公开(公告)号：KR1020150088879A

公开(公告)日：2015-08-03

申请号：KR1020157017079

申请日：2013-11-27

Applicant: 트러스티스 오브 프린스턴 유니버시티

Inventor： 두가리우아서

IPC: G01N21/65 ,  G01J3/44

CPC classification number: G01J3/4412 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0216 ,  G01J3/44 ,  G01N21/65 ,  G01N2021/653

Abstract: 원격및/또는휴대용검출을위한시스템들및 방법들이제공된다. 시스템은코히렌트성레이저펄스의공급원(305), 코히렌트성레이저펄스를제 1 파장값에서의제 1 빔펄스(391)와제 2 파장값에서의제 2 빔펄스(392) 및제 3 파장값에서의제 3 빔펄스(393)로전환하는부품들(315, 320)을포함할수 있다. 시스템들은지연된빔 펄스를생성하도록상기제 1 빔펄스, 상기제 2 빔펄스, 및상기제 3 빔펄스중 적어도하나를지연시키도록구성된광학부품들(330)과, 상기지연된빔 펄스; 및상기제 1 빔펄스, 상기제 2 빔펄스, 및상기제 3 빔펄스세트중 2개의펄스의실질적으로동일선상의결합을샘플(355) 상으로전송하도록구성된포커싱부품(340)을추가로포함할수 있다.

公开(公告)号：KR101520453B1

公开(公告)日：2015-05-20

申请号：KR1020090010547

申请日：2009-02-10

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  연세대학교 산학협력단

Inventor： 이헌정 ,  채승기 ,  한재원 ,  오창훈

IPC: H01L21/205 ,  H05H1/24

CPC classification number: G02B21/0028 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/0289 ,  G01J3/443

Abstract: 본발명은플라즈마용광학장치을제공한다. 이장치는플라즈마발생장치의윈도우를통하여대상영역에서방출되는광방출스펙스럼(optical emission spectrum)을수광하는수광렌즈, 수광렌즈와상기윈도우사이에배치되어아웃포커스(out focus)된광을차단하는제1 구경조리개(aperture stop), 수광렌즈와수광렌즈의결상영역사이에배치되어인 포커스광을차단하는제2 구경조리개, 및수광렌즈의결상영역에배치되고대상영역의촛점심도를제한하는핀 홀(pin hole)을포함한다.

公开(公告)号：KR1020150045523A

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：KR1020157008521

申请日：2013-10-02

Applicant: 고쿠리츠다이가쿠호우징 카가와다이가쿠

Inventor： 이시마루이치로

IPC: A61B5/1455 ,  A61B5/00 ,  G01J3/06 ,  G01J3/453 ,  G01N21/27 ,  G01N21/35

CPC classification number: G01J3/45 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/4531 ,  G01J3/4532 ,  G01N2021/3595 ,  A61B5/1455 ,  A61B5/0075 ,  G01J3/06 ,  G01J3/453 ,  G01N21/27 ,  G01N21/35

Abstract: 본발명의분광측정장치는피측정물의측정영역내에위치하는복수의측정점으로부터각각발사된측정광속을제1 측정광속및 제2 측정광속으로분할하는분할광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속을간섭시키는결상광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속의사이에연속적인광로길이차분포를주는광로길이차부여수단과, 광로길이의연속적인분포에상응하는간섭광의강도분포를검출하는복수의픽셀을포함하는검출부와, 검출부에서검출되는간섭광의광강도분포에기초하여, 피측정물의측정점의인터페로그램을구하고, 이인터페로그램을푸리에변환함으로써스펙트럼을취득하는처리부와, 피측정물과분할광학계의사이에배치된, 그분할광학계와공통의공역면을가지는공역면결상광학계와, 공역면에배치되어복수의측정점으로부터발사된측정광속에공간적인주기변조를주는주기성부여수단을구비한다.

