公开(公告)号：KR1020040033299A

公开(公告)日：2004-04-21

申请号：KR1020040021000

申请日：2004-03-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고영철 ,  이진호 ,  이창수

IPC: G02B26/10

CPC classification number: G02B26/105 ,  B81B2203/0154 ,  B81C2201/013 ,  B81C2201/0176 ,  H02N1/008

Abstract: PURPOSE: An optical scanner using an anodic bonding method and a fabricating method thereof are provided to improve the stability by forming an anodic laminate structure of a dielectric and a glass plate or the anodic laminate structure of the dielectric and a metal layer. CONSTITUTION: An optical scanner using an anodic bonding method includes a rectangular frame(80), a torsion bar(61'), a rectangular scanning mirror(66"), and a driving comb electrode(61"). One or more dielectrics and metal layers are formed between a substrate and a glass plate. The rectangular frame(80) includes an anodic laminate structure having the dielectrics and the metal layers. The torsion bar(61') is extended from the rectangular frame. The rectangular scanning mirror(66") is connected to the torsion bar. The driving comb electrode(61") is formed on a bottom face of the rectangular scanning mirror.

Abstract translation: 目的：提供一种使用阳极接合方法的光学扫描仪及其制造方法，通过形成电介质和玻璃板的阳极叠层结构或电介质和金属层的阳极叠层结构来提高稳定性。 构成：使用阳极接合方法的光学扫描仪包括矩形框架（80），扭杆（61'），矩形扫描镜（66“）和驱动梳状电极（61”）。 在基板和玻璃板之间形成一个或多个电介质和金属层。 矩形框架（80）包括具有电介质和金属层的阳极叠层结构。 扭杆（61'）从矩形框架延伸。 矩形扫描镜（66“）连接到扭杆上，驱动梳状电极（61”）形成在矩形扫描镜的底面上。

公开(公告)号：KR101829793B1

公开(公告)日：2018-02-19

申请号：KR1020160149005

申请日：2016-11-09

Applicant: 인피니온 테크놀로지스 아게

Inventor： 데헤,알폰스 ,  글라서,크리스토프

IPC: H04R19/00 ,  H04R19/04

CPC classification number: H04R19/04 ,  B81B3/0008 ,  B81B3/0021 ,  B81B2201/0257 ,  B81B2203/0127 ,  B81B2203/04 ,  B81C1/00158 ,  B81C2201/013 ,  H04R3/00 ,  H04R7/122 ,  H04R19/005 ,  H04R31/00 ,  H04R31/003 ,  H04R2207/00

Abstract: 실시예에따르면, 멤브레인을갖는미세전자기계시스템(MEMS) 트랜스듀서를동작시키는방법은제1 쌍의정전구동전극들을사용하여멤브레인의면외편향과제1 쌍의정전구동전극들상의전압사이에서변환하는단계를포함한다. 제1 쌍의정전구동전극들은멤브레인상에서면외방향으로연장하여형성되고제1 쌍의정전구동전극들사이에가변용량을형성한다.

公开(公告)号：KR101807146B1

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：KR1020160116721

申请日：2016-09-09

Applicant: 현대자동차주식회사

Inventor： 유일선

IPC: H04R19/04 ,  H04R19/00 ,  H04R19/01 ,  H04R31/00

CPC classification number: H04R19/04 ,  B81B3/0075 ,  B81B2201/0257 ,  B81B2203/0127 ,  B81C1/00158 ,  B81C2201/0109 ,  B81C2201/013 ,  H01L51/0048 ,  H04R19/005 ,  H04R31/00 ,  H04R31/003 ,  H04R2201/003 ,  H04R19/016

Abstract: 고감도마이크로폰및 그제조방법이개시된다. 본발명의실시예에따른고감도마이크로폰은, 중앙부에관통구가형성된기판; 상기기판상에서상기관통구를덮는형태로배치되는진동막; 상기진동막의상부에공기층을두고이격설치되며, 상기공기층방향으로관통된복수의공기유입구를포함하는고정막; 및상기고정막과진동막사이에탄성이있는수직기둥으로형성되어인가전압에관계없이마찰력에의해상기진동막을기계적으로고정하는복수의지지체를포함한다.

