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公开(公告)号：KR200155567Y1
公开(公告)日：1999-09-01
申请号：KR2019960023354
申请日：1996-07-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N5/74
Abstract: 프로젝션 화상 초점 조절장치에 있어서, 프로젝션 TV의 렌즈부(102)의 빛을 직접 수광하여 반사하는 제1밀러(103)에 외부 초점 조절용 초점조절장치(100)를 설치하여 상기 프로젝션 TV의 외부에 설치된 상기 외부 초점 조절용 초점조절장치(100)의 제1노브(209)에 의해 제1밀러(103)의 전체를 수평으로 이동토록 하고, 제2노브(210)에 의해 상기 제1밀러(103)의 반사 각도를 미세 조정하여 빛의 초점을 조절토록 함을 특징으로 하는 장치.
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公开(公告)号：KR100194045B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019960028585
申请日：1996-07-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N5/74
Abstract: 본 발명은 스크린의 휘도(밝기) 및 지향성을 향상시킬 수 있는 프로젝션 텔레비젼에 관한 것이다. 프로젝션 텔레비젼의 스크린에 블랙-시트(black sheet)를 설치하여 스크린의 명암 선명도(contrast)을 향상시킬 수 있는 프로젝션 텔레비젼을 제공하며, 프로젝션 텔레비젼에 사용되는 스크린은 프로젝션 텔레비젼의 휘도 및 지향성을 향상시키기 위하여 프로젝터의 입사광과 평행하게 반사광을 반사시키는 반사셀이 형성된 리트로-리플렉터와, 상기 스크린의 명암 선명도를 향상시키기 위한 블랙-시트로 구성된 것이다.
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公开(公告)号：KR1019980025700A
公开(公告)日：1998-07-15
申请号：KR1019960043938
申请日：1996-10-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박준수
IPC: H01L27/04
Abstract: 본 발명은 반도체 장치의 레이아웃 면적을 최소화할 수 있는 하이 드라이빙 셀을 갖는 반도체 장치에 관한 것으로, 외부로부터 소정의 신호를 입력받는 복수의 앤드게이트와, 상기 복수의 앤드게이트의 출력단에 입력단이 연결된 노어게이트를 구비한 하이 드라이빙 셀을 갖는 반도체 장치에 있어서, 상기 노어게이트의 출력단에 직렬 연결된 복수의 인버터를 포함한다. 이와 같은 장치에 의해서, 반도체 장치의 레이아웃 면적을 최소화하면서 드라이빙 속도를 최대화할 수 있다.
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公开(公告)号：KR2019960006629U
公开(公告)日：1996-02-17
申请号：KR2019940017230
申请日：1994-07-12
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본고안은액정프로젝터용램프의자동온도조절장치에관한것으로, AC전원을입력받는전원공급부에고압트랜스와타이머를형성하고, 고압트랜스를통한고전압은램프로공급되도록하면서타이머를경유한전원은온도감지센서를거쳐팬으로공급되도록하여램프가점등된상태에서영상단으로부터의영상신호를입력받는패널의화상이광학계를거쳐스크린에영상으로비쳐지도록하는한편, 램프가소정의온도보다높아지는상태를온도감지센서로인식하면서이의저항치에따라팬의회전이가변되어효율적으로냉각시키도록한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于液晶投影仪的灯的恒温器，其中高压变压器和计时器形成在用于接收AC电力的电源单元中，通过高压变压器的高电压被提供给灯， 传感器将图像提供给风扇，使得在灯点亮时通过光学系统将从图像端接收图像信号的面板的图像投影到屏幕上， 并且风扇的旋转根据传感器的电阻值而变化，从而可以有效地执行冷却。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019940005385B1
公开(公告)日：1994-06-17
申请号：KR1019910001828
申请日：1991-01-31
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 박준수
IPC: H04N5/72
Abstract: The shading correction circuit of projection television includes a pulse generating circuit for generating a horizontal parabola pulse and a horizontal sawtooth wave pulse having a 1-horizontal line period according to horizontal and vertical blanking signals, a pulse shaping circuit for generating first, second and third shading correction pulses, and a mixer circuit for mixing the first, second and third shading pulses with a luminance signal, thereby removing a shading phenomenon of projection television.