Abstract translation: 根据本发明的光谱特性测量装置包括：分割光学系统，用于将位于待测物体的测量区域内的多个测量点中的每一个发射的测量光束分成第一测量光束和第二测量 光束; 用于使第一测量光束和第二测量光束彼此干涉的成像光学系统; 光路长度差提供装置，用于提供第一测量光束和第二测量光束之间的光程长度差的连续分布; 用于检测干涉光的光强度分布的检测器; 基于由所述检测器检测出的干涉光的光强度分布获取被测量物体的测量点的干涉图并进行傅立叶变换以获得光谱的处理器; 位于被测量物体与分割光学系统之间的共轭平面成像光学系统，共轭平面成像光学系统具有与分割光学系统共享的共轭平面; 以及位于共轭平面上的周期性提供装置，用于在从多个测量点发射的测量光束之间提供周期性。

公开(公告)号：KR1020140054440A

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：KR1020147009869

申请日：2007-04-23

Applicant: 코닝 인코포레이티드

Inventor： 콤스탁,로벨,이.,Ⅱ

IPC: G01J3/12

CPC classification number: G01J3/18 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0259 ,  G01J3/04 ,  G01J3/2823 ,  G02B5/1852

Abstract: 모놀리식 오프너 분광계는 최신의 다이아몬드 기계 가공 공정을 이용하여 제조된 슬릿 및 회절격자와 같은 다양한 요소로 여기에 개시된다. 1실시예에 있어서, 모놀리식 오프너 분광계는 다이아몬드 기계 가공 공정을 이용하여 직접 제조된다. 다른 실시예에 있어서, 모놀리식 오프너 분광계는 다이아몬드 기계 가공 공정에 의해 제조된 몰드(mold)를 이용하여 제조된다. 또 다른 실시예에 있어서, 회절격자는 다이아몬드 기계 가공 공정을 이용하여 직접 제조된다. 또 다른 실시예에 있어서, 회절격자는 다이아몬드 기계 가공 공정에 의해 제조된 몰드를 이용하여 제조된다. 또 다른 실시예에 있어서, 슬릿은 다이아몬드 기계 가공 공정을 이용하여 직접 제조된다.

公开(公告)号：KR1020130131559A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：KR1020120055189

申请日：2012-05-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 오광룡

IPC: G02B5/20

CPC classification number: H01S5/141 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/12 ,  G01J3/26 ,  G01J2003/064 ,  G01J2003/1213 ,  H01S3/08027 ,  H01S3/107

Abstract: A wavelength-tunable optical filter which supports broadband, high-speed wavelength variation, and continuous variation and is easy to manufacture and a light source are provided. The wavelength-variable optical filter, given in an embodiment of the present invention, includes a first optical deflector which is driven by an electrical signal and adjusts the progress direction of incident light; and a Fabry-Perot filter which filters the light passing through the first optical deflector to output light of a certain wavelength.

Abstract translation: 一种支持宽带，高速波长变化和连续变化并易于制造和光源的波长可调谐滤光器。 在本发明的实施例中给出的波长可变滤光器包括由电信号驱动并调节入射光的行进方向的第一光偏转器; 以及法布里 - 珀罗滤波器，其对穿过第一光偏转器的光进行滤光以输出特定波长的光。

公开(公告)号：KR101334183B1

公开(公告)日：2013-12-02

申请号：KR1020070054023

申请日：2007-06-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김수현 ,  김진태

IPC: G01N21/64 ,  G01N21/00 ,  G01N33/00

CPC classification number: G01N21/645 ,  B01L3/502715 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/4406 ,  G01N2021/6419 ,  G01N2021/6421 ,  G01N2201/062

Abstract: 미세 챔버 내의 형광을 검출하기 위한 형광 검출 모듈은, 광원과, 광원으로부터 방사된 여기광을 집광하는 콜리메이팅 렌즈와, 광을 그 파장에 따라 선택적으로 투과 또는 반사시키는 다이크로익 미러와, 다이크로익 미러에 의해 선택된 여기광을 집광하여 미세 챔버 내의 시료에 조사되도록 하고, 여기광의 조사에 의해 미세 챔버 내에서 발생된 형광을 집광하는 대물 렌즈와, 다이크로익 미러에 의해 선택된 형광을 집속하는 포커싱 렌즈와, 포커싱 렌즈에 의해 집속된 형광을 검출하는 형광 검출 소자를 구비한다. 그리고, 복수의 미세 챔버가 배열된 미세유체 칩을 위한 형광 검출 시스템은, 프레임과, 적어도 하나의 형광 검출 모듈과, 형광 검출 모듈을 지지하는 홀더와, 프레임에 설치되어 홀더를 복수의 미세 챔버들이 배열된 방향을 따라 왕복 이동시키는 구동부와, 프레임에 설치되어 홀더를 이동 가능하도록 지지하며 그 이동을 가이드하는 가이드를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020130029816A

