020110104056
申请日：2011-10-12
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
Abstract: 나노렌즈어레이몰드의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 몰드를 이용한 나노렌즈어레이의 제조방법이 개시된다. 본 발명의 나노렌즈어레이몰드의 제조방법은, 실리콘 기판을 산화시켜 표면에 1차 실리콘 산화막을 형성하고, 1차 실리콘 산화막 상에 반사 방지층과 감광층을 차례로 형성하는 단계; 감광층에 규칙적인 배열을 갖는 미세패턴을 포토리소그래피에 의해 형성하고,형성된 미세패턴에 따라 노출된 반사 방지층을 제거하는 단계;감광층을 마스크로 건식 식각하여 1차 실리콘 산화막을 선택적으로 제거하는 단계; 및 선택적으로 제거된 1차 실리콘 산화막을 마스크로 실리콘 기판을 건식 식각하여 미세패턴을 형성하는 단계; 1차 실리콘 산화막을 제거하는 단계;미세패턴이 형성된 실리콘 기판에 열산화 공정을 수행하여 미세패턴 상에 2차 실리콘 산화막을 형성하는 단계; 및상기 2차 실리콘 산화막을 제거하는 단계를 포함한다. 이에 의하여, 나노렌즈 형상 조절이 매우 간단하고, 이에 의해 제조된 나노렌즈어레이는 나노수준의 미세한 렌즈들의 배열임에도 렌즈의 형태가 매우 균일하고 표면이 매끄러워 광학적 특성이 우수하다.
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公开(公告)号：KR1020130094472A
公开(公告)日：2013-08-26
申请号：KR1020120015740
申请日：2012-02-16
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
CPC classification number: G01N3/48 , B08B7/02 , G01N2203/0078 , G02F1/1309
Abstract: PURPOSE: A sprayed particle trace forming device and a collision force analysis system including thereof are provided to form a trace of a sprayed particle without measuring the sprayed particle directly, and to compute magnitude of a collision force accurately by measuring and producing the trace. CONSTITUTION: A trace forming device comprises a substrate (110) and a spray nozzle (120). The substrate is comprised to form a concave trace due to a collision with a particle sprayed from the spray nozzle. The spray nozzle sprays the particle to one side of the substrate.
Abstract translation: 目的：提供喷雾粒子痕迹形成装置及其包括的碰撞力分析系统，以形成直接喷射的粒子的喷射粒子的痕迹，并通过测量和产生痕迹来精确地计算碰撞力的大小。 构成：痕迹形成装置包括基底（110）和喷嘴（120）。 由于与从喷嘴喷射的颗粒发生碰撞而使基板形成凹痕。 喷嘴将颗粒喷射到基板的一侧。
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公开(公告)号：KR101975659B1
公开(公告)日：2019-05-08
申请号：KR1020170059752
申请日：2017-05-15
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: B24B53/017 , B24B53/14 , H01L21/304 , C23C16/27 , C25F7/00 , C25F3/02
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公开(公告)号：KR101690869B1
公开(公告)日：2017-01-10
申请号：KR1020150057870
申请日：2015-04-24
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: H01L21/027 , G03F1/66 , H01L21/033 , G03F7/20
Abstract: 노광방법이제공된다. 상기노광방법은, 노광장치내에서, 마스크및 상기마스크덮는펠리클을이용하여노광공정을수행하는단계, 상기노광공정중에발생된열에의해, 상기마스크및 상기펠리클이변형되는경우, 상기마스크및 상기펠리클의변형정도를측정하는단계, 및상기마스크및 상기펠리클의변형정도에따라서, 상기마스크및 상기펠리클을교정하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR101624078B1
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：KR1020150057962
申请日：2015-04-24
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: G03F1/62
CPC classification number: G03F1/62
Abstract: 펠리클이제공된다. 상기펠리클은, 제1 면및 상기제1 면에대향하는제2 면을갖는멤브레인(membrane), 상기멤브레인의제1 면상의제1 펠리클프레임(first pellicle frame), 및상기멤브레인의상기제2 면상의제2 펠리클프레임(second pellicle frame)을포함할수 있다.
