올리고머 프로브 어레이 및 이의 제조 방법
    31.
    发明公开
    올리고머 프로브 어레이 및 이의 제조 방법 失效
    低分子探针阵列及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020080017765A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:KR1020060079364

    申请日:2006-08-22

    CPC classification number: C12Q1/6834 B01J19/0046

    Abstract: An oligomer probe array is provided to improve focusing efficiency at exposure by using near-infrared rays having lower energy intensity than ultraviolet rays as exposure source, and form nano probe cell actives, so that it is useful for the microarray and high integration of oligomer probe array. An oligomer probe array comprises: a substrate; an oligomer probe on the substrate; and an active membrane formed as a polymer containing a monomer having a two-photon absorption group, a monomer having a photo-crosslinking functional group and a monomer having a function group capable of coupling with the oligomer probe directly or indirectly, wherein the photo-crosslinking functional group is cinnamoyl group; and the polymer is represented by the formula in which X is a group represented by the structure of an electron donor or electron acceptor-pi electron center-electron donor or electron acceptor, Y is hydroxyl group, aldehyde group, carboxyl group, amino group, amide group, thiol group, halo group or sulfonate group, R1 is hydrogen or C1-4 alkyl group, R2 is C1-4 alkylene group, C1-4 alkoxy group or phenylene group, R3 is C1-8 alkylene group or C1-8 alkoxy group, R4 is hydrogen or methyl group. Further, the active membrane is separated into a plurality of probe cell actives.

    Abstract translation: 提供一种低聚物探针阵列,通过使用比紫外线作为曝光源的能量强度低的近红外线,提高曝光时的聚焦效率,形成纳米探针细胞活性物质,从而可用于微阵列和低聚物探针的高度整合 阵列。 低聚物探针阵列包括:基底; 底物上的低聚物探针; 以及作为含有具有双光子吸收基团的单体的聚合物形成的活性膜,具有光交联官能团的单体和能够直接或间接与低聚物探针偶联的官能团的单体,其中, 交联官能团为肉桂酰基; 该聚合物由下式表示,其中X是由电子给体或电子受体-π电子中心 - 电子给体或电子受体的结构表示的基团,Y是羟基,醛基,羧基,氨基, 酰胺基,硫醇基,卤基或磺酸酯基,R 1是氢或C 1-4烷基,R 2是C 1-4亚烷基,C 1-4烷氧基或亚苯基,R 3是C 1-8亚烷基或C 1-8 烷氧基,R4是氢或甲基。 此外,活性膜被分离成多个探针细胞活性物质。

    다채널 형광 검출 모듈 및 이를 포함하는 핵산 분석 시스템
    35.
    发明公开
    다채널 형광 검출 모듈 및 이를 포함하는 핵산 분석 시스템 审中-实审
    多通道荧光检测模块和具有相同功能的核酸分析系统

    公开(公告)号:KR1020150015289A

    公开(公告)日:2015-02-10

    申请号:KR1020130091171

    申请日:2013-07-31

    Abstract: 다채널 형광 검출 모듈 및 이를 포함하는 핵산 분석 시스템이 개시된다. 일 실시예에 따른 핵산 분석 시스템은, 미세 유체 소자를 포함하는 다수의 카트리지들이 각각 배치될 수 있는 다수의 적재부; 직선 운동을 하는 가동자를 구비하는 리니어 액추에이터를 포함하는 이송 모듈; 및 상기 가동자에 고정되어 상기 가동자와 함께 이동하는 것으로, 상기 카트리지에 여기광을 조사하고 상기 카트리지 내의 샘플로부터 발생한 형광을 검출하는 형광 검출 모듈;을 포함하며, 상기 다수의 적재부들은 상기 가동자의 직선 운동 궤도를 따라 일렬로 배열될 수 있다.

