腔体的制造方法
    291.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102328900A

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201110231784.5

    申请日:2011-08-12

    Abstract: 本发明提供一种腔体的制造方法,包括步骤:提供硅基底,在硅基底上形成基底保护层;刻蚀基底保护层,形成多个窗口,直至露出下方的硅基底;以基底保护层为掩模,刻蚀硅基底,在硅基底中形成多个凹槽;在多个凹槽的侧壁形成侧壁保护层;以基底保护层和侧壁保护层为掩模,继续刻蚀凹槽,在硅基底中形成多个深槽;采用湿法腐蚀法腐蚀多个深槽,在硅基底内部形成腔体。本发明的制造方法属于正面加工工艺,不采用价格昂贵的背面工艺,其与传统的CMOS制造工艺完全兼容。本发明采用的工艺温度低于400度,并且形成腔体后基底的总厚度也大大减薄了。另外,本发明对工艺要求比较灵活,整个加工工艺稳定可靠,精度很高,并且成本较低。

    集成MEMS器件及其形成方法
    292.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102180435A

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN201110061564.2

    申请日:2011-03-15

    Inventor: 柳连俊

    Abstract: 本发明实施例提供集成MEMS器件及其形成方法,其中集成MEMS器件包括:包括第一区域和第三区域的第一衬底;形成于所述第一衬底的第一表面的至少一层或多层导电层;惯性传感器的可移动敏感元素,采用第一区域的第一衬底形成;与所述第一衬底上的导电层的表面结合的第二衬底,与所述第一衬底形成的惯性传感器的可移动敏感元素一侧结合的第三衬底,且所述第三衬底和所述第二衬底分别位于惯性传感器的可移动敏感元素的相对两侧;麦克风的敏感薄膜或背板电极,至少包括第三区域的第一衬底,或包括第三区域的第一衬底上的导电层中的一层。本发明形成的集成压力传感器、惯性传感器和麦克风的体积较小,成本低,而且封装后可靠性高。

    使用导电弹性密封件来减少压力传感器上的小片边缘短路的方法

    公开(公告)号:CN101473205A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200780021831.5

    申请日:2007-06-14

    CPC classification number: G01L9/0042 B81B2201/0264 B81C1/00333

    Abstract: 压力传感器包括在生长于P型衬底(120)的N型外延层(110)上制造的传感元件、位于传感元件小片(100)的边缘周围并与P型衬底(120)接触的P型隔离区(130)、和导电弹性密封件,所述导电弹性密封件接合P型隔离区(130)以防止导电弹性密封件与传感元件小片的N型外延层(110)短路。制造压力传感器的方法包括:在p型衬底晶片(120)上生长n型外延层(110),从而得到压力传感器小片(100)和具有边缘的衬底,使用P型材料获得适于在边缘周围制造隔离扩散层(130)的掩模,以及使用掩模在边缘周围产生使用P型掺杂材料的隔离层扩散。然后,导电弹性密封件就能够被置于传感器小片(100)上方,以与封装电接触。

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