公开(公告)日：2013-03-25

申请号：KR1020137003757

申请日：2004-09-08

Applicant: 더 제너럴 하스피탈 코포레이션

Inventor： 윤석현 ,  보우마,브레트,유진 ,  티어니,길레모,주니어 ,  보어,요한,피츠제럴드데

IPC: G01J9/02 ,  G01B9/02 ,  A61B5/00

CPC classification number: H01S5/5045 ,  A61B5/0059 ,  A61B5/0066 ,  A61B5/7257 ,  G01B9/02002 ,  G01B9/02004 ,  G01B9/02043 ,  G01B9/02075 ,  G01B9/02081 ,  G01B9/02083 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209 ,  G01B9/02091 ,  G01B2290/45 ,  G01B2290/70 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/453 ,  G01J9/0215 ,  G01N21/4795 ,  G02B6/3604 ,  G02B26/12 ,  G02B27/48 ,  G02F1/093 ,  G02F1/11 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/0078 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08063 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1068 ,  H01S5/0071 ,  H01S5/0078 ,  H01S5/1025 ,  H01S5/14 ,  H01S5/141 ,  H01S5/146

Abstract: 장치 및 방법이 개시된다. 특히 적어도 하나의 제1 전자기 방사가 하나의 샘플에 제공되며, 또한 적어도 하나의 제2 전자기 방사가 비 반사 기준물에 제공될 수 있다. 제1 및/또는 제2 방사의 주파수는 시간에 따라 변한다. 상기 샘플로부터 복귀된 적어도 하나의 제3 방사와 상기 기준물로부터 복귀된 적어도 하나의 제4 방사 사이의 간섭이 검출된다. 또한 제1 전자기 방사 및/또는 제2 전자기 방사는 시간에 따라 변화하는 스펙트럼을 갖는다. 스펙트럼은 특정 시간에 다수의 주파수들을 가질 수 있다. 또한, 제1 편광 상태에서 제3 방사와 제4 방사 사이의 간섭 신호를 검출할 수 있다. 또한, 제1 편광 상태와는 다른 제2 편광 상태에서 제3 방사와 제4 방사 사이의 간섭 신호를 검출하는 것이 바람직하다. 제1 및/또는 제2 전자기 방사는 밀리 초당 100 테라 헤르츠 이상의 조정 속도에서 시간에 따라 사실상 연속적으로 변화하는 중심 주파수 스펙트럼을 가질 수 있다.

Abstract translation: 公开了装置和方法。 具体而言，在一个样本中提供至少一个第一电磁辐射，并且还可以在非反射参考中提供至少一个第二电磁辐射。 第一和/或第二辐射的频率随时间变化。 检测从样本返回的至少一个第三辐射与从参考返回的至少一个第四辐射之间的干涉。 第一电磁辐射和/或第二电磁辐射也具有随时间变化的光谱。 频谱在特定时间可以有多个频率。 也可以检测第一偏振态下的第三和第四辐射之间的干涉信号。 还希望检测处于不同于第一偏振态的第二偏振态的第三和第四辐射之间的干涉信号。 第一和/或第二电磁辐射可具有以至少100THz /毫秒的调节速度随时间基本上连续变化的中心频谱。

公开(公告)号：KR101191377B1

公开(公告)日：2012-10-15

申请号：KR1020080131596

申请日：2008-12-22

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상국 ,  강광용 ,  백문철 ,  곽민환 ,  강승범

IPC: H04B10/11 ,  H04B10/40 ,  G02B27/30

CPC classification number: G01J3/108 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  Y10T29/49826

