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公开(公告)号：CN108855719A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810448191.6
申请日：2018-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明涉及喷嘴清扫技术，在将喷嘴抵接构件的凹部按压于喷嘴的顶端部的状态下清扫上述顶端部，防止喷嘴抵接构件的局部性摩耗来延长喷嘴抵接构件的寿命并且减少摩擦粉的产生。喷嘴清扫装置具备：喷嘴抵接构件，设置有凹部，凹部具有能够与顶端部抵接的内侧面；以及驱动部，在喷嘴抵接构件按压于顶端部的状态下，使喷嘴抵接构件相对于顶端部在喷出口的延伸方向上移动。在喷嘴抵接构件未对顶端部施加按压的状态下，喷嘴抵接构件利用内侧面中的凹部的开口侧的端部卡止顶端部，另一方面，在喷嘴抵接构件对顶端部施加按压的状态下，顶端部与凹部彼此接近，由此使凹部弹性变形，扩展内侧面对顶端部的按压范围。
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公开(公告)号：CN108325788A
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201810055183.5
申请日：2018-01-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 本发明提供涂敷装置以及涂敷方法。在一边以使基板浮起的状态进行搬运，并且使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于基板的涂敷技术中，使涂敷于基板的涂敷液的厚度稳定化。在由基板搬运机构搬运的上述基板的前端到达上述多个孔列中的上述搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从上述喷嘴向由上述涂敷浮起部浮起的上述基板排出上述涂敷液，并且，开始使上述喷嘴向上述相逆方向移动。
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公开(公告)号：CN107824392A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201710826731.5
申请日：2017-09-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
CPC classification number: B05C5/0254 , B05C13/00
Abstract: 本发明涉及一种涂敷装置和涂敷方法，缩短涂敷处理的节拍时间，并且将涂敷液稳定地涂敷于基板。该涂敷装置具有：浮起部，以使基板的主面朝向上方的状态，使基板浮起；搬运部，将由浮起部浮起的基板，以基板搬运速度向规定的搬运方向搬运；喷嘴，向由搬运部搬运的基板的主面喷出涂敷液，来进行涂敷；以及，移动部，使正在喷出涂敷液的喷嘴，以小于基板搬运速度的喷嘴移动速度，向搬运方向移动。
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公开(公告)号：CN107433240A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201710320161.2
申请日：2017-05-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/02
Abstract: 本发明提供喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法。根据本发明，能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动之前，喷洒器(61A)事先在倾斜面(26)上喷洒冲洗液(Lb)。因此，刮除器(61B)在狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)上滑动时，由喷洒器(61A)事先喷洒的冲洗液(Lb)能够进入狭缝喷嘴(2)的唇部(24)的倾斜面(26)与刮除器(61B)之间，发挥润滑剂的作用。结果，能够抑制为了清扫狭缝喷嘴(2)而在狭缝喷嘴(2)上滑动的刮除器(61B)的磨损。
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公开(公告)号：CN119303808A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410905735.2
申请日：2024-07-08
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能够对喷出压力适当检测未预先设想到的未知异常的喷出压力监视装置及方法、记录介质及涂敷装置。喷出压力测量部(911)获取压力数据。特征量计算部(913)计算压力数据的特征量。异常度计算部(915)将特征量作为输入，使用输出表示偏离正常的特征量的分布的程度的异常度的无监督学习模型(M1)，对特征量计算部计算出的特征量计算异常度。异常概率计算部(917)将特征量作为输入，使用输出表示属于特定的异常(A)、(B)的概率的异常概率的监督学习模型(M2)，对特征量计算部(913)计算出的特征量计算异常概率。异常判断部(919)使用异常度计算部(915)计算出的异常度和异常概率计算部计算出的异常概率判断压力数据的异常。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114950810B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202210026200.9
申请日：2022-01-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/555 , B05B15/50 , B05C5/02
Abstract: 本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时，在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置，即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果，处理液的残留量被大幅削减。
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公开(公告)号：CN118218220A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202311766826.4
申请日：2023-12-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供一种既能避免过度降低生产效率，又能避免在冷却部的冷却面过度蓄积液态溶剂的减压干燥装置及减压干燥方法。减压干燥装置(1)用于使涂敷于基板(9)的上表面的涂敷膜(90)干燥。腔室(10)容纳基板。支撑部(20)在腔室(10)内支撑基板。冷却部(40)对与支撑部(20)所支撑的基板的上表面相对的冷却面(40a)进行冷却。减压机构(30)从腔室吸引气体，使腔室(10)内的压力降低。供气机构(60)向腔室(10)内供给气体，使腔室(10)内的压力上升。控制部(80)控制供气机构(60)，以在从供气机构(60)向处于减压状态的腔室(10)内供给规定量的气体之后，从供气机构(60)供给使腔室(10)内的压力成为大气压的量的气体。
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公开(公告)号：CN117427803A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202310910366.1
申请日：2023-07-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
IPC: B05B12/08
Abstract: 本发明提供一种能够在抑制基板的消耗的同时根据实际向基板喷出处理液的环境适当地调整喷出控制参数的技术。在第一调整工序(S1)中，基于进行模拟涂布时的第一压力波形对喷出控制参数进行调整。在第三调整工序(S3)中，基于按照通过第一调整工序(S1)调整的喷出控制参数进行实际涂布时的第二压力波形，判定是否重新调整喷出控制参数，在重新调整的情况下，基于进行模拟涂布时的第三压力波形重新调整喷出控制参数。在第四调整工序(S4)中，基于按照通过第三调整工序(S3)重新调整的喷出控制参数进行实际涂布时的第四压力波形，判定是否重新调整喷出控制参数，在重新调整的情况下，基于进行实际涂布时的第五压力波形重新调整喷出控制参数。
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公开(公告)号：CN114950810A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210026200.9
申请日：2022-01-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/555 , B05B15/50 , B05C5/02
Abstract: 本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时，在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置，即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果，处理液的残留量被大幅削减。
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公开(公告)号：CN111822234B
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202010305007.X
申请日：2020-04-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
Inventor： 安陪裕滋
Abstract: 提供一种涂布装置及涂布方法，以优异的品质将涂布液涂布到基板上。本发明构成为，具有：处理台，使基板浮起，基板运送部，将在处理台上浮起的基板在运送方向上运送，以及喷嘴，向由基板运送部运送的基板的上表面供给处理液；处理台具有：供给浮起区域，位于喷嘴的下方，使所述基板浮起，上游侧浮起区域，在运送方向上，在供给浮起区域的上游侧使基板浮起，以及下游侧浮起区域，在运送方向上，在供给浮起区域的下游侧使基板浮起；运送方向上的上游侧浮起区域的长度比下游侧浮起区域的长度长。
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