公开(公告)号：KR1020080106333A

公开(公告)日：2008-12-04

申请号：KR1020087024431

申请日：2007-04-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도바시가즈야 ,  하야시데루유키 ,  다무라아키타케

IPC: B01D46/52 ,  H01L21/02

CPC classification number: B01D46/521 ,  B01D46/0023

Abstract: A gas purifying apparatus for removing particles from a gas is characterized in that the apparatus is provided with a first filter layer and a second filter layer, and the diameter of a fiber constituting the first filter layer is larger than that of a fiber constituting the second filter layer. A semiconductor manufacturing apparatus using such gas purifying apparatus is also provided. ® KIPO & WIPO 2009

Abstract translation: 用于从气体中除去颗粒的气体净化装置的特征在于，该装置设置有第一过滤层和第二过滤层，构成第一过滤层的纤维的直径大于构成第二过滤层的纤维的直径 过滤层。 还提供了使用这种气体净化装置的半导体制造装置。 ®KIPO＆WIPO 2009

公开(公告)号：KR1020080102210A

公开(公告)日：2008-11-24

申请号：KR1020087022798

申请日：2007-06-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도바시가즈야 ,  가와무라시게루 ,  츠기타고헤이 ,  하야시데루유키

IPC: H01L21/66 ,  G01N21/33

CPC classification number: H01L21/67207 ,  G01N21/3103 ,  G01N21/68 ,  H01J49/0463

Abstract: An analyzing apparatus is provided with a first processing section for removing a film formed on a substrate by applying ultraviolet; a second processing section for dissolving a material to be analyzed on the substrate by supplying the surface of the substrate with a dissolving solution; and a third processing section for analyzing the material to be analyzed in the dissolving solution used in the second process.

Abstract translation: 分析装置设置有第一处理部，用于通过施加紫外线去除在基板上形成的膜; 第二处理部，通过向基板的表面供给溶解液，将待分析材料溶解在基板上; 以及第三处理部，用于分析在第二工序中使用的溶解液中待分析的材料。

公开(公告)号：KR1020080015477A

公开(公告)日：2008-02-19

申请号：KR1020077030760

申请日：2006-11-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다무라아키타케 ,  도바시가즈야 ,  하야시데루유키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B01D61/44 ,  B08B3/04 ,  B08B3/14 ,  H01L21/67057

Abstract: A cleaning apparatus (100) which includes a cleaning tank (110) in which a chemical liquid (112) is stored so that a work to be cleaned (W) can be immersed therein and cleaned. A reduction member (200) for reducing the content of a metallic ingredient in the chemical liquid (112) is disposed outside the cleaning tank (110). A circulation system (120) including a circulation passage (122) is disposed so that the chemical liquid (112) is circulated through the cleaning tank (110) and the reduction member (200).

Abstract translation: 一种清洁设备（100），其包括其中存储有化学液体（112）的清洁罐（110），使得可以将待清洁的工件（W）浸入其中并进行清洁。 用于减少化学液体（112）中的金属成分含量的还原构件（200）设置在清洗槽（110）的外部。 包括循环通道（122）的循环系统（120）被设置成使得化学液体（112）循环通过清洗槽（110）和还原构件（200）。

公开(公告)号：KR100743299B1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：KR1020057000125

申请日：2003-07-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신리키히로시 ,  도바시가즈야 ,  스즈키미키오 ,  마가라다카시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: C23C16/4405

Abstract: 기판 처리 장치의 클리닝공정에 있어서, 내부챔버와 내부챔버를 수용한 외부챔버와의 사이의 공간의 진공배기가 실행된다. 내부챔버의 온도를 기판의 처리시에 있어서의 내부챔버의 온도보다 높이고, 기판지지부재의 온도보다 낮게 한다. 그 후, 내부챔버내에 헥사플루오로 아세틸 아세톤(Hhfac)을 포함하는 클리닝 가스를 공급하여 내부챔버내에 부착되어 있는 피클리닝물질을 제거한다.

公开(公告)号：KR1020050013668A

公开(公告)日：2005-02-04

申请号：KR1020057000125

申请日：2003-07-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신리키히로시 ,  도바시가즈야 ,  스즈키미키오 ,  마가라다카시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: C23C16/4405

Abstract: 기판 처리 장치의 클리닝공정에 있어서, 내부챔버와 내부챔버를 수용한 외부챔버와의 사이의 공간의 진공배기가 실행된다. 내부챔버의 온도를 기판의 처리시에 있어서의 내부챔버의 온도보다 높이고, 기판지지부재의 온도보다 낮게 한다. 그 후, 내부챔버내에 헥사플루오로 아세틸 아세톤(Hhfac)을 포함하는 클리닝 가스를 공급하여 내부챔버내에 부착되어 있는 피클리닝물질을 제거한다.