Abstract:
PURPOSE: An input/output line structure for an extraction stack of an ion implanter is provided to attain stable connection and grounding, and thereby to prevent undesirable arcing phenomena. CONSTITUTION: An input/output line structure is employed for an oil box(300) equipped with an extraction stack. A tube(400) is longitudinally formed in the oil box(300). A first connection line(100) is set in the tube(400) and connected with inner electronic devices of the oil box(300). The first connection line(100) has a length approximately equal to the tube(400). On the other hand, a second connection line(200) having a relatively shorter length is inserted into the tube(300) and then grounded with the first connection line(100). Therefore, the second connection line(200) is not easy to bend, so that an exact and stable connection is made between the first and second connection lines(100,200).
Abstract:
1. 청구 범위에 기재된 발명이 속한 기술분야: 박막 트랜지스터 및 그 제조방법. 2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제: 개선된 특성을 가지는 박막 트랜지스터 및 그 제조방법을 제공한다. 3. 발명의 해결방법의 요지: 개시된 박막 트랜지스터는, 턴오프시에만 오프셋 영역을 동작적으로 가지는 채널영역과: 상기 채널영역상에 형성된 게이트 절연막과: 상기 채널영역과 자기정합되며 상기 채널영역의 제1 인접부에 형성된 소오스 영역과: 상기 채널영역과 자기정합되며 상기 채널영역의 제2 인접부에 형성된 드레인 영역과: 게이트 전압을 수신하는 메인 게이트, 상기 소오스 영역과 저항성 접촉을 이루는 서브 게이트, 및 상기 메인 게이트와 상기 서브 게이트간에 정류성 접합을 만들기 위한 접합 게이트를 포함하여 상기 게이트 절연막상에 형성된 게이트영역을 가진다. 4. 발명의 중요한 용도: 박막 트랜지스터 및 그 제조방법.
Abstract:
1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 박막 트랜지스터 및 그 제조방법. 2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제 개선된 특성을 가지는 박막 트랜지스터 및 그 제조방법을 제공한다. 3. 발명의 해결방법의 요지 개시된 박막 트랜지스터는, 턴오프시에만 오프셋 영역을 동작적으로 가지는 채널영역과; 상기 채널영역상에 형성된 게이트 절연막과; 상기 채널영역과 자기정합되며 상기 채널영역의 제1인접부에 형성된 소오스 영역과; 상기 채널영역과 자기정합되며 상기 채널영역의 제2인접부에 형성된 드레인 영역과; 게이트 전압을 수신하는 메인 게이트, 상기 소오스 영역과 저항성 접촉을 이루는 서브 게이트, 및 상기 메인 게이트와 상기 서브 게이트 간에 정류성 접합을 만들기 위한 접합 게이트를 포함하여 상기 게이트 절연막상에 형성된 게이트영역을 가진다. 4. 발명의 중요한 용도 박막 트랜지스터 및 그 제조방법.
Abstract:
PURPOSE: A multilayer electro-active polymer device and a manufacturing method thereof are provided to minimize the reduction of a driving displacement of a multilayer EAP(Electro-Active Polymer) actuator by forming an active electrode with conductive polymer. CONSTITUTION: An EAP layer(111-118) is made of electro-active polymer. A protective layer(121-128) prevents foreign materials from penetrating through the EAP layer. An active electrode(131-138) is made of conductive materials. An extension electrode(141-148) is arranged in an inactive region. A connection electrode structure includes a plurality of inactive layers and common electrodes(151,152).
Abstract:
A semiconductor probe having a wedge shape resistive tip and a method of fabricating the semiconductor probe is provided. The semiconductor probe includes a resistive tip that is doped with a first impurity, has a resistance region doped with a low concentration of a second impurity having an opposite polarity to the first impurity, and has first and second semiconductor electrode regions doped with a high concentration of the second impurity on both side slopes of the resistive tip. The probe also includes a cantilever having the resistive tip on an edge portion thereof, and an end portion of the resistive tip has a wedge shape.
Abstract:
A semiconductor probe having a wedge-shaped resistive tip, and a method of fabricating the same are provided to increase the resolution of a resistance area by forming highly doped electrode areas on both sides of the resistance area of the resistive tip. A semiconductor probe comprises a resistive tip(150), and a cantilever(170). The resistive tip, doped by the first impurity, comprises a resistance area(156) which is doped by the second impurity, having an opposite polarity to that of the first impurity, in low concentration on its top portion, and has first and second semiconductor electrode areas(152,154) doped by the second impurity in high concentration on its inclined portion. The cantilever has the resistive tip on its edge portion. The end portion of the resistive tip is wedge-shaped and the length of the end portion of the tip is in a range of 20nm to 2mum.
Abstract:
저항성 팁을 구비한 반도체 탐침 및 그 제조방법이 개시된다. 개시된 제조방법은 제1불순물을 도핑한 기판의 상면에 스트라이프형의 마스크막을 형성하고, 상기 마스크막을 제외한 상기 기판의 영역에 제2불순물을 고농도로 도핑하여 제1 및 제2반도체 전극영역을 형성하는 단계와, 상기 기판을 열처리하여 상기 제1 및 제2 반도체 전극영역의 외곽에 상기 제2분순물이 저농도로 도핑된 저항영역을 형성하는 단계와, 상기 마스크막과 직교하는 방향으로 스트라이프 형상의 제1감광제를 형성하고, 식각공정을 수행하여 상기 마스크막을 사각형상으로 형성하는 단계와, 상기 제1감광제의 일부를 덮으며 캔티레버 영역을 한정하는 제2감광제를 형성하는 단계와, 상기 제1 및 제2감광제를 제외한 영역을 식각하여 상기 캔티레버 영역을 형성하는 단계와, 상기 제1 및 제2감광제를 제거하고, 상기 마스크막을 제외한 상기 기판을 식각하여 반사각뿔 형상의 저항성 팁을 형성하는 단계를 구비한다.
Abstract:
이방성 전도층을 구비하는 강유전체 기록 매체, 그것이 구비되는 기록 장치 및 그 기록 방법이 개시된다. 강유전체 기록 매체는 강유전체 기록층과 상기 강유전체 기록층을 덮는 보호층을 구비하는 것으로서, 상기 강유전체 기록층은 극성 반전(polarization reversal)되는 강유전성 물질(ferroelectric material)로 형성되고, 상기 보호층은 외부 에너지에 의해 도체, 부도체로 전이되는 전기적 이방성 전도층(anisotropic conduction layer)인 것을 특징으로 한다. 개시된 강유전체 기록 매체에 의하면, 헤드 팁과 강유전체 기록층 사이에 작은 전압을 인가하면서 읽기/쓰기 작업을 수행할 수 있고, 강유전체 기록층이 긁히거나 헤드 팁이 손상/파손되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다.
Abstract:
저항성 팁을 구비한 반도체 탐침의 제조방법이 개시된다. 개시된 저항성 팁을 구비한 반도체 탐침의 제조방법은, 제1 및 제2마스크막을 기판의 상면에 사각형상으로 형성하고, 상기 기판의 상면을 1차적으로 식각한 다음, 상기 제1마스크막을 식각하여 팁 네크의 폭에 해당하는 제3마스크막을 형성한다. 상기 제3마스크막으로 상기 기판을 2차적으로 식각하여 팁 네크의 폭이 소정의 폭으로 되게 한다. 상기 제3마스크막을 제거한 후 상기 기판을 열처리하여 팁의 첨두부를 형성한다. 이에 따르면, 팁 네크의 폭이 일정해지고 따라서 팁의 높이가 일정한 반도체 탐침을 제조할 수 있다.