Abstract: 본 발명은 테라헤르츠파 송수신 모듈 패키지 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 실리콘 볼렌즈, 광전도 안테나 및 집속 렌즈를 간단하게 정렬시켜 하나의 완전하고 독립된 테라헤르츠파 송수신 모듈 패키지를 구현함으로써, 테라헤르츠파를 용이하게 발생시키거나 측정할 수 있는 것을 특징으로 한다. 따라서 본 발명에 따르면, 테라헤르츠파 발생 및 측정 시스템의 구축에 소요되는 시간 및 비용을 획기적으로 감소시킬 수 있으며, 테라헤르츠파 발생 및 측정 시스템의 단순화 및 소형화를 도모할 수 있다. 또한, 광전도 안테나에서 발생된 테라헤르츠파의 특성을 간단하게 측정할 수 있다. 게다가, 상부 및 하부 덮개에 의해 광전도 안테나, 실리콘 볼렌즈 및 집속 렌즈의 정렬 상태를 그대로 유지하면서 보존 및 운반이 가능하여 안정성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라, 외부 환경에 의해 테라헤르츠파 소자가 오염되는 것을 최소화할 수 있다.
테라헤르츠파, 광전도 안테나, 실리콘 볼렌즈, 정렬

公开(公告)号：KR1020120041206A

公开(公告)日：2012-04-30

申请号：KR1020127002549

申请日：2010-08-11

Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

Inventor： 시바야마가츠미 ,  요키노다카후미

IPC: G01J3/18 ,  G01J3/02 ,  G02B5/18 ,  G01J3/28

CPC classification number: G01J3/18 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0259 ,  G01J3/2803 ,  G02B5/1814 ,  G02B5/1852 ,  G02B5/1861

Abstract: 분광 모듈(1)에서는, 회절층(6) 보다도 두꺼워지도록 회절층(6)의 둘레(6a)를 따라서 칼라(collar)부(7)가 일체로 형성되어 있다. 이것에 의해, 마스터 몰드를 이용하여 회절층(6) 및 칼라부(7)를 형성하는 경우의 이형시에, 렌즈부(3)의 볼록한 모양의 곡면(3a)을 따르도록 형성된 회절층(6)이 마스터 몰드에 딸려 가게되어 곡면(3a)으로부터 박리하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 회절층(6)의 중심(中心)에 대해서 소정 측으로 편향되도록 회절 격자 패턴(9)이 형성되어 있다. 이것에 의해, 회절층(6)의 소정 측에 대해서 그 반대측을 선행시키도록 이형을 실시함으로써, 회절층(6)이 박리하거나 회절 격자 패턴(9)이 손상하거나 하는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020110011593A

公开(公告)日：2011-02-08

申请号：KR1020107015307

申请日：2009-05-07

Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

Inventor： 시바야마가츠미

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/18 ,  G02B7/00

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0243 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/18 ,  G01J3/2803 ,  G02B5/1814 ,  G02B5/1861 ,  G02B7/008

Abstract: 분광(分光)모듈(1)에서는 광검출소자(5)가 중간기판(81)에 실장(實裝)되어 있기 때문에, 기판(2)의 전면(2a)과 중간기판(81)과의 사이에 개재시킨 광학수지제(63)가 광검출소자(5)의 광통과구멍(50) 내에 진입하는 것이 방지된다. 따라서, 굴절이나 산란 등의 발생을 방지하여 기판(2) 및 분광부(4)에 광(L1)을 적절히 입사시킬 수 있다. 게다가, 중간기판(81)의 체적이 기판(2)의 체적보다도 작게 되어 있기 때문에, 중간기판(81)은 분광모듈(1)의 환경온도가 변화했을 때에 기판(2)보다도 광검출소자(5)에 가까운 상태에서 팽창·수축하게 된다. 따라서, 분광모듈(1)의 환경온도의 변화에 기인하여 광검출소자(5)의 범프(bump)접속이 파단되는 것을 광검출소자(5)가 기판(2)에 실장되는 경우에 비해 확실히 방지할 수 있다.