Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) umfasst dieses einen Träger (2) sowie mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip (3), der an einer Trägeroberseite (20) angebracht ist. Weiterhin beinhaltet das Halbleiterbauteil (1) mindestens einen Bonddraht (4), über den der Halbleiterchip (3) elektrisch kontaktiert ist, sowie mindestens einen Abdeckkörper (5), der auf einer Strahlungshauptseite (30) angebracht ist und der den Bonddraht (4) überragt. Zumindest eine reflektierende Vergussmasse (6) umgibt den Halbleiterchip (3) in lateraler Richtung und reicht mindestens bis zu der Strahlungshauptseite (30) des Halbleiterchips (3). Der Bonddraht (4) ist vollständig von der reflektierenden Vergussmasse (6) oder vollständig von der reflektierenden Vergussmasse (6) zusammen mit dem Abdeckkörper (5) überdeckt.
Abstract:
Eine optoelektronische Vorrichtung (10) umfasst ein optoelektronisches Bauelement (11) und ein auf einer ersten Hauptoberfläche (21) des optoelektronischen Bauelements (11) aufgebrachtes Konversionselement (12), wobei das Konversionselement (12) einen Rahmen (13) aus einem reflektierenden Material und Konversionsmaterial (14), das sich in dem Rahmen (13) befindet, aufweist, und wobei der Rahmen (13) seitlich über einen Licht emittierenden Bereich der ersten Hauptoberfläche (21) des optoelektronischen Bauelements (11) übersteht.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement weist einen Träger mit einer Oberfläche auf. Über der Oberfläche des Trägers sind reflektierende Barrieren ausgebildet. Die reflektierenden Barrieren unterteilen die Oberfläche des Trägers in Bildpunkte. Jeder Bildpunkt weist jeweils mindestens einen auf der Oberfläche des Trägers angeordneten optoelektronischen Halbleiterchip auf. Der optoelektronische Halbleiterchip ist dazu ausgebildet, elektromagnetische Strahlung zu emittieren.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben, bei welchem in einem Verfahrensschritt A) ein Bereitstellen zumindest eines lichtemittierenden Halbleiterchips (10a) umfassend ein Saphirsubstrat (1) und eine epitaktisch gewachsene Schichtenfolge (10b) erfolgt. In einem weiteren Verfahrensschritt B) erfolgt ein Anordnen des lichtemittierenden Halbleiterchips (10a) mit einer dem Saphirsubstrat (1) abgewandten Seite auf einen Träger (4), und in einem Verfahrensschritt C) ein Ablösen des Saphirsubstrats (1) vom Halbleiterchip (10a). In einem weiteren Verfahrensschritt D) erfolgt ein Aufbringen eines Konverterelements (5) auf einem Bereich des Halbleiterchips (10a), in welchem das Saphirsubstrat (1) abgelöst wurde, und in einem weiteren Verfahrensschritt E) ein Anordnen des Halbleiterchips (10a) auf einen Hilfsträger (4a), so dass das Konverterelement (5) dem Hilfsträger (4a) zugewandt ist. In einem weiteren Verfahrensschritt F) erfolgt ein Ablösen des Trägers (4) vom Halbleiterchip (10a).
Abstract:
Das optoelektronische Bauelement (100) umfasst eine Strahlungsseite (2), über die im Betrieb elektromagnetische Strahlung ein- oder ausgekoppelt wird. Der Strahlungsseite gegenüber liegt eine Kontaktseite (3) mit zumindest zwei elektrisch leitenden Kontaktelementen (31, 32) zur externen elektrischen Kontaktierung des Bauelements. Zwischen der Strahlungsseite und der Kontaktseite ist eine Halbleiterschichtenfolge (1) mit einer aktiven Schicht (10) angeordnet, die im bestimmungsgemäßen Betrieb die elektromagnetische Strahlung emittiert oder absorbiert. Die Kontaktelemente sind an der Kontaktseite voneinander beabstandet und liegen im unmontierten Zustand des Bauelements an der Kontaktseite ganz oder teilweise frei. Der Bereich der Kontaktseite zwischen den Kontaktelementen ist teilweise oder vollständig mit einem elektrisch isolierenden Kühlelement (33) bedeckt, wobei das Kühlelement in Draufsicht auf die Kontaktseite eines oder beide Kontaktelemente (31, 32) teilweise überdeckt. Das Kühlelement (33) ist in direktem Kontakt mit der Kontaktseite und weist eine thermische Leitfähigkeit von zumindest 30 W/(m.K) auf.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement mit einem Halbleiterchip zur Erzeugung einer elektromagnetischen Primärstrahlung mit einer ersten Peakwellenlänge, mit einem ersten Konversionselement, das eine Quantenstruktur aufweist, wobei die Quantenstruktur ausgebildet ist, um die Primärstrahlung wenigstens teilweise in eine Sekundärstrahlung mit einer zweiten Peakwellenlänge zu verschieben, wobei ein zweites Konversionselement vorgesehen ist, das einen Leuchtstoff aufweist, wobei der Leuchtstoff ausgebildet ist, um eine elektromagnetische Strahlung zu einer Tertiärstrahlung mit einer Dominanzwellenlänge zu verschieben, wobei das erste Konversionselement ausgebildet ist, um eine Sekundärstrahlung zu erzeugen, die eine kleinere Peakwellenlänge als die Dominanzwellenlänge der Tertiärstrahlung aufweist.