公开(公告)号：KR1020160091379A

公开(公告)日：2016-08-02

申请号：KR1020167016955

申请日：2014-11-25

Applicant: 인피닉스, 인크.

Inventor： 카말,모하마드 ,  리,통닝 ,  이유,데이비드 ,  치,치니안

IPC: G02B26/00 ,  H01S3/08 ,  H01S3/083 ,  H01S3/105 ,  H01S5/14

CPC classification number: G02B26/001 ,  B81C1/00317 ,  B81C2201/013 ,  G02B1/11 ,  G02B1/12 ,  H01L33/46 ,  H01L39/2467 ,  H01L2924/1461 ,  H01S3/08027 ,  H01S3/083 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1062 ,  H01S5/141 ,  H01S5/18366

Abstract: 파브리페롯(FP) 필터캐비티튜닝에기초한마이크로전자기계시스템(MEMS)을갖는파장튜닝가능한이득매질은튜닝가능한레이저로서제공된다. 본시스템은파장선택을위한레이저캐비티및 필터캐비티를포함한다. 레이저캐비티는반도체광학증폭기(SOA)와같은이득매질, 두개의평행(collimating) 렌즈들및 단부(end) 반사기로구성된다. MEMS-FP 필터캐비티는고정반사기및 전자기적힘에의해제어가능한가동반사기를포함한다. MEMS 반사기의무빙으로서, 파장은 FP 필터캐비티길이의변경에의해튜닝될수 있다. MEMS FP 필터캐비티변위는스탭전압으로이산적으로또는연석된드라이빙전압을사용함으로써연속적으로튜닝될수 있다. 연속튜닝을위한드라이빙주파수는공명주파수또는 MEMS 구조의임의의주파수일수 있고, 튜닝범위는 30nm, 40nm 및 100nm 이상과같이상이한튜닝범위들일수 있다.

Abstract translation: 提供使用基于微机电系统（MEMS）的法布里 - 珀罗（FP）滤波器空腔调谐的波长可调增益介质作为可调激光器。 该系统包括用于波长选择的激光腔和滤光腔。 激光腔由诸如半导体光放大器（SOA），两个准直透镜和端反射器的增益介质组成。 MEMS-FP滤光器腔包括固定反射器和可由静电力控制的可移动反射器。 通过移动MEMS反射器，可以通过改变FP滤光器腔长度来调节波长。 MEMS FP滤波器腔位移可以用阶跃电压离散地调谐，或者通过使用连续的驱动电压连续地调节。 连续调谐的驱动频率可以是谐振频率或MEMS结构的任何其他频率，调谐范围可以覆盖30nm，40nm和大于100nm的不同调谐范围。

公开(公告)号：KR1020130118228A

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：KR1020127033926

申请日：2011-06-08

Applicant: 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션

Inventor： 던바,조지,에이. ,  허,중-샹 ,  몰링,제프리,씨. ,  머피,윌리암,제이. ,  스탬퍼,앤서니,케이.

IPC: H01L29/84

CPC classification number: B81B3/0072 ,  B81B3/0021 ,  B81B2201/01 ,  B81B2201/014 ,  B81B2203/0118 ,  B81B2203/0315 ,  B81B2203/04 ,  B81C1/0015 ,  B81C1/00365 ,  B81C1/00476 ,  B81C1/00619 ,  B81C1/00626 ,  B81C1/00666 ,  B81C2201/0109 ,  B81C2201/013 ,  B81C2201/0167 ,  B81C2201/017 ,  B81C2203/0136 ,  B81C2203/0172 ,  G06F17/5068 ,  G06F17/5072 ,  H01H1/0036 ,  H01H57/00 ,  H01H59/0009 ,  H01H2057/006 ,  H01L41/1136 ,  H01L2924/0002 ,  Y10S438/937 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/435 ,  Y10T29/49002 ,  Y10T29/49105 ,  Y10T29/49121 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T29/4913 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T29/5313 ,  H01L2924/00

Abstract: 적어도 하나의 미세전자기계시스템 (MEMS)를 형성하는 방법은 기판상에 하부 배선 층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 상기 하부 배선 층으로부터 복수의 분리된 와이어들 (14)를 형성하는 단계를 더 포함한다. 상기 방법은 상기 복수의 분리된 와이어들 위에 전극빔 (38)을 형성하는 단계를 더 포함한다. 상기 전극빔과 상기 복수의 분리된 와이어들을 형성하는 단계 중 적어도 하나는 후속 실리콘 증착 (50)에서 힐록(hillock)들과 트리플 포인트(triple point)들을 최소화하는 레이아웃으로 형성된다.