Abstract translation: 提供一个防护薄膜。 防护薄膜组件包括：具有第一表面和面向第一表面的第二表面的膜; 设置在所述膜的第一表面上的第一防护薄膜框架; 以及设置在膜的第二表面上的第二防护薄膜框架。 热变形最小化，耐久性提高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130038103A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：KR1020110102765
申请日：2011-10-08
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: H01L21/027 , H01L21/336 , H01L29/78 , H01L31/04
CPC classification number: Y02E10/50 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L29/78 , H01L2029/7858 , H02S10/00
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a silicon nanotip array and a silicon nanotip array manufactured by the same are provided to freely form the shape and the arrangement of initial mask patterns and to control the shape and the arrangement of nanotips. CONSTITUTION: An antireflection layer and a photoresist layer are successively formed on a silicon oxide layer formed by oxidizing a silicon substrate(step a). A micro pattern is regularly formed on the photoresist layer(step b). A dry etching process is performed by using the photoresist layer as a mask to selectively remove the silicon oxide layer(step c). A dry etching process is performed by using the silicon oxide layer as a mask to form a nanotip(step d). The silicon oxide layer is removed(step e). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) Forming an oxide layer on a silicon substrate and coating BARC and a photosensitizer; (CC) Step a; (DD) Forming a micro pattern on the photoresist layer; (EE) Step b; (FF) Dry-etching a silicon oxide layer; (GG) Step c; (HH) Dry-etching the silicon substrate; (II) Step d; (JJ) Removing the silicon oxide layer; (KK) Step e; (LL) End;
Abstract translation: 目的：提供一种制造硅纳米管阵列和由其制造的硅纳米管阵列的方法，以自由形成初始掩模图案的形状和布置，并且控制纳米尖端的形状和布置。 构成：在通过氧化硅衬底形成的氧化硅层上依次形成抗反射层和光致抗蚀剂层（步骤a）。 在光致抗蚀剂层上规则形成微图案（步骤b）。 通过使用光致抗蚀剂层作为掩模来进行干蚀刻工艺以选择性地去除氧化硅层（步骤c）。 通过使用氧化硅层作为掩模来进行干蚀刻工艺以形成纳米尖端（步骤d）。 除去氧化硅层（步骤e）。 （附图标记）（AA）开始; （BB）在硅衬底上形成氧化物层并涂覆BARC和光敏剂; （CC）步骤a; （DD）在光致抗蚀剂层上形成微图案; （EE）步骤b; （FF）干法蚀刻氧化硅层; （GG）步骤c; （HH）干式蚀刻硅衬底; （二）步骤d; （JJ）去除氧化硅层; （KK）步骤e; （LL）结束;
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公开(公告)号：KR1020090115353A
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：KR1020080041171
申请日：2008-05-02
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133512 , G02F1/1303 , G02F1/1341 , H01L21/027
Abstract: PURPOSE: A selective surface reforming method of a black matrix for a flat panel display and an apparatus thereof are provided to reform only an upper surface of the black matrix into a hydrophobic surface. CONSTITUTION: A hydrophobic solution is sprayed to the first and second solution transferring rollers(22,24) through a nozzle(20). According as the solution transferring rollers are rotated, the hydrophobic solution is uniformly transferred to a transfer roller(30). A hydrophilic thin film is formed on the whole surface including a black matrix. The transfer roller which is coated by the hydrophobic solution and the black matrix are contacted with each other. The hydrophobic solution is transferred to the upper part of the black matrix. The black matrix is dried through a drying device(40).
Abstract translation: 目的：提供一种用于平板显示器的黑色矩阵的选择性表面重整方法及其装置，用于仅将黑色矩阵的上表面改性为疏水表面。 构成：通过喷嘴（20）将疏水溶液喷射到第一和第二溶液转移辊（22,24）。 根据转移辊的溶液转动，疏水溶液被均匀地转移到转印辊（30）上。 在包括黑色矩阵的整个表面上形成亲水性薄膜。 由疏水性溶液和黑色基体涂布的转印辊彼此接触。 疏水溶液转移到黑色矩阵的上部。 黑色基质通过干燥装置（40）干燥。
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公开(公告)号：KR101664688B1
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：KR1020150067075
申请日：2015-05-14
Applicant: 현대자동차주식회사 , 한양대학교 에리카산학협력단
IPC: F25B39/02 , C09D133/26 , B60H1/00
Abstract: 본발명은초친수및 초발수표면특성을갖는에어컨증발기및 그제조방법에관한것으로, 보다상세하게는요철형상의알루미늄표면상에카르복실산유도체로말단화된폴리(N-이소프로필아크릴아마이드) 화합물을포함하는초친수-초발수코팅막을형성함으로써온도에따라저온에서는초친수성으로인해응축수의배출을용이하게하여열교환성능을향상시키는동시에고온에서는초발수성으로인해응축수의잔존시간을단축시키고, 먼지, 이물질등을자가세정하여미생물의서식및 이로인한악취발생을억제할수 있는초친수및 초발수표면특성을갖는에어컨증발기및 그제조방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR1020140081208A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：KR1020120150730
申请日：2012-12-21
Applicant: 한양대학교 에리카산학협력단
Abstract: The present invention relates to a nanowell array biosensor on a large-sized substrate and a method for producing the same. More specifically, by means of the novel method, a nano-sized well array structure is reproducibly realized so that the detection sensitivity, selectivity, and reliability of a biomaterial can be improved. According to the present invention, a nano-sized well array structure which is highly integrated in a narrow region can be uniformly and reproducibly realized. Accordingly, a biosensor in which the detection sensitivity, selectivity, and reliability of biomolecules and biomaterials such as a variety of enzymes, proteins, and DNA are improved can be produced. Moreover, according to the present invention, in comparison to existing techniques, the biosensor can be mass produced on a large-sized substrate of 6 inches (diameter 150 mm) or larger so as to have high possibility for commercialization.
Abstract translation: 本发明涉及大尺寸基板上的纳米线阵列生物传感器及其制造方法。 更具体地说，通过这种新方法，可再现地实现纳米尺寸的阱阵列结构，从而可以提高生物材料的检测灵敏度，选择性和可靠性。 根据本发明，可以均匀且可再现地实现高度集成在窄区域中的纳米尺寸的阱阵列结构。 因此，可以生产生物传感器，其中生物分子和生物材料如各种酶，蛋白质和DNA的检测灵敏度，选择性和可靠性得到改善。 此外，根据本发明，与现有技术相比，生物传感器可以在6英寸（直径150mm）以上的大尺寸基板上批量生产，从而具有高的商业化可能性。
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