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公开(公告)号：KR1020160064923A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：KR1020150010030
申请日：2015-01-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , H01L21/033 , G03F1/66
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F1/66 , H01L21/0332
Abstract: 본발명은펠리클및 이를포함하는노광마스크에관한것으로서, 보다구체적으로는, 포토마스크기판의소정영역을둘러쌀수 있는펠리클프레임; 상기펠리클프레임의, 상기포토마스크기판과마주하는일면에형성된부착부재(attaching element); 및상기펠리클프레임의타면에형성된펠리클멤브레인를포함하고, 상기부착부재는상기포토마스크기판을향하는쪽의표면에음압생성이가능한 1차구조를갖는펠리클이제공된다. 본발명의기술적사상에따른펠리클을이용하면노광마스크로부터탈착한후에도잔사물이남지않아마스크패턴을손상시킬수 있는케미컬들을사용할필요가없고, 또한펠리클을재활용하는것이가능하여공정비용을감소시킬수 있는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种防护薄膜组件及其制造方法。 更具体地说，防护薄膜组件包括：遮蔽光掩模基板的特定区域的防护薄膜框架; 形成在面对防护薄膜组件框架的光掩模基板的一个表面上的附接元件; 以及形成在防护薄膜组件框架的另一个表面上的防护薄膜组件。 连接元件具有能够朝向光掩模基板产生声压的一次结构。 根据本发明，当使用防护薄膜组件时，即使在从曝光掩模中除去防护薄膜之后，残留物也不会残留。 因此，不需要使用可能损害掩模图案的化学品，并且可以重新使用防护薄膜，从而降低加工成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160057217A
公开(公告)日：2016-05-23
申请号：KR1020140158190
申请日：2014-11-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , G03F1/62 , H01L21/205
CPC classification number: G03F1/62 , G03F1/64 , H01L21/0274
Abstract: 기판을준비하고, 상기기판상에 CVD 공정을수행하여멤브레인을형성하고, 제1 용매내에서상기기판상으로부터상기멤브레인을분리하고, 제2 용매내에서상기분리된멤브레인을린스하고, 및제3 용매내에서상기분리된멤브레인을프레임상으로전사하는것을포함하는펠리클제조방법이설명된다.
Abstract translation: 描述了一种制造具有石墨层的防护薄膜的方法，其包括：制备基底; 通过在基板上进行CVD工艺来形成膜; 在第一溶剂中将膜与基底分离; 在第二溶剂中冲洗分离的膜; 并将分离的膜转移到第三溶剂中的框架上。 因此，可以提供用于极紫外光照相法的防护薄膜组件。
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公开(公告)号：KR1020150100113A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：KR1020140021485
申请日：2014-02-24
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F17/30262 , G06F17/30589 , G06K9/00697 , G06T5/00 , G06T7/11 , G06T2207/30201
Abstract: 영상 처리 장치 및 이의 영상 처리 방법이 제공된다. 본 영상 처리 장치의 영상 처리 방법은 오브젝트의 텍스쳐(texture) 특성에 따라 입력된 영상으로부터 적어도 하나의 텍스쳐 영역을 추출하고, 적어도 하나의 텍스쳐 영역 각각을 상기 텍스쳐 영역에 대응되는 영상 설정값으로 처리하며, 영상 설정값으로 처리된 텍스쳐 영역을 병합하여 하나의 영상으로 출력한다.
Abstract translation: 提供了一种图像处理装置及其图像处理方法。 根据本发明，图像处理方法包括以下步骤：从根据对象的纹理特征输入的图像中提取至少一个纹理区域; 用对应于纹理区域的图像设置值处理每个纹理区域; 并且将处理的纹理区域与图像设置值合并以将其作为一个图像输出。
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公开(公告)号：KR1020150047934A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：KR1020130128026
申请日：2013-10-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N5/335
CPC classification number: H04N5/3575 , H04N5/365 , H04N5/378
Abstract: 큰배경(background) 신호, 혹은긴 센싱타임(sensing time) 동안배경신호가축적되는환경에서도원하는신호를감지할수 있도록, 픽셀어레이의임의의픽셀에서소정의시간마다감지된두 신호의차이신호를디지털신호로변환하여축적하는배경신호를제거하는센서및 배경신호를제거하는방법을개시한다.
Abstract translation: 本发明提供了一种用于抑制背景信号的传感器和方法，该背景信号将在像素阵列的任何像素处的每个固定小时感测到的两个信号之间的信号差转换为数字信号，并将其积累用于感测大背景 信号或期望的信号在长的感测时间期间累积的背景信号的环境中。
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公开(公告)号：KR1020140050936A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：KR1020120117361
申请日：2012-10-22
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: The present invention provides a photomask and a manufacturing method of the same. The photomask can minimize the change of CD on a light shielding pattern by not damaging the light shielding pattern in a washing process using ammonia water using an etching prevention film covering a side wall of the light shielding pattern. The photomask comprises: a transparent substrate; the light shielding pattern located on the transparent substrate, and at least containing molybdenum and silicon; and the etching prevention film covering at least the side surface of the light shielding pattern.
Abstract translation: 本发明提供一种光掩模及其制造方法。 光掩模可以通过使用覆盖遮光图案的侧壁的防蚀膜在使用氨水的洗涤过程中不损害遮光图案来最小化遮光图案上的CD的变化。 光掩模包括：透明基板; 所述遮光图案位于所述透明基板上，并且至少含有钼和硅; 以及至少覆盖遮光图案的侧面的防蚀膜。
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公开(公告)号：KR100834827B1
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：KR1020060113152
申请日：2006-11-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: B08B3/04 , G03F1/82 , H01L21/67051
Abstract: 본 발명은 생산수율을 증대 또는 극대화할 수 있는 포토 마스크 세정장치 및 그의 세정방법을 개시한다. 그의 장치는, 포토 마스크를 지지하는 스테이지; 상기 포토 마스크 상에 유발되는 오염물질을 제거하기 위한 세정 유체를 소정의 압력으로 공급하는 세정 유체 공급부; 상기 세정 유체 공급부에서 공급되는 상기 세정 유체를 소정의 압력으로 흡입하는 세정 유체 흡입부; 및 상기 세정 유체 공급부에서 상기 스테이지 상부의 상기 포토 마스크 표면을 거쳐 상기 세정 유체 흡입부까지 상기 세정 유체가 유동되는 통로를 제공하며, 상기 포토 마스크표면에 인접하는 부분이 개구되는 개방구를 통해 상기 세정 유체를 상기 포토 마스크의 표면에 노출시키면서 상기 오염물질을 세정하도록 형성된 오염물질 제거 튜브를 포함함에 의해 포토 마스크를 국부적으로 세정토록 하여 생산수율을 향상시킬 수 있다.
세정(cleaning), 공급, 흡입, 오염물질, 튜브(tube)
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