公开(公告)号：KR1020070063163A

公开(公告)日：2007-06-19

申请号：KR1020050123121

申请日：2005-12-14

Applicant: 삼성전기주식회사

Inventor： 장제욱

IPC: G02B26/08 ,  G02B26/00

CPC classification number: G02B26/0858 ,  B81C1/00388 ,  B81C2201/0105 ,  B81C2201/013 ,  B81C2201/014 ,  B81C2201/117 ,  G02B26/0808

Abstract: An optical modulator with a protective film and a manufacturing method thereof are provided to prevent damage of a ribbon by restricting the lateral or lower side of a reflection region of the ribbon from being eroded due to etching gas, and to prevent separation of an interface formed between the ribbon and a light reflecting layer by improving adhesion between the ribbon and the light reflecting layer. An optical modulator with a protective film is composed of a substrate(110); an insulating layer(120) positioned on the substrate; a lower light reflecting layer(120a) positioned on the insulating layer to reflect or diffract the incident light; a structure layer(140) having a center portion separated from the lower light reflecting layer in a predetermined gap and a lower protective film(140d) protecting the underside of a reflection region except for a part of the center portion where a hole is formed; an upper light reflecting layer(140a) disposed on the reflection region to reflect or diffract the incident light; and piezo-electric actuators(150) disposed at both side ends of the structure layer to vertically move the center portion of the structure layer.

Abstract translation: 提供具有保护膜的光学调制器及其制造方法，以通过限制由于蚀刻气体而使该带的反射区域的横向或下侧受到侵蚀而防止带状物的损坏，并且防止形成的界面的分离 通过提高带和光反射层之间的粘合力，在带和光反射层之间。 具有保护膜的光学调制器由衬底（110）组成; 位于所述基板上的绝缘层（120）; 位于所述绝缘层上以反射或衍射所述入射光的下部光反射层（120a）; 具有以预定间隙从下部光反射层分离的中心部分的结构层（140d）以及保护除了形成有孔的中心部分的一部分之外的反射区域的下侧的下保护膜（140d） 设置在反射区域上以反射或衍射入射光的上部光反射层（140a）; 以及设置在结构层的两侧的压电致动器（150），以垂直移动结构层的中心部分。

公开(公告)号：KR100706319B1

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：KR20060006930

申请日：2006-01-23

Applicant: LG ELECTRONICS INC

Inventor： JI CHANG HYEON

IPC: G02B26/08 ,  G02B26/10

CPC classification number: G02B26/105 ,  B81B2203/0154 ,  B81C1/00142 ,  B81C1/00388 ,  B81C2201/013

Abstract: 본 발명은 소정의 전류를 인가하여 입력광을 반사시키는 마이크로미러를 가동시킴으로써 반사광의 경로를 변조하는 광 스캐닝 소자에 사용되는 스캐닝 마이크로미러의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 미러부, 상기 미러부를 일정 거리를 두고 둘러싸는 김블, 상기 김블 외부의 기판, 상기 미러부와 상기 김블 사이를 연결하는 한 쌍의 내부토션바 및 상기 김블과 외부기판의 사이를 연결하는 한 쌍의 외부토션바를 구비하여 1축 또는 2축 구동할 수 있는 스캐닝 마이크로미러를 제조함에 있어서, 기판의 윗면에는 절연박막층을, 아랫면에는 제1 식각 마스크층을 각각 형성하는 단계; 상기 기판을 상기 제1 식각 마스크층의 패턴을 따라 아랫면으로부터 소정의 깊이로 식각하는 단계; 상기 절연박막층 위에 도선을 부착하는 단계; 상기 절연박막층 및 도선 위에 제2 식각 마스크층을 형성하는 단계; 및 상기 기판 및 절연박막층을 상기 제2 식각 마스크층의 패턴을 따라 관통식각하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의하면 구동시 반사면의 동적 변형이 억제되어 양질의 반사광을 제공하는 스캐닝 마이크로미러의 제조가 가능하고, 단순한 마이크로머시닝 기술 및 반도체 일반 공정의 조합으로 스캐닝 마이크로미러를 제작할 수 있다.
광 스캐닝 소자, 스캐닝 마이크로미러, 식각 마스크