Abstract:
Ein optoelektronischer Halbleiterchip (100) weist einen optoelektronischen Halbleiterkörper (1)mit einer Strahlungsseite (16) und einer der Strahlungsseite (16) gegenüberliegenden Rückseite (12) auf. Auf der Strahlungsseite (16) ist ein Konverterelement (2) angeordnet, das im Betrieb eine vom Halbleiterkörper (1) über die Strahlungsseite (16) emittierte Strahlung teilweise oder vollständig in Strahlung eines anderen Wellenlängenbereichs konvertiert. Auf Seitenflächen (15) des Halbleiterkörpers (1) und auf Seitenflächen (25) des Konverterelements (2) ist eine Spiegelschicht (3) angeordnet, die die Seitenflächen (15, 25) bedeckt. Die Seitenflächen (15, 25) des Halbleiterkörpers (1) und des Konverterelements (2) verlaufen jeweils quer zur Strahlungsseite (16). Die Rückseite (12) liegt im unmontierten Zustand des Halbleiterchips (100) frei. Die Spiegelschicht (3) weist eine Reflektivität für die von dem Halbleiterkörper (1) und/oder dem Konverterelement (2) emittierte Strahlung von zumindest 80 % auf. Die Spiegelschicht (3) weist eine Dicke von höchstens 5 µm auf.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (100) angegeben, das folgende Schritte aufweist: a) Bereitstellen einer Vielzahl von zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung vorgesehenen Halbleiterchips (4), b) Anordnen der Vielzahl von Halbleiterchips (4) in einer Ebene; c) Ausbilden eines Gehäusekörperverbunds (8), der zumindest bereichsweise zwischen den Halbleiterchips (4) angeordnet ist; d) Ausbilden einer Vielzahl von Konversionselementen (12), wobei jedes Konversionselement ein wellenlängenkonvertierendes Konversionsmaterial umfasst und auf einem der Halbleiterchips (4) angeordnet wird; e) Verkapseln der Vielzahl von Konversionselementen (12) zumindest an deren seitlichen Rändern (20) mit einem Verkapselungsmaterial; und f) Vereinzeln des Gehäusekörperverbunds (8) in eine Vielzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (100). Weiterhin wird ein Halbleiterbauelement (100) angegeben.
Abstract:
Es umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) mindestens vier verschiedene Lichtquellen (11, 12, 13, 14) mit je einem optoelektronischen Halbleiterchip (10). Im Betrieb emittieren die Lichtquellen (11, 12, 13, 14) eine Strahlung mit voneinander verschiedenen Farborten (A, B, C, D) in der CIE-Normfarbtafel. Zumindest zwei der Farborte (A, B, C, D) liegen in der CIE-Normfarbtafel bevorzugt auf einer gemeinsamen Isothermen (I) oder auf einer gemeinsamen Verlängerungsgeraden (E), die eine Isotherme (I) verlängert. Die Farborte (A, B, C, D) liegen dann mit einer Toleranz von höchstens einer Drei-Schritte-MacAdam-Ellipse auf der Isothermen (I) oder der Verlängerungsgeraden (E). Das Halbleiterbauteil (10) ist außerdem dazu eingerichtet, im Betrieb weißes Licht zu emittieren, wobei eine Farbtemperatur des weißen Lichts veränderbar und durchstimmbar ist.