백금전극을 내장한 감이온 전계효과 트랜지스터를 이용한 바이오센서

    公开(公告)号:KR1019940018063A

    公开(公告)日:1994-08-16

    申请号:KR1019930000492

    申请日:1993-01-15

    Inventor: 손병기

    Abstract: 본 발명은 바이오센서로서 소오스와 게이트 및 드레인을 구비한 감이온 전계효과 트랜지스터(Ion-Sensitive Field-Effact Transistor)에 있어서, 상기 게이트상에 이온감지막을 형성하고, 이온감지막상에 백금전극을 형성함과 더불어 효소고정화막을 형성하여 응답이 크면서도 응답속도가 빠르고, 효소반응에서 H
    2 O
    2 를 발생시키는 모든 생체관련물질을 감지할 수 있는 백금전극을 내장한 감이온 전계효과 트랜지스터를 이용한 바이오센서이다.

    감이온 전계효과 트랜지스터 pH센서를 이용한 이온센서 및 그 제조방법
    42.
    发明授权

    公开(公告)号:KR100163405B1

    公开(公告)日:1999-03-30

    申请号:KR1019960004671

    申请日:1996-02-26

    Abstract: 본 발명은 이온센서 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 실리콘기판(1)과 소스(2), 드레인(3), 실리콘산화막(4), 실리콘질화막(5), 알루미늄금속전극(6) 및 이온감지막(7)으로 구성된 전계효과 트랜지스터형 이온센서에 있어서, 이온감지막(7)이 친유성 고분자박막(11) 위에 감지물질을 포함한 친수성 고분자 감지막(12)을 형성시켜 이중막 구조를 갖도록 한 구성으로, 낮은 감도 및 수용액 내에 측정대상 이온만큼 존재하는 수소이온에 대한 감응을 감이온 전계효과 트랜지스터 pH센서(pH-ISFET)바탕소자 위에 친유성의 고분자로 절연 방수막을 형성하여 방지하였을 뿐만 아니라 친수성인 고분자를 외부의 감지막으로 사용함으로서 수용액인 피측정액의 확산속도를 증가시켜 감응시간을 단축함과 더불어 감도를 향상시킬 수 있는 장점이 있는 감이온 전계효과 트랜� �스터 pH센서를 이용한 이온센서 및 그 제조방법이다.

    압력센서 및 그 제조방법
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1019990009349A

    公开(公告)日:1999-02-05

    申请号:KR1019970031722

    申请日:1997-07-09

    Inventor: 최시영 황정훈

    Abstract: 압력센서 및 그 제작방법에 대해 기술된다. 압력센서는 다이어프램과; 상기 다이아프램에 형성되는 압저항부들과; 상기 다이아프램 상에 형성되어 상기 압저항부들을 전기적으로 연결하는 신호선과; 상기 다이아프램의 하부 가장자리에 형성되는 소정 높이의 프레임를; 구비하고 상기 프레임에 의해 마련된 상기 다이아프램의 하부측 공동부를 폐쇄하는 밀폐부가 마련되어 있다. 이러한 압력센서는 다이아프램의 물리적 변화에 의한 프레임의 변형을 억제할 수 있어서 보다 정밀한 압력의 측정이 가능하고, 프레임에 고정된 밀폐가 다이아프램의 손상에 의한 가스누출을 2차적으로 방지한다.

    전계효과 트랜지스터형 용존 이산화탄소 센서의 제조방법
    44.
    发明公开
    전계효과 트랜지스터형 용존 이산화탄소 센서의 제조방법 失效
    制造场效应晶体管型溶解二氧化碳传感器的方法

    公开(公告)号:KR1019980067489A

    公开(公告)日:1998-10-15

    申请号:KR1019970003543

    申请日:1997-02-05

    Abstract: 본 발명은 반도체소자 제조공정을 통하여 제조되는 전계효과 트랜지스터 pH센서에 관한 것으로, 특히 pH센서를 이용하여 수용액이나 혈액중의 용존 이산화탄소 분압을 측정하기 위한 전계효과 트랜지스터형 용존 이산화탄소 분압센서의 제조방법에 관한 것이다.
    본 발명의 특징은 실리콘기판(1), 소스영역(2), 드레인영역(3), 산화실리콘층(4), 질화실리콘 pH감지층(5), 알루미늄 금속전극(6), 기준전극(7), 수화젤막(8) 및 가스투과막(9)으로 구성된 FET형 이산화탄소 센서에서 광 중합형 감광성 고분자를 사용하여 수화젤막과 기체투과막을 형성할 때, 감광용액에 산소감쇄제를 넣어줌으로써 산소에 의한 중합금지 작용을 방지시켜 이들이 이중막 구조를 갖도록 하고, 상기 수화젤막은 친수성이 큰 아크릴아미드와 패턴형성특성이 우수한 하이드록시에틸 메타크릴레이트(HEMA)을 동시에 사용하여 형성한다는데 있다.
    본 발명에 의해 제조되는 이산화탄소 분압센서는 기존의 마일러 필름의 사용으로 인한 감지막에의 핀홀 발생문제 및 불규칙 표면 발생문제를 해결할 수 있고 또한 감지막의 두께 조절도 용이한 장점이 있게 된다.

