公开(公告)号：KR1020130101464A

公开(公告)日：2013-09-13

申请号：KR1020130021175

申请日：2013-02-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오츠카다카히사 ,  마루야마히로타카 ,  오가타노부히로 ,  구도가즈유키

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/306

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A liquid processing device, a liquid processing method, and a storage medium are provided to prevent the adsorption of vapor or mist by using a first nozzle and a second nozzle. CONSTITUTION: A first processing liquid supply part includes a first nozzle block (42). The first processing solution supply part includes a first transport device. A second processing liquid supply part includes a second nozzle block (52). The second processing liquid supply part includes a second transport device. The second processing liquid supply part converts and supplies an alkaline chemical and a rinsing solution. [Reference numerals] (7) Control unit

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以通过使用第一喷嘴和第二喷嘴来防止蒸汽或雾气的吸附。 构成：第一处理液体供应部分包括第一喷嘴块（42）。 第一处理溶液供应部分包括第一输送装置。 第二处理液体供应部分包括第二喷嘴块（52）。 第二处理液供给部包括第二输送装置。 第二处理液供给部转换并供给碱性化学品和漂洗溶液。 （附图标记）（7）控制单元

公开(公告)号：KR101239020B1

公开(公告)日：2013-03-04

申请号：KR1020070106677

申请日：2007-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마츠네나가 ,  이와오고우이치 ,  키시타나오후미 ,  오가타노부히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/162 ,  Y10T137/0402

Abstract: 본 발명은 액처리장치, 컵체의 착탈방법 및 기억매체에 관한 것으로서, 웨이퍼 (W)에 대해서 예를 들면 레지스트액 등의 처리액을 도포하는 도포 유니트 등에 적용되는 액처리 장치에 적용되는 액처리 장치 (1)에 있어서, 컵체 유지부 (3)은 처리액의 비산을 억제하기 위한 통형상의 컵체 (2)를 유지하고, 모터·실린더 기구 (4)는 장착 위치에서 컵체 (2)를 유지하는 제1의 위치와, 제 1의 위치의 대략 수직 윗쪽으로서 다른 기기와 간섭하지 않고 반출입 가능한 위치에서 컵체 (2)를 유지하는 제2의 위치의 사이에 컵체 유지부 (3)을 승강시키는 기판의 표면에 공급 노즐로부터 처리액을 공급해 액처리를 실시하는 액처리 장치에 있어서 액처리 장치에 장착되는 컵체의 탈착이 용이한 액처리 장치 등을 제공하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101215705B1

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：KR1020090021168

申请日：2009-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  오바타고이치 ,  이나다히로이치 ,  오가타노부히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6838

Abstract: 액막형성기구는, 기판이면의주연부에대향한대향면부(51)와대향면부에처리액을공급하는처리액공급부(52A)를갖는다. 또한, 도포장치는회전하는기판의주연부의상하흔들림을억제하기위해, 기판유지부(21)의주위에배치된자세제어기구(6)를구비한다. 자세제어기구는, 주연부보다도내측의영역에가스를토출하는토출구멍(62A)을기판의회전방향을따라갖는다.

公开(公告)号：KR1020120068666A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：KR1020110041924

申请日：2011-05-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가타노부히로 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: PURPOSE: A substrate liquid processing device is provided to suppress the generation of corpuscles by preventing processing liquid scattered from a substrate from being attached to the substrate again. CONSTITUTION: A rotation driving unit rotates a substrate holding unit(12). A processing solution supply unit supplies processing liquid to the substrate on the substrate holding unit. A guide rotating cup(21) rotates with the substrate holding unit and guides the processing liquid scattered from the rotating substrate. A guide cup(31) downwardly guides the processing liquid guided by the guide rotating cup.

Abstract translation: 目的：提供一种基板液体处理装置，用于通过防止从基板散射的处理液体再次附着于基板来抑制微粒的产生。 构成：旋转驱动单元旋转基板保持单元（12）。 处理液供给单元向基板保持单元的基板供给处理液。 引导旋转杯（21）与衬底保持单元一起旋转并引导从旋转衬底散射的处理液体。 引导杯（31）向下引导由导向旋转杯引导的处理液。

公开(公告)号：KR1020090118825A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：KR1020090019842

申请日：2009-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  오바타고이치 ,  이나다히로이치 ,  오가타노부히로

IPC: B05C11/08 ,  H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/709

Abstract: PURPOSE: A coating apparatus and a coating method therefore are provided to ensure stability of thickness profile of a coating film when a coating film is formed on the substrate through a spin coating method. CONSTITUTION: A coating apparatus includes a driving unit(12) configured to rotate a substrate holding member(11) about a vertical axis to spread a coating liquid supplied on a front side central portion of a substrate(W) toward a front side peripheral portion of the substrate by a centrifugal force. The apparatus is provided with a wobble damping mechanism(50) including a gas delivery port and a suction port both disposed to face a back side of the substrate and configured to damp a wobble of the substrate being rotated by delivering a gas from the delivery port and sucking the gas into the suction port.

Abstract translation: 目的：提供涂布装置和涂布方法，以通过旋涂法在基材上形成涂膜时确保涂膜的厚度分布的稳定性。 构成：涂布装置包括驱动单元（12），其构造成使基板保持构件（11）绕垂直轴线旋转，以将供给到基板（W）的前侧中央部的涂布液朝向前侧周边部 的离心力。 该装置设置有摆动阻尼机构（50），该摆动阻尼机构（50）包括气体输送口和吸入口，两者设置成面对基板的背面，并且构造成通过从输送口输送气体来抑制正在旋转的基板的摆动 并将气体吸入吸入口。