    Abstract translation: 在本发明中,公开了多通道荧光检测模块和包含该多通道荧光检测模块的核酸分析系统,其包括多个装载部件,其中布置有多个具有微流体装置的盒; 转移模块,其具有包括可移动元件直线移动的线性致动器; 以及荧光检测模块,其固定在可移动元件上,因此一起移动,将激发光发射到暗盒,并且检测墨盒中的样品的荧光,其中多个加载部件与所述可移动元件的直线移动轨迹一起排列成行 活动元素

    광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법
    36.
    发明公开
    광학 스캐너 보정 소자, 그를 제조하는 방법 및 그를 사용하여 광학 스캐너를 보정하는 방법 无效
    用于校准光学扫描仪的装置,其制造方法和使用该光学扫描仪校准光学扫描仪的方法

    公开(公告)号:KR1020110136299A

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:KR1020100056191

    申请日:2010-06-14

    CPC classification number: G01N21/6452

    Abstract: PURPOSE: An optical scanner revising element, a manufacturing method thereof, and a method for revising the optical scanner by using the same are provided to variously measure pixels of an optical scanner and to form various patterns. CONSTITUTION: An optical scanner revising element comprises a substrate(10) and a pattern(20). The same pattern is located on the top of the substrate. The same pattern is made of photoresist. The photoresist is the color photoresist. The substrate is made of one of silicon, quartz, glass and plastic materials. Multiple patterns are arranged on the top of the substrate as an array shape. A marginal region(27) is included between multiple patterns. Photoresist comprises a photoresist bonding agent, and pigment or dye.

    Abstract translation: 目的:提供一种光学扫描器修正元件,其制造方法以及通过使用该光学扫描器的方法来对光学扫描器进行修改以不同地测量光学扫描器的像素并形成各种图案。 构成:光学扫描器修正元件包括基底(10)和图案(20)。 相同的图案位于基板的顶部。 相同的图案由光致抗蚀剂制成。 光致抗蚀剂是彩色光致抗蚀剂。 基板由硅,石英,玻璃和塑料材料之一制成。 作为阵列形状,在基板的顶部设置多个图案。 边缘区域(27)被包含在多个模式之间。 光致抗蚀剂包括光致抗蚀剂粘合剂和颜料或染料。

    감광성 물질의 코팅을 이용한 폴리머 어레이의 제조 방법
    38.
    发明公开
    감광성 물질의 코팅을 이용한 폴리머 어레이의 제조 방법 无效
    通过使用光敏剂涂层制备聚合物阵列的方法

    公开(公告)号:KR1020090034571A

    公开(公告)日:2009-04-08

    申请号:KR1020070099877

    申请日:2007-10-04

    Inventor: 유창은 지성민

    Abstract: A method for preparing a polymer array and a method for cutting a photolabile protecting group are provided to effectively manufacture a polymer array with less exposure energy by photolithography. A method for preparing a polymer array comprises the steps of: (i) reacting a monomer containing a photolabile protecting group on the surface of a substrate, and fixing the monomer on the substrate; (ii) coating the surface fixed with the monomer with the solution containing a photosensitive material and coating material; (iii) cutting the photolabile protecting group from the monomer by performing selectively electromagnetic irradiation to specific site on the surface of the substrate coated with the photosensitive material and coating material; (iv) exposing the monomer cut with the photolabile protecting group by electromagnetic irradiation of (iii) step; (v) reacting the monomer cut with the photolabile protecting group and the monomer containing the photolabile protecting group and connecting them; and (vi) repeating the (ii) ~ (v) step.

    Abstract translation: 提供了制备聚合物阵列的方法和切割光不稳定保护基团的方法,以通过光刻技术有效地制造具有较少曝光能量的聚合物阵列。 制备聚合物阵列的方法包括以下步骤:(i)使含有光不稳定保护基团的单体在基材表面上反应,并将单体固定在基材上; (ii)用含有感光材料和涂料的溶液涂覆用单体固定的表面; (iii)通过对涂覆有感光材料和涂层材料的基材的表面上的特定部位进行选择性电磁辐射,将光不稳定保护基从单体切割; (iv)通过(iii)步骤的电磁辐射暴露用光不稳定保护基切割的单体; (v)使单体切割与光不稳定保护基与含有光不稳定保护基的单体反应并连接; 和(vi)重复(ii)〜(v)步骤。

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