Abstract translation: 投影电视的阴影校正电路包括用于产生水平抛物线脉冲的脉冲发生电路和根据水平和垂直消隐信号具有1-水平行周期的水平锯齿波脉冲，用于产生第一，第二和第三 阴影校正脉冲，以及用于将第一，第二和第三阴影脉冲与亮度信号混合的混合电路，从而去除投影电视的阴影现象。
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公开(公告)号：KR1020170043723A
公开(公告)日：2017-04-24
申请号：KR1020150143020
申请日：2015-10-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L27/108
CPC classification number: H01L27/10894 , H01L27/10814 , H01L27/10826 , H01L27/10852 , H01L27/10855 , H01L27/10879 , H01L27/10885 , H01L28/90
Abstract: 본발명은캐패시터를포함하는반도체소자및 그제조방법에관한것으로, 보다상세하게는제1 칩영역및 제2 칩영역을포함하는기판상에, 선택소자들을포함하는제1 하부구조체및 제2 하부구조체를각각형성하는것; 상기제1 및제2 하부구조체들상에제1 몰드막및 제2 몰드막을각각형성하는것; 상기제1 및제2 몰드막들상에제1 지지막및 제2 지지막을각각형성하는것; 상기제1 지지막및 상기제1 몰드막을패터닝하여, 상기제1 하부구조체를노출시키는복수의제1 홀들을형성하는것; 상기제1 홀들내에제1 하부전극들을형성하는것; 상기제2 지지막은남겨두고상기제1 지지막을선택적으로패터닝하여, 적어도하나의오프닝을포함하는지지패턴을형성하는것; 및상기오프닝을통해상기제1 몰드막을제거하는것을포함한다. 상기지지패턴의상면의높이는상기제2 지지막의상면의높이와실질적으로동일하다.
Abstract translation: 本发明涉及一种半导体器件和电容器的制造方法，更具体地，第一下部结构，其包括选择装置上，其包括第一芯片区域和第二芯片区域和第二下部基板 分别形成结构; 在第一子结构和第二子结构上分别形成第一模制膜和第二模制膜; 在第一和第二模塑膜上分别形成第一支撑膜和第二支撑膜; 图案化第一支撑膜和第一模制膜以形成暴露第一子结构的多个第一孔; 在第一孔中形成第一下电极; 选择性地图案化所述第一支撑膜，留下所述第二支撑膜以形成包括至少一个开口的支撑图案; 并通过开口去除第一个模具膜。 支撑图案的上表面的高度基本上等于第二支撑膜的上表面的高度。
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公开(公告)号：KR1020130109829A
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR1020120031881
申请日：2012-03-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/308 , H01L21/0337 , H01L27/10852 , H01L28/92 , H01L21/0273
Abstract: PURPOSE: A method of forming fine patterns of a semiconductor device forms fine patterns uniformly arranged in a zigzag by using line and space patterns. CONSTITUTION: First and second hard mask patterns are alternatively arranged on a lower film (20). A mask pattern extended in a second direction perpendicular to a first direction is formed on the first and second hard mask patterns. A first opening (65) is formed by etching the first hard mask patterns. A filled pattern (90) is filled in gaps between the first openings and the mask patterns. A spacer (95) is formed on both walls of the filled patterns. A second opening (45) is formed by etching the second hard mask patterns.
Abstract translation: 目的：形成半导体器件的精细图案的方法通过使用线和空间图案形成均匀排列成锯齿形的精细图案。 构成：第一和第二硬掩模图案交替地布置在下膜（20）上。 在第一和第二硬掩模图案上形成在垂直于第一方向的第二方向上延伸的掩模图案。 通过蚀刻第一硬掩模图案形成第一开口（65）。 填充图案（90）填充在第一开口和掩模图案之间的间隙中。 在填充图案的两个壁上形成间隔物（95）。 通过蚀刻第二硬掩模图案形成第二开口（45）。
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