    다공질실리콘을 이용한 반도체 장치의 제조방법
    45.
    发明授权
    다공질실리콘을 이용한 반도체 장치의 제조방법 失效
    使用多孔硅制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:KR100155141B1

    公开(公告)日:1998-10-15

    申请号:KR1019940032959

    申请日:1994-12-06

    Inventor: 이종현

    Abstract: 본 발명의 다공질실리콘을 이용한 실리콘 다이아프램의 제조방법은 N형 실리콘기판을 제조하는 단계와: 상기 실리콘 기판에 n
    + 불순물을 확산시켜 상기 기판의 소정의 부분에 n
    + 확산영역을 형성하는 단계와: n
    + 형 실리콘 에피택셜층을 성장시키는 단계와: 상기 n
    + 형 실리콘 에피택셜층에 통공(through-hole)을 형성하여 상기 n
    + 확산영역중 소정부분을 노출시키는 단계와: 불산(HF)용액에서 양극반응을 수행하여 상기 n
    + 확산영역을 다공질실리콘층으로 만드는 단계와: 상기 다공질실리콘층을 에칭하여 에어-갭을 형성하는 단계 및 상기 통공을 밀봉하는 단계를 포함한다.

    실리콘 가속도 센서의 제조방법
    46.
    发明授权
    실리콘 가속도 센서의 제조방법 失效
    硅加速传感器制造方法

    公开(公告)号:KR100155140B1

    公开(公告)日:1998-10-15

    申请号:KR1019940008000

    申请日:1994-04-16

    Inventor: 최시영 손병복

    Abstract: 본 발명은 실리콘 가속 센서의 제조 방법에 관한 것으로서 메스(Mass)의 모서리에 언더컷이 발생하는 것을 억제할 수 있는 실리콘 가속도 센서의 제조 방법에 관한 것이다.
    본 발명의 제조 방법은 마스크 패턴에, 메스의 높이를 C로 했을 때, 메스의 각변이 일치하는 네 귀퉁이의 모서리 점에 각 변의 폭이 메스 높이의 두배의 폭을 가지는 사각형의 보상 패턴을 그 중점을 C에 대해 10퍼센트 이내의 범위 내에서 상기 모서리 점에 일치시키고, 상기 보상 패턴의 각 변의 폭을 2C로 결정하도록 한다.
    이러한 본 발명에 의하면, 목적하는 형태 메스를 성공적으로 형성할 수 있게 된다.

    폴리이미드 마스킹을 이용한 다공질실리콘 마이크로머시닝방법

    公开(公告)号:KR1019970063514A

    公开(公告)日:1997-09-12

    申请号:KR1019960004670

    申请日:1996-02-26

    Inventor: 이종현 심준환

    Abstract: 본 발명은 미세구조물을 제조하는 마이크로머시닝 방법에 관한 것으로, n형실리콘기판(1)을 세척하여 실리콘 산화막(2) (2')를 성장시키고 실리콘 산화막(2)을 선택적으로 식각하여 n
    + 확산창(3)을 열고 P
    0 Cl
    3 를 주입확산시켜 n
    + 확산영역(4)을 형성한 다음 실리콘 산화막(2)을 제거하고 n형실리콘에 피택셜층(5)을 성장시키는 단계와; 상기 n형실리콘에피택셜층(5)에 신호처리회로 및 변환소자부(6)를 형성한 후 버퍼산화막(7)과 질화막(8)을 순차 증착하고 소자의 접촉부를 정의하고 난 다음 Au/Ni-Cr막(9)을 증착하여 금속패턴을 정의하는 금속화 공정 단계와; 금속화공정이 끝난 기판위에 폴리이미드(10)를 도포하고 폴리이미드(10)를 부분적으로 선택식각하여 패턴을 정의하고 난 후 습식식각 또는 건식식각법으로 상기 n형실리콘에피택셜층 (5)을 식각하여 n
    + 확산영역(4)을 노출시키는 단계와; 고농도 HF 용액에서 정전류 또는 정전압원으로 양극반응시켜 상기 n
    + 확산영역(4)을 다공질실리콘층(11)으로 만들고, 다공질실리콘층(11)을 NaOH용액에서 식각하여 동공(12;cavity)를 형성 하고 상기 폴리이미드(10)를 제거하는 단계로 이루어져 고온의 열처리를 필요로하지 않으며, HF용액 속에서 양극반응시 화학적 및 전기적 절연특성이 우수한 폴리이미드 마스킹을 이용함으로써 신호처리회로 및 변환 소자부를 보호할 수 있을 뿐만아니라 정교한 미세구조물을 용이하게 제조할 수 있는 폴리이미드 마스킹을 이용한 다공질실리콘 마이크로머시닝 방법.

    자기감도상쇄용 가산회로를 구비한 가속도센서
    48.
    发明公开
    자기감도상쇄용 가산회로를 구비한 가속도센서 失效
    加速度传感器,具有用于磁性灵敏度取消的附加电路

    公开(公告)号:KR1019970062697A

    公开(公告)日:1997-09-12

    申请号:KR1019960004672

    申请日:1996-02-26

    Inventor: 이종현

    Abstract: 본 발명은 가속도센서에 관한 것으로서, 압저항들과 고정저항들 및 가산기로 이루어진 제1~4브릿지회로부(1~4)를 각각 구성하고, 제1~4브릿지회로부(1~4)의 출력단을 서로 연결하여 가산회로(5)에다 연결한 구성으로 기존 가속도센서의 설계 및 제조공정의 변경없이 가산회로를 구비하여 브릿지회로에서 나오는 응답을 가산회로로 합함으로서 각 브릿지에서 나오는 타축감도를 상쇄시키고, 브릿지 수에 따른 강도의 감소를 보상해 주게되므로 가속도센서의 감도특성이 우수하고 정확한 감지효과를 얻을 수 있는 자기감도상쇄용 가산회로를 구비한 가속도센서이다.

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