公开(公告)号：KR1020060011158A

公开(公告)日：2006-02-03

申请号：KR1020040059852

申请日：2004-07-29

Applicant: 삼성전기주식회사

Inventor： 박흥우 ,  이영규 ,  송종형 ,  최윤준 ,  홍윤식

IPC: G02B26/08 ,  G02B26/00

CPC classification number: G02B26/0808 ,  B81C1/00142 ,  B81C2201/013 ,  G02B26/0858 ,  H01L41/187

Abstract: 본 발명은 광변조기 모듈 패키지 구조 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 광변조기 소자와 구동 집적 회로 소자들을 하나의 모듈로 통합하여 제작하면서 광변조기 소자의 광학적 특성을 유지되고 콤팩트한 모듈 제작이 가능하도록 한 적층 하이브리드형 광변조기 모듈 패키지 구조 및 그 제조방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 판형으로 입사광이 투과할 수 있는 구멍이 중앙 부분에 형성되어 있는 패키지 덥개부; 상기 패키지 덥개부의 하부에 부착된 유리 기판과 상기 유리 기판의 하부에 부착된 광변조기 소자, 구동 집적회로 소자로 이루어진 소자 집적부; 상기 소자 집적부의 광변조기 소자, 구동 집적회로 소자가 관통할 수 있는 구멍을 구비하고 일측단에 외부 커넥터가 삽입될 커넥터 삽입부를 구비하며 상기 소자 집적부의 하부에 부착되어 있는 커넥터 접속부; 상기 커넥터 접속부에 부착되어 있으며, 상기 광변조기 소자, 구동집적회로 소자의 수납 공간을 제공하기 위한 하우징부; 및 상기 하우징부의 하부에 부착되어 있으며, 상기 하우징부를 밀폐하기 위한 하부 밀폐부를 포함하여 이루어진 광변조기 모듈 패키지 구조가 제공된다.
광변조기, 모듈, 구조도, 패키지, 적층, 하이브리드

公开(公告)号：KR1020050122659A

公开(公告)日：2005-12-29

申请号：KR1020040048266

申请日：2004-06-25

Applicant: 삼성전기주식회사

Inventor： 양행석

IPC: G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0808 ,  B81C1/00142 ,  B81C2201/013 ,  H01L41/187 ,  H02N2/02

Abstract: 본 발명은 광변조기 구동 모듈에 관한 것으로서, 특히 구동 전압 인가시에 상방향 구동 전압과 하방향 구동 전압을 동시에 인가하여 저전압에 의해 광변조기가 구동될 수 있도록 한 저전압 광변조기 구동 모듈에 관한 것이다.

公开(公告)号：US12006208B2

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：US18304383

申请日：2023-04-21

Applicant: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited

Inventor： Ting-Jung Chen ,  Shih-Wei Lin

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00063 ,  B81C1/00047 ,  B81C1/00523 ,  B81C2201/013

Abstract: A semiconductor oxide plate is formed on a recessed surface in a semiconductor matrix material layer. Comb structures are formed in the semiconductor matrix material layer. The comb structures include a pair of inner comb structures spaced apart by a first semiconductor portion. A second semiconductor portion that laterally surrounds the first semiconductor portion is removed selective to the comb structures using an isotropic etch process. The first semiconductor portion is protected from an etchant of the isotropic etch process by the semiconductor oxide plate, the pair of inner comb structures, and a patterned etch mask layer that covers the comb structures. A movable structure for a MEMS device is formed, which includes a combination of the first portion of the semiconductor matrix material layer and the pair of